CN114210646B - 一种电子元器件生产加工用清洗设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种清洗设备，尤其涉及一种电子元器件生产加工用清洗设备。本发明的目的是提供一种不会浪费水资源，且清洗彻底的电子元器件生产加工用清洗设备。技术方案：一种电子元器件生产加工用清洗设备，包括有支撑脚、清洗仓、干燥仓、滑盖、爬梯、清洗机构和承载机构，清洗仓一侧设有干燥仓，干燥仓上对称设有支撑脚，干燥仓上滑动式设有滑盖，干燥仓一侧设有爬梯，清洗仓上设有清洗机构，清洗机构部件上设有承载机构。本发明通过清洗机构、承载机构与筛动机构之间的配合，使得本设备的清洗效率得以提高，且电子元器件清洗的更加彻底。

Description

一种电子元器件生产加工用清洗设备

技术领域

本发明涉及一种清洗设备，尤其涉及一种电子元器件生产加工用清洗设备。

背景技术

电子元器件在生产加工时，会经过切割、打磨、焊接等操作，因此电子元器件的表面会残留一些杂污，在加工生产之后需要对其进行清洗，从而去除其表面的毛刺和碎屑，现有的电子元器件清洗装置大多是对电子元器件进行冲洗，然而冲洗方式不仅浪费水资源，同时对于一些粘附在电子元器件表面的碎屑无法做到清洗彻底，影响电子元器件的质量。

因此，需研发一种不会浪费水资源，且清洗彻底的电子元器件生产加工用清洗设备。

发明内容

为了克服现有的冲洗方式不仅浪费水资源，且无法做到清洗彻底的缺点，本发明的目的是提供一种不会浪费水资源，且清洗彻底的电子元器件生产加工用清洗设备。

技术方案：一种电子元器件生产加工用清洗设备，包括有：

支撑脚、清洗仓、干燥仓、滑盖、爬梯、清洗机构和承载机构，清洗仓一侧设有干燥仓，干燥仓上对称设有支撑脚，干燥仓上滑动式设有滑盖，干燥仓一侧设有爬梯，清洗仓上设有清洗机构，清洗机构部件上设有承载机构。

此外，特别优选的是，清洗机构包括有水箱、进水口、水泵、出水管、高压喷头和触发开关，清洗仓上设有水箱，水箱与清洗仓一侧之间设有进水口，水箱上设有水泵，水泵上对称设有出水管，出水管均与清洗仓一侧连接，出水管上均设有高压喷头，清洗仓上设有触发开关。

此外，特别优选的是，承载机构包括有第一电动推杆、衔接连板、第一限位板、湿度传感器、存放箱和第一距离传感器，清洗仓上对称设有第一电动推杆，第一电动推杆伸缩杆上均设有衔接连板，衔接连板上均滑动式设有第一限位板，第一限位板均与同侧的衔接连板之间连接有两个弹性件，清洗仓上设有湿度传感器，第一限位板一侧之间滑动式放置有存放箱，一侧的衔接连板上设有第一距离传感器。

此外，特别优选的是，还包括有筛动机构，筛动机构包括有安装板和齿条板，清洗仓一侧设有安装板，安装板两侧均与同侧的第一电动推杆滑动式连接，安装板一侧设有齿条板。

此外，特别优选的是，还包括有污水处理机构，污水处理机构包括有第二限位板、漏斗和过滤板，安装板三侧均设有第二限位板，安装板上设有漏斗，第二限位板之间放置有过滤板。

此外，特别优选的是，还包括有拉动机构，拉动机构包括有磁石、支板、第二电动推杆、连杆、电磁铁和第二距离传感器，存放箱上对称设有磁石，干燥仓上设有支板，支板上设有第二电动推杆，第二电动推杆伸缩杆一侧设有连杆，连杆上对称设有电磁铁，连杆上设有第二距离传感器。

此外，特别优选的是，还包括有烘干机构，烘干机构包括有导轨、挡块和发热环，干燥仓上对称设有导轨，干燥仓上设有挡块，干燥仓一侧设有发热环，发热环位于导轨之间。

此外，特别优选的是，还包括有控制箱，清洗仓一侧设有控制箱，控制箱包括有开关电源、电源模块和控制模块，开关电源为整个设备供电，开关电源输出端与电源模块通过电性连接，电源模块上通过线路连接有电源总开关，电源模块与控制模块通过电性连接；控制模块上连接有DS1302时钟电路和24C02电路；湿度传感器、触发开关、第一距离传感器和第二距离传感器都与控制模块通过电性连接，水泵、第一电动推杆、第二电动推杆、电磁铁和发热环都与控制模块通过继电器控制模块连接。

有益效果：1、本发明通过清洗机构、承载机构与筛动机构之间的配合，使得本设备的清洗效率得以提高，且电子元器件清洗的更加彻底。

2、通过设有污水处理机构，使得电子元器件上的杂质可以得到集中清理。

3、通过设有烘干机构，使得电子元器件在清洗完毕后，无需自行晾干，可以提高工作效率。

附图说明

图1为本发明的立体结构示意图。

图2为本发明的剖视立体结构示意图。

图3为本发明的清洗机构立体结构示意图。

图4为本发明的承载机构第一种立体结构示意图。

图5为本发明的承载机构第二种立体结构示意图。

图6为本发明A的放大图。

图7为本发明的筛动机构立体结构示意图。

图8为本发明的污水处理机构立体结构示意图。

图9为本发明的拉动机构第一种立体结构示意图。

图10为本发明的拉动机构第二种立体结构示意图。

图11为本发明的烘干机构第一种立体结构示意图。

图12为本发明的烘干机构第二种立体结构示意图。

图13为本发明的电路框图。

图14为本发明的电路原理图。

其中，上述附图包括以下附图标记：1、支撑脚，2、清洗仓，3、控制箱，4、干燥仓，5、滑盖，6、爬梯，7、清洗机构，71、水箱，72、进水口，73、水泵，74、出水管，75、高压喷头，76、触发开关，8、承载机构，81、第一电动推杆，82、衔接连板，83、第一限位板，84、湿度传感器，85、存放箱，86、第一距离传感器，9、筛动机构，91、安装板，92、齿条板，10、污水处理机构，101、第二限位板，102、漏斗，103、过滤板，11、拉动机构，1101、磁石，1102、支板，1103、第二电动推杆，1104、连杆，1105、电磁铁，1106、第二距离传感器，12、烘干机构，1201、导轨，1202、挡块，1203、发热环。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1

一种电子元器件生产加工用清洗设备，如图1、图2、图3、图4、图5和图6所示，包括有支撑脚1、清洗仓2、干燥仓4、滑盖5、爬梯6、清洗机构7和承载机构8，清洗仓2左上侧设有干燥仓4，干燥仓4底部左侧前后对称设有支撑脚1，干燥仓4顶部滑动式设有滑盖5，干燥仓4前侧设有爬梯6，清洗仓2内部设有清洗机构7，清洗机构7部件上设有承载机构8。

清洗机构7包括有水箱71、进水口72、水泵73、出水管74、高压喷头75和触发开关76，清洗仓2内底部设有水箱71，水箱71右上侧与清洗仓2右下侧之间设有进水口72，水箱71内底部中间设有水泵73，水泵73右侧前后对称设有出水管74，出水管74均与清洗仓2内部右侧连接，出水管74上部均设有高压喷头75，清洗仓2顶部设有触发开关76。

承载机构8包括有第一电动推杆81、衔接连板82、第一限位板83、湿度传感器84、存放箱85和第一距离传感器86，清洗仓2内部下侧前后对称设有第一电动推杆81，第一电动推杆81伸缩杆上部均设有衔接连板82，衔接连板82内侧均滑动式设有第一限位板83，第一限位板83均与同侧的衔接连板82之间连接有两个弹性件，清洗仓2内顶部设有湿度传感器84，第一限位板83内侧之间滑动式放置有存放箱85，后侧的衔接连板82底部设有第一距离传感器86。

人们按下电源总开关，将本设备上电，人们借助爬梯6爬上干燥仓4，手动将滑盖5打开，将生产好的电子元器件放进存放箱85内，再手动将存放箱85推至第一限位板83之间，将滑盖5复位，将外接水管与进水口72连接，使得水进入水箱71内，按下触发开关76，触发开关76发出信号，控制模块接收信号控制水泵73启动，水泵73将水输送进出水管74内，再通过出水管74进入高压喷头75，高压喷头75将水喷至电子元器件上，对电子元器件进行冲洗，将电子元器件上的杂质冲洗掉，冲洗时使用的水往下漏至水箱71内，如此，便可实现循环利用，湿度传感器84检测到湿度达到第一预设值后发出信号，控制模块接收信号控制第一电动推杆81启动，第一电动推杆81伸缩杆带动衔接连板82、第一限位板83、存放箱85、第一距离传感器86和电子元器件往下移动，第一距离传感器86检测到移动的距离达到预设值后发出信号，控制模块接收信号控制第一电动推杆81往上移动，第一电动推杆81伸缩杆带动衔接连板82、第一限位板83、存放箱85、第一距离传感器86和电子元器件往上移动复位，第一距离传感器86检测到移动的距离回到初设值后发出信号，控制模块接收信号控制第一电动推杆81伸缩杆再次收缩，第一电动推杆81伸缩杆再次带动衔接连板82、第一限位板83、存放箱85、第一距离传感器86和电子元器件往下移动，重复此动作，使得电子元器件实现反复冲洗，湿度传感器84检测到湿度达到第二预设值后发出信号，控制模块接收信号控制水泵73关闭，且第一距离传感器86检测到移动的距离回到初设值后发出信号，控制模块接收信号控制第一电动推杆81关闭，清洗完毕，人们将清洗后的电子元器件取出即可。

实施例2

在实施例1的基础之上，如图2、图7、图8、图9、图10、图11和图12所示，还包括有筛动机构9，筛动机构9包括有安装板91和齿条板92，清洗仓2内部下侧设有安装板91，安装板91前后两侧均与同侧的第一电动推杆81滑动式连接，安装板91顶部前侧设有齿条板92。

还包括有污水处理机构10，污水处理机构10包括有第二限位板101、漏斗102和过滤板103，安装板91底部前后两侧与右侧均设有第二限位板101，安装板91顶部设有漏斗102，第二限位板101之间放置有过滤板103。

当第一限位板83带动存放箱85和电子元器件进行上下移动时，第一限位板83与齿条板92不断的接触，进而带动第一限位板83、存放箱85和电子元器件不断的前后移动，使得弹性件不断的压缩和拉伸，在弹性件的作用下，存放箱85不断的抖动，将电子元器件上的杂质抖落，抖落的杂质通过存放箱85往下掉落至漏斗102内，再掉在过滤板103上，当过滤板103上的杂质堆积到一定量后，人们手动将过滤板103取出，将过滤板103上的杂质清理干净，再将过滤板103复位，如此，便可对杂质进行集中清理，当第一限位板83带动存放箱85和电子元器件复位后，第一限位板83、存放箱85和电子元器件停止前后移动，弹性件随之复位。

还包括有拉动机构11，拉动机构11包括有磁石1101、支板1102、第二电动推杆1103、连杆1104、电磁铁1105和第二距离传感器1106，存放箱85左侧前后对称设有磁石1101，干燥仓4内部左侧中间设有支板1102，支板1102顶部设有第二电动推杆1103，第二电动推杆1103伸缩杆右侧设有连杆1104，连杆1104右侧前后对称设有电磁铁1105，连杆1104右侧中间设有第二距离传感器1106。

还包括有烘干机构12，烘干机构12包括有导轨1201、挡块1202和发热环1203，干燥仓4内部右侧前后对称设有导轨1201，干燥仓4内部中间设有挡块1202，挡块1202位于导轨1201左侧之间，干燥仓4内底部右侧设有发热环1203，发热环1203位于导轨1201之间。

本设备上电后，控制模块控制第二距离传感器1106工作，当电子元器件清洗完毕后，湿度传感器84检测到湿度达到第二预设值后发出信号，控制模块接收信号控制水泵73关闭，同时控制第二电动推杆1103启动，第二电动推杆1103伸缩杆带动连杆1104、第二距离传感器1106和电磁铁1105往右移动，第二电动推杆1103运行5秒自行关闭，第二距离传感器1106检测到移动的距离达到预设值后发出信号，控制模块接收信号控制电磁铁1105通电，使得电磁铁1105对磁石1101进行吸附，同时控制模块接收第二距离传感器1106发出的信号控制第二电动推杆1103启动，电动推杆伸缩杆带动连杆1104、第二距离传感器1106、电磁铁1105、磁石1101、存放箱85和电子元器件往左移动，存放箱85往左移动至导轨1201上，第二电动推杆1103运行5秒自行关闭，第二距离传感器1106检测到移动的距离回到初设值后发出信号，控制模块接收信号控制发热环1203启动，使得发热环1203对存放箱85进行加热，进而对电子元器件进行加热烘干，湿度传感器84检测到湿度回到初设值后发出信号，控制模块接收信号控制发热环1203关闭，同时第二电动推杆1103十分钟后启动，人们将烘干后的电子元器件取出，再将需要清洗的电子元器件放进存放箱85内，第二电动推杆1103伸缩杆带动连杆1104、第二距离传感器1106、电磁铁1105、磁石1101、存放箱85和电子元器件往右移动，使得存放箱85往右移动至第一限位板83之间，第二电动推杆1103运行5秒自行关闭，第二距离传感器1106检测到移动的距离达到预设值后发出信号，控制模块接收信号控制电磁铁1105断电，同时第二电动推杆1103复位，第二电动推杆1103伸缩杆带动连杆1104、第二距离传感器1106和电磁铁1105复位，第二电动推杆1103运行5秒自行关闭，如此，便可实现持续工作，使得电子元器件的清洗效率提高。

如图1、图3、图4、图6、图9、图10、图11、图13和14所示，还包括有控制箱3，清洗仓2右上侧设有控制箱3，控制箱3包括有开关电源、电源模块和控制模块，开关电源为整个设备供电，开关电源输出端与电源模块通过电性连接，电源模块上通过线路连接有电源总开关，电源模块与控制模块通过电性连接；控制模块上连接有DS1302时钟电路和24C02电路；湿度传感器84、触发开关76、第一距离传感器86和第二距离传感器1106都与控制模块通过电性连接，水泵73、第一电动推杆81、第二电动推杆1103、电磁铁1105和发热环1203都与控制模块通过继电器控制模块连接。

上述实施例，只是本发明的较佳实施例，并非用来限制本发明实施范围，故凡以本发明权利要求所述内容所做的等效变化，均应包括在本发明权利要求范围之内。

Claims (5)

1.一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，包括有支撑脚（1）、清洗仓（2）、干燥仓（4）、滑盖（5）、爬梯（6）、清洗机构（7）和承载机构（8），清洗仓（2）一侧设有干燥仓（4），干燥仓（4）上对称设有支撑脚（1），干燥仓（4）上滑动式设有滑盖（5），干燥仓（4）一侧设有爬梯（6），清洗仓（2）上设有清洗机构（7），清洗机构（7）部件上设有承载机构（8）；清洗机构（7）包括有水箱（71）、进水口（72）、水泵（73）、出水管（74）、高压喷头（75）和触发开关（76），清洗仓（2）上设有水箱（71），水箱（71）与清洗仓（2）一侧之间设有进水口（72），水箱（71）上设有水泵（73），水泵（73）上对称设有出水管（74），出水管（74）均与清洗仓（2）一侧连接，出水管（74）上均设有高压喷头（75），清洗仓（2）上设有触发开关（76）；承载机构（8）包括有第一电动推杆（81）、衔接连板（82）、第一限位板（83）、湿度传感器（84）、存放箱（85）和第一距离传感器（86），清洗仓（2）上对称设有第一电动推杆（81），第一电动推杆（81）伸缩杆上均设有衔接连板（82），衔接连板（82）上均滑动式设有第一限位板（83），第一限位板（83）均与同侧的衔接连板（82）之间连接有两个弹性件，清洗仓（2）上设有湿度传感器（84），第一限位板（83）一侧之间滑动式放置有存放箱（85），一侧的衔接连板（82）上设有第一距离传感器（86）；还包括有筛动机构（9），筛动机构（9）包括有安装板（91）和齿条板（92），清洗仓（2）一侧设有安装板（91），安装板（91）两侧均与同侧的第一电动推杆（81）滑动式连接，安装板（91）一侧设有齿条板（92）。

2.如权利要求1所述的一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，还包括有污水处理机构（10），污水处理机构（10）包括有第二限位板（101）、漏斗（102）和过滤板（103），安装板（91）三侧均设有第二限位板（101），安装板（91）上设有漏斗（102），第二限位板（101）之间放置有过滤板（103）。

3.如权利要求2所述的一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，还包括有拉动机构（11），拉动机构（11）包括有磁石（1101）、支板（1102）、第二电动推杆（1103）、连杆（1104）、电磁铁（1105）和第二距离传感器（1106），存放箱（85）上对称设有磁石（1101），干燥仓（4）上设有支板（1102），支板（1102）上设有第二电动推杆（1103），第二电动推杆（1103）伸缩杆一侧设有连杆（1104），连杆（1104）上对称设有电磁铁（1105），连杆（1104）上设有第二距离传感器（1106）。

4.如权利要求3所述的一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，还包括有烘干机构（12），烘干机构（12）包括有导轨（1201）、挡块（1202）和发热环（1203），干燥仓（4）上对称设有导轨（1201），干燥仓（4）上设有挡块（1202），干燥仓（4）一侧设有发热环（1203），发热环（1203）位于导轨（1201）之间。

5.如权利要求4所述的一种电子元器件生产加工用清洗设备，其特征是，还包括有控制箱（3），清洗仓（2）一侧设有控制箱（3），控制箱（3）包括有开关电源、电源模块和控制模块，开关电源为整个设备供电，开关电源输出端与电源模块通过电性连接，电源模块上通过线路连接有电源总开关，电源模块与控制模块通过电性连接；控制模块上连接有DS1302时钟电路和24C02电路；湿度传感器（84）、触发开关（76）、第一距离传感器（86）和第二距离传感器（1106）都与控制模块通过电性连接，水泵（73）、第一电动推杆（81）、第二电动推杆（1103）、电磁铁（1105）和发热环（1203）都与控制模块通过继电器控制模块连接。