CN114167662A - 相机模块 - Google Patents

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CN114167662A CN202111001856.7A CN202111001856A CN114167662A CN 114167662 A CN114167662 A CN 114167662A CN 202111001856 A CN202111001856 A CN 202111001856A CN 114167662 A CN114167662 A CN 114167662A
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申俊燮
尹永复
徐普盛
朴南绮
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Abstract

一种相机模块，其包括：壳体、配置成可在光轴方向上移动的透镜镜筒、联接到透镜镜筒并设置在壳体内的镜筒支架、配置成在光轴方向上驱动透镜镜筒且包括驱动磁体和驱动线圈的透镜镜筒驱动单元、以及配置成在与光轴相交的方向上面对所述驱动磁体的位置恢复构件，其中，位置恢复构件在光轴方向上的总长度小于位置恢复构件在光轴方向上的总长度，以限制透镜镜筒在光轴方向上的位移。

Description

相机模块
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年9月9日在韩国知识产权局提交的第10-2020-0115537号韩国专利申请的优先权权益，出于所有目的将其全部公开内容通过引用并入本文。
技术领域
下面的描述涉及一种相机模块。
背景技术
相机模块可以包括容纳透镜的透镜镜筒。这样的透镜镜筒可以被配置成当实现相机模块的自动聚焦或光学图像稳定(OIS)时可以在相机模块内移动。例如，透镜镜筒可以在相机模块的壳体内在光轴方向上或在与光轴相交的方向上移动。通常，由相机模块实现透镜镜筒的受控移动。然而，这种透镜镜筒的其它移动，例如，由于外部影响(例如，当用户快速行走或跑步同时握持配备有相机模块的相应移动终端时)的移动，通常也可能发生。这种移动可进一步导致透镜镜筒与典型相机模块的其它构件之间的碰撞。
发明内容
提供本发明内容部分旨在以简要的形式介绍对发明构思的选择，而在下面的具体实施方式部分中将进一步描述这些发明构思。本发明内容部分目的不在于确认所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不旨在用于帮助确定所要求保护的主题的范围。
在一个总的方面，相机模块包括：壳体；透镜镜筒，设置在壳体中；透镜镜筒驱动单元，包括驱动磁体和驱动线圈，配置为沿光轴方向驱动透镜镜筒；以及位置恢复构件，设置为面对驱动磁体，其中，满足条件表达式Yh<(Mh-AFL/2)，其中，Yh是位置恢复构件在光轴方向上的总长度，Mh是驱动磁体在光轴方向上的总长度，以及AFL是透镜镜筒在光轴方向上的最大位移。
相机模块还可以包括设置在透镜镜筒和壳体之间的一个或多个滚珠支承件。
透镜镜筒驱动单元可以包括：第一驱动磁体和第一驱动线圈，配置为向透镜镜筒的一侧提供驱动力；以及第二驱动磁体和第二驱动线圈，配置为向透镜镜筒的另一侧提供另一驱动力。
第一驱动磁体可配置成具有与第二驱动磁体的总长度(ML2)不同的总长度(ML1)。
第一驱动磁体的总长度(ML1)与第二驱动磁体的总长度(ML2)之间的比率(ML1/ML2)可以是0.3至0.7。
位置恢复构件可以设置为面对第一驱动磁体，并且Mh可以是第一驱动磁体在光轴方向上的总长度，并且相机模块还可以包括设置为面对第二驱动磁体的另一个位置恢复构件。
可以满足另一条件表达式Yh2<(Mh2-AFL/2)，其中，Yh2可以是所述另一位置恢复构件在光轴方向上的总长度，并且Mh2可以是第二驱动磁体在光轴方向上的总长度。
位置恢复构件在光轴方向上的总长度(Yh)可以小于驱动磁体在光轴方向上的总长度(Mh)。
在一个总的方面，相机模块包括：壳体；透镜镜筒，配置成可沿光轴方向移动；镜筒支架，联接到透镜镜筒并设置在壳体内；透镜镜筒驱动单元，配置成沿光轴方向驱动透镜镜筒并包括驱动磁体和驱动线圈；以及位置恢复构件，配置成沿与光轴相交的方向面对驱动磁体，其中，位置恢复构件在光轴方向上的总长度小于驱动磁体在光轴方向上的总长度，以限制透镜镜筒在光轴方向上的位移。
位置恢复构件可以向驱动磁体施加被动吸引力，以限制透镜镜筒在光轴方向上的位移。
相机模块还可以包括设置在壳体的导向槽和镜筒支架的导向槽之间的一个或多个滚珠支承件。
所述一个或多个滚珠支承件可包括两个或更多个滚珠支承件，其中，所述两个或更多个滚珠支承件可分别设置在所述壳体和所述镜筒支架的对角的部分处。
所述一个或多个滚珠支承件可以包括两个或更多个滚珠支承件，其中所述两个或更多个滚珠支承件可以设置在壳体的一个表面和镜筒支架的一个表面之间。
透镜镜筒驱动单元可以包括第一驱动磁体和第一驱动线圈，第一驱动磁体和第一驱动线圈配置成向透镜镜筒的一侧提供驱动力，并且可以包括第二驱动磁体和第二驱动线圈，第二驱动磁体和第二驱动线圈配置成向透镜镜筒的另一侧提供另一驱动力。
第一驱动磁体可配置成具有与第二驱动磁体的总长度(ML2)不同的总长度(ML1)。
第一驱动磁体的总长度(ML1)与第二驱动磁体的总长度(ML2)之间的比率(ML1/ML2)可以是0.3至0.7。
位置恢复构件可以设置为面对第一驱动磁体，Yh1可以是位置恢复构件在光轴方向上的总长度，Mh1可以是第一驱动磁体在光轴方向上的总长度，AFL是透镜镜筒在光轴方向上的最大位移，并且可以满足条件表达式Yh1<(Mh1-AFL/2)，并且相机模块还可以包括设置成面对第二驱动磁体的另一位置恢复构件，其中，Yh2可以是另一位置恢复构件在光轴方向上的总长度，Mh2可以是第二驱动磁体在光轴方向上的总长度，并且可以满足另一条件表达式Yh2<(Mh2-AFL/2)。
相机模块还可以包括电路板，该电路板设置成围绕壳体的开口部分并且电连接到驱动线圈。
相机模块还可以包括屏蔽罩，该屏蔽罩联接到壳体并且配置成阻挡外部电磁波。
相机模块还可以包括联接到镜筒支架的夹构件，以及设置在夹构件上的缓冲构件。
根据下面的具体实施方式、附图和所附权利要求，其它特征和方面将变得显而易见。
附图说明
图1是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的分解立体图。
图2是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的立体图。
图3是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的剖视图。
图4是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的分解立体图。
图5是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的立体图。
图6是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的剖视图。
图7是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的分解立体图。
图8是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的立体图。
图9是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的剖视图。
图10是根据一个或多个实施例的示例相机模块的分解立体图。
图11是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的组合立体图。
图12是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的剖视图。
在所有附图和具体实施方式中，除非另外描述或提供，否则相同的附图标记将被理解为指代相同的元件、特征和结构。出于清楚、说明和方便的目的，附图可能未按照比例绘制，并且附图中元件的相对尺寸、比例和描绘可能被夸大。
具体实施方式
提供以下具体实施方式以帮助读者获得对本文中所描述的方法、设备和/或系统的全面理解。然而，在理解本申请的公开内容之后，本文中所描述的方法、设备和/或系统的各种改变、修改和等同将是显而易见的。例如，除了必须以特定顺序发生的操作之外，本文中所描述的操作的顺序仅仅是示例，并且不限于在本文中所阐述的顺序，而是可以做出在理解本申请的公开内容之后将显而易见的改变。此外，为了增加清楚和简洁，可以省略在理解本申请的公开内容之后已知的特征的描述，应注意，省略特征和它们的描述目的不在于承认它们是一般知识。
本文中所描述的特征可以以不同的形式实施，而不应被理解为限于本文中所描述的示例。更确切地，提供本文所描述的示例仅仅是为了说明实施本文中所描述的方法、设备和/或系统的许多可行方式中的一些可行方式，在理解本申请的公开内容之后，这些可行方式将是显而易见的。
在本文中，应注意，关于实施例或示例使用措辞“可以”(例如，关于实施例或示例可包括或实现什么)意味着存在其中包括或实现这种特征的至少一个实施例或示例，而所有实施例和示例不限于此。
在整个说明书中，当诸如层、区域或基板的元件被描述为位于另一元件“上”、“连接到”或“联接到”另一元件时，该元件可直接位于另一元件“上”、直接“连接到”或直接“联接到”另一元件，或者可存在介于该元件与该另一元件之间的一个或多个其它元件。相反地，当元件被描述为“直接位于”另一元件“上”、“直接连接到”或“直接联接到”另一元件时，则不存在介于该元件与该另一元件之间的其它元件。
如本文中所使用的，措辞“和/或”包括相关联的所列项目中的任何一项以及任何两项或更多项的任何组合。
尽管在本文中可以使用诸如“第一”、“第二”和“第三”的措辞来描述各种构件、组件、区域、层或部分，但是这些构件、组件、区域、层或部分不受这些措辞的限制。更确切地，这些措辞仅用于将一个构件、组件、区域、层或部分与另一个构件、组件、区域、层或部分区分开。因此，在不背离本文中所描述示例的教导的情况下，示例中提及的第一构件、第一组件、第一区域、第一层或第一部分也可以被称作第二构件、第二组件、第二区域、第二层或第二部分。
诸如“在……之上”、“较上”、“在……之下”和“较下”的空间相对措辞可以在本文中为了描述便利而使用，以描述如附图中示出的一个元件相对于另一个元件的关系。除了涵盖附图中所描绘的定向之外，这些空间相对措辞旨在还涵盖装置在使用或操作中的不同的定向。例如，如果附图中的装置翻转，则描述为位于另一元件“之上”或相对于另一元件“较上”的元件将位于该另一元件“之下”或相对于该另一元件“较下”。因此，根据装置的空间定向，措辞“在……之上”涵盖“在......之上”和“在......之下”两种定向。该装置还可以以其它方式定向(例如，旋转90度或处于其它定向)，并且本文中使用的空间相对措辞应被相应地解释。
本文中使用的术语仅用于描述各种示例，而不用于限制本公开。除非上下文另有明确指示，否则冠词“一”、“一个”和“该”旨在也包括复数形式。措辞“包括”、“包含”和“具有”说明所陈述的特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合的存在，但不排除一个或多个其它特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合的存在或添加。
由于制造技术和/或公差，附图中所示的形状可能发生变化。因此，本文中所描述的示例不限于附图中所示的特定形状，而是包括在制造期间发生的形状变化。
本文描述的实施例的特征可以以各种方式组合，这在获得对本申请的公开内容的理解之后将是显而易见的。此外，尽管本文描述的示例具有多种配置，但是在获得对本申请的公开内容的理解之后将显而易见的其它配置也是可能的。
如上所述，在典型的相机模块中，可以主动地移动透镜镜筒以执行相机模块的预期功能，但是也可能由于外部冲击而被动地移动。例如，根据移动终端用户的活动类型，典型相机模块中的这种透镜镜筒可能在相机模块内沿光轴方向抖动。透镜镜筒的这种抖动可能导致噪声和相机模块故障。
图1是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的分解立体图。此外，图2是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的立体图。
例如，一个或多个实施例可以包括便携式电子产品，该便携式电子产品包括相机模块。例如，便携式或移动电子产品或设备可以是移动电话、笔记本计算机等。然而，除了这样的电子产品之外的其它实施例也存在于示例相机模块中。因此，示例不限于这种便携式或移动电子产品，并且实施例存在于所有包括相机模块的电子设备，包括在电子产品的一个或多个表面上具有一个或多个相机模块的示例。
相机模块包括透镜镜筒。透镜镜筒可以在相机模块内移动，以执行相机模块的独特功能。例如，透镜镜筒可以沿光轴的方向移动。
一个或多个实施例可以减少或防止透镜镜筒在相机模块内的被动移动。在示例中，相机模块包括驱动磁体和位置恢复构件，并且被配置成显著地减少由于例如外部冲击而引起的透镜镜筒的抖动。
例如，根据示例的相机模块10包括壳体100、透镜镜筒200、驱动单元400和位置恢复构件500。然而，相机模块10的配置不限于上述配置。例如，相机模块10还可以包括要连接到驱动单元400的一些部件的基板700，并且可以包括图像传感器。
壳体100可配置成具有大致四边形横截面和预定高度的多面体形状。然而，壳体100的形状不限于具有四边形横截面的多面体形状。壳体100被配置成容纳透镜镜筒200。例如，能够容纳透镜镜筒200的至少一部分的空间可以形成在壳体100的内部。壳体100被配置成允许透镜镜筒200在光轴C方向上移动。例如，壳体100的上表面和下表面可以是开放的。壳体100可配置成能够设置驱动单元400。例如，开口106可形成在壳体100的一侧，使得驱动单元400的不同构件可设置成彼此直接面对。
透镜镜筒200包括一个或多个透镜。例如，透镜镜筒200可以包括四个或更多个透镜。然而，容纳在透镜镜筒200中的透镜的数量不限于四个。例如，透镜镜筒200可配置成容纳3个或更少或者5个或更多的透镜。透镜镜筒200被配置成容纳在壳体100中。例如，透镜镜筒200的横截面尺寸可以小于壳体100的内横截面尺寸。透镜镜筒200可以沿光轴C方向移动。例如，透镜镜筒200可以通过驱动单元400的驱动力在光轴C方向上移动同时容纳在壳体100中。
驱动单元400可以提供驱动透镜镜筒200所需的驱动力。例如，驱动单元400可以通过磁力沿光轴C的方向驱动透镜镜筒200。驱动单元400可以包括驱动磁体410和驱动线圈420。驱动磁体410可以设置在透镜镜筒200上。例如，驱动磁体410可以设置在透镜镜筒200的一侧上。驱动磁体410可以设置成基本上面对驱动线圈420。例如，驱动磁体410和驱动线圈420可以设置成通过壳体100的开口106彼此面对。驱动线圈420可以设置在壳体100的开口106中。例如，驱动线圈420可以使用连接到壳体100的侧表面的基板700设置在开口106内。
位置恢复构件500可设置成直接或间接面对驱动单元400的驱动磁体410。例如，可以使用基板700将位置恢复构件500设置在开口106的外部。位置恢复构件500可配置成通过与驱动磁体410相互作用而产生预定大小的吸引力。例如，位置恢复构件500可以由磁性材料形成。然而，一个或多个实施例还可以包括由除磁性材料之外的材料形成的位置恢复构件500。例如，位置恢复构件500可以由磁性材料和另一种材料的混合物或复合物形成。位置恢复构件500可以具有预定的尺寸。例如，位置恢复构件500的总高度Yh可以小于驱动磁体410的总高度Mh。位置恢复构件500的中心Yc可以设置成与驱动线圈420的绕组中心Wc基本一致。然而，一个或多个实施例还包括位置恢复构件500的中心Yc不设置成与驱动线圈420的绕组中心Wc一致。例如，位置恢复构件500的中心Yc可以设置成在光轴C的方向上从驱动线圈420的绕组中心Wc偏离。
基板700可以电连接到驱动单元400。例如，基板700可以电连接到驱动单元400的驱动线圈420。基板700可以包括用于直接或间接控制驱动单元400的配置。例如，基板700可以包括电路或电子部件，用于改变、控制或传输提供给驱动线圈420的电流量或提供的电流的方向。基板700可以配置成能够弯曲变形的形式。例如，基板700可以被配置为FPCB的形式。
例如，如图3所示，透镜镜筒200可以在如上所述的光轴C的方向上移动。例如，透镜镜筒200可以通过驱动磁体410和驱动线圈420的驱动力移动预定的最大或总位移AFL。
位置恢复构件500可配置为部分地限制透镜镜筒200的移动。例如，位置恢复构件500可配置成减少由于外部冲击而使透镜镜筒200移动位移AFL或更多，或者由于外部冲击而使透镜镜筒200规则地或不规则地抖动的现象。例如，位置恢复构件500可用于通过与固定到透镜镜筒200的驱动磁体410的相互作用(吸引力)抑制透镜镜筒200的移动，或者逐渐减小移动的宽度。在位置恢复构件500和驱动磁体410之间产生的吸引力小于在透镜镜筒200的驱动状态下在驱动磁体410和驱动线圈420之间产生的吸引力，并且可以大于在透镜镜筒200的非驱动状态下在驱动磁体410和驱动线圈420之间产生的吸引力。位置恢复构件500可以与透镜镜筒200和驱动磁体410的位移AFL形成预定尺寸关系。例如，位置恢复构件500的总高度Yh可以小于通过从驱动磁体410的总高度Mh减去位移AFL的1/2而获得的尺寸(Mh-AFL/2)。此外，位置恢复构件500的总高度Yh可以小于驱动磁体410的总高度Mh。位置恢复构件500可以设置成总是面对具有相当大尺寸的驱动磁体410的区域。例如，位置恢复构件500可以被设置成总是面对驱动磁体410的1/2或更多的区域。
此外，位置恢复构件500可以满足以下关系表达式：
Yh/2<Mh-AFL/2
详细地，从位置恢复构件500的中心到位置恢复构件500的一端(上端或下端)的高度(Yh/2)小于通过从驱动磁体410的高度Mh排除透镜镜筒200在一个方向上的位移(总位移AFL的一半)而提供的尺寸。
如上所述配置的相机模块10可以减少或抑制由于外部冲击而引起的透镜镜筒200的抖动。例如，当透镜镜筒200由于外部冲击而向上移动或振动时，位置恢复构件500可通过与驱动磁体410的相互作用(吸引力)而向下拉动透镜镜筒200。相反，当透镜镜筒200由于外部冲击而向下移动或振动时，位置恢复构件500可通过与驱动磁体410的相互作用(吸引力)向上升高透镜镜筒200。
因此，根据一个或多个实施例的相机模块可以减小由于透镜镜筒200的快速移动或振动而引起的噪声，以及减小由于外部冲击而引起的透镜镜筒200的突然移动或振动。
图4是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的分解立体图。图5是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的立体图。图6是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的剖视图。
例如，如图4至图6所示，根据一个或多个实施例的相机模块12包括壳体100、透镜镜筒200、驱动单元402和404、位置恢复构件510和520以及基板700。然而，相机模块12的配置不限于上述配置。例如，相机模块12还可以包括滚珠支承件600和图像传感器。
壳体100可配置成具有大致四边形横截面和预定高度的多面体形状。然而，壳体100的形状不限于具有四边形横截面的多面体形状。壳体100被配置成容纳透镜镜筒200。例如，能够容纳透镜镜筒200的至少一部分的空间可以形成在壳体100的内部。壳体100被配置成允许透镜镜筒200在光轴(C)方向上移动。例如，壳体100的上表面和下表面可以是开放的。壳体100可配置成能够设置驱动单元402和404。例如，开口106和108可以分别形成在壳体100的一侧，使得驱动单元402和404的不同构件可以设置成彼此直接面对。
透镜镜筒200包括一个或多个透镜。例如，透镜镜筒200可以包括四个或更多个透镜。然而，容纳在透镜镜筒200中的透镜的数量不限于四个。例如，透镜镜筒200可配置成容纳3个或更少或者5个或更多的透镜。透镜镜筒200被配置成容纳在壳体100中。例如，透镜镜筒200的横截面尺寸可以小于壳体100的内横截面尺寸。透镜镜筒200可以沿光轴C方向移动。例如，透镜镜筒200可以时通过驱动单元402和404的驱动力在光轴C的方向上移动同容纳在壳体100中。
驱动单元402和404可以提供驱动透镜镜筒200所需的驱动力。例如，驱动单元402和404可以通过磁力沿光轴C的方向上驱动透镜镜筒200。驱动单元402和404可以包括驱动磁体410和412以及驱动线圈420和422。驱动磁体410和412可以设置在透镜镜筒200上。例如，驱动磁体410和412可以设置在透镜镜筒200的多个侧面上。驱动磁体410和412可以设置成基本上面对驱动线圈420和422。例如，驱动磁体410和412以及驱动线圈420和422可以设置成通过壳体100的开口106和108彼此面对。驱动线圈420和422可以分别设置在壳体100的开口106和108中。例如，驱动线圈420和422可以分别使用围绕壳体100的开口106和108板700设置在开口106和108内。第一驱动磁体410和第二驱动磁体412可以具有不同的尺寸。例如，第一驱动磁体410的总长度ML1可以大于第二驱动磁体412的总长度ML2。作为另一个示例，第二驱动磁体412的长度ML2可以是第一驱动磁体410的长度ML1的大约0.3至0.7。作为参考，第一驱动线圈420和第二驱动线圈422也可以具有与第一驱动磁体410和第二驱动磁体412的尺寸关系相同或相似的尺寸关系。
位置恢复构件510和520可以设置成直接或间接地面对驱动单元402和404的驱动磁体410和412。例如，可以使用基板700将位置恢复构件510和520设置在开口106和108的外部。位置恢复构件510和520可配置成通过与驱动磁体410和412相互作用而产生预定大小的吸引力。例如，位置恢复构件510和520可以由磁性材料形成。然而，一个或多个实施例还包括仅部分地由磁性材料形成的位置恢复构件510和520，即，由除磁性材料之外的材料形成。例如，位置恢复构件510和520可以由磁性材料和另一种材料的混合物或复合物形成。位置恢复构件510和520可以具有预定的尺寸。例如，位置恢复构件510和520的相应总高度Yh1和Yh2可以小于相应驱动磁体410和412的相应总高度Mh1和Mh2。例如，第一位置恢复构件510的高度Yh1小于第一驱动磁体410的高度Mh1，第二位置恢复构件520的高度Yh2小于第二驱动磁体412的高度Mh2。位置恢复构件510和520的中心Yc1和Yc2可设置成与相应驱动线圈420和422的绕组中心Wc1和Wc2基本一致。例如，第一位置恢复构件510的中心Yc1设置成与第一驱动线圈420的绕组中心Wc1一致，第二位置恢复构件520的中心Yc2设置成与第二驱动线圈422的绕组中心Wc2一致。然而，一个或多个实施例还包括位置恢复构件510和520的中心Yc1和Yc2不设置成与相应驱动线圈420和422的绕组中心Wc1和Wc2相匹配的示例。例如，位置恢复构件510和520的中心Yc1和Yc2可以设置成在光轴C的方向上从驱动线圈420和422的绕组中心Wc1和Wc2偏移。
滚珠支承件600可以设置在壳体100和透镜镜筒200之间。例如，滚珠支承件600可以设置在壳体100的导向槽120和透镜镜筒200的导向槽220之间。滚珠支承件600配置成使得能够平滑地驱动透镜镜筒200。例如，滚珠支承件600可以与透镜镜筒200点接触，同时阻止透镜镜筒200和壳体100之间的直接接触。因此，透镜镜筒200可以在光轴C的方向上平滑地移动，同时与滚珠支承件600点接触。滚珠支承件600可以配置成多个。例如，三个滚珠支承件600可以顺序地设置在壳体100的导向槽120和透镜镜筒200的导向槽220之间。然而，滚珠支承件600的数量不限于三个。例如，两个或四个滚珠支承件600可以设置在壳体100的导向槽120和透镜镜筒200的导向槽220之间。
基板700可以电连接到驱动单元402和404。例如，基板700可以电连接到驱动单元402和404的驱动线圈420和422。基板700可以包括用于直接或间接控制驱动单元402和404的部件。例如，基板700可以包括电路或电子部件，用于改变、控制或传输提供给驱动线圈420和422的电流量或提供的电流的方向。基板700可以配置成能够弯曲变形的形式。例如，基板700可以被配置为FPCB的形式。
此外，如图6所示，透镜镜筒200可以如上所述在光轴C的方向上移动。例如，通过驱动磁体410和412以及驱动线圈420和422的驱动力，透镜镜筒200可以移动预定的最大或总位移AFL。
位置恢复构件510和520可配置成部分地限制透镜镜筒200的移动。例如，位置恢复构件510和520可以被配置成减少透镜镜筒200由于外部冲击而移动位移AFL或更多或者透镜镜筒200由于外部冲击而规则地或不规则地抖动的现象。例如，位置恢复构件510和520可用于通过与固定到透镜镜筒200的驱动磁体410和412的相互作用(吸引力)抑制透镜镜筒200的移动，或者逐渐减小移动的宽度。在位置恢复构件510和520与驱动磁体410和412之间产生的吸引力小于在透镜镜筒200的驱动状态下在驱动磁体410和412与驱动线圈420和422之间产生的吸引力，并且可以大于在透镜镜筒200的非驱动状态下在驱动磁体410和412与驱动线圈420和422之间产生的吸引力。位置恢复构件510和520可以与透镜镜筒200以及驱动磁体410和412的位移AFL形成预定的尺寸关系。例如，第一位置恢复构件510的总高度Yh1可以小于第一驱动磁体410的总高度Mh1和位移AFL的一半的总和(Mh1+AFL/2)，并且第二位置恢复构件520的总高度Yh2可以小于第二驱动磁体412的总高度Mh2和位移AFL的一半的总和(Mh2+AFL/2)。此外，位置恢复构件510和520的总高度Yh1和Yh2可以分别小于彼此面对的驱动磁体410和412的总高度Mh1和Mh2。
如上所述配置的相机模块12可以减少或抑制由于外部冲击而引起的透镜镜筒200的抖动。例如，当透镜镜筒200由于外部冲击而向上移动或振动时，位置恢复构件510和520可以与驱动磁体410和412相互作用，以通过吸引力向下拉动透镜镜筒200。相反，当透镜镜筒200由于外部冲击而向下移动或振动时，位置恢复构件510和520通过与驱动磁体410和412的相互作用(吸引力)向上拉动透镜镜筒200。因此，根据一个或多个实施例的相机模块不仅可以减少由于外部冲击引起的透镜镜筒200的突然移动或振动，而且可以减少由于透镜镜筒200的突然移动或振动引起的噪声。
此外，根据一个或多个实施例的相机模块可以确保透镜镜筒200的水平稳定性。例如，设置在透镜镜筒200的一侧和另一侧上的驱动磁体410和412可以减小透镜镜筒200在相对于光轴C倾斜的方向上抖动或倾斜的现象。因此，根据一个或多个实施例的相机模块可以提高透镜镜筒200在光轴C方向上的移动的可靠性。
图7是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的分解立体图。图8是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的立体图。图9是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的剖视图。
例如，如图7至图9所示，根据一个或多个实施例的相机模块14包括壳体100、透镜镜筒200、镜筒支架300、驱动单元402和404、位置恢复构件510和520以及基板700。然而，相机模块14的配置不限于上述配置。例如，相机模块14还可以包括滚珠支承件600、轭构件512和522、屏蔽罩900和图像传感器。
壳体100可配置成具有大致四边形横截面和预定高度的多面体形状。然而，壳体100的形状不限于具有四边形横截面的多面体形状。壳体100被配置成容纳透镜镜筒200。例如，能够容纳透镜镜筒200的至少一部分的空间可以形成在壳体100的内部。壳体100被配置成允许透镜镜筒200在光轴C方向上移动。例如，壳体100的上表面和下表面可以是开放的。壳体100可配置成能够设置驱动单元402和404。例如，开口106和108可以分别形成在壳体100的一侧，使得驱动单元402和404的不同构件可以设置成彼此直接面对。
透镜镜筒200可形成为大致圆柱形形状。然而，透镜镜筒200的形状不限于圆柱形。透镜镜筒200包括一个或多个透镜。例如，透镜镜筒200可以包括四个或更多个透镜。然而，容纳在透镜镜筒200中的透镜的数量不限于四个。例如，透镜镜筒200可配置成容纳3个或更少或者5个或更多的透镜。透镜镜筒200被配置成容纳在壳体100中。例如，透镜镜筒200的横截面尺寸可以小于壳体100的内横截面尺寸。透镜镜筒200可以沿光轴C方向移动。例如，透镜镜筒200可以通过驱动单元402和404的驱动力在光轴C的方向上移动，同时容纳在壳体100中。
镜筒支架300可以联接到透镜镜筒200。镜筒支架300可以支撑透镜镜筒200，使得透镜镜筒200可以在壳体100的内部空间中稳定地移动。透镜镜筒200可以形成为基本上类似于镜筒支架300的内部空间的形状。例如，透镜镜筒200的横截面形状可以具有与镜筒支架300的内部空间的形状相同或相似的圆形形状。镜筒支架300可以提供用于支撑驱动单元402和404的一些部件的空间。例如，驱动磁体410和412将设置在其中的安装槽312和314可以形成在镜筒支架300的侧面中。
驱动单元402和404可以提供驱动透镜镜筒200所需的驱动力。例如，驱动单元402和404可以通过磁力沿光轴C的方向驱动透镜镜筒200。驱动单元402和404可以包括第一驱动单元402和第二驱动单元404，第一驱动单元402被配置为向透镜镜筒200和镜筒支架300的一侧提供驱动力，第二驱动单元404被配置为向透镜镜筒200和镜筒支架300的另一侧提供驱动力。驱动单元402和404可以包括驱动磁体410和412以及驱动线圈420和422。驱动磁体410和412可以设置在镜筒支架300上。例如，驱动磁体410和412可以分别设置在镜筒支架300的安装槽312和314中。驱动磁体410和412可以设置成基本上面对驱动线圈420和422。例如，驱动磁体410和412以及驱动线圈420和422可以设置成通过壳体100的开口106和108彼此面对。驱动线圈420和422可以分别设置在壳体100的开口106和108中。例如，驱动线圈420和422可以使用围绕壳体100的开口106和106的基板700设置在开口106和108内。第一驱动磁体410和第二驱动磁体412可以具有不同的尺寸。例如，第一驱动磁体410的总长度ML1可以大于第二驱动磁体412的总长度ML2。作为另一个示例，第二驱动磁体412的总长度ML2可以是第一驱动磁体410的总长度ML1的大约0.3至0.7。
作为另一个示例，第一驱动磁体410的总长度ML1和第二驱动磁体412的总长度ML2可以满足以下关系式：
0.3≤(ML1/G1)/(ML2/G2)≤0.7
作为参考，G1是第一驱动磁体410和第一位置恢复构件510之间的最短距离，G2是第二驱动磁体412和第二位置恢复构件520之间的最短距离，并且第一驱动线圈420和第二驱动线圈422也可以具有与第一驱动磁体410和第二驱动磁体412的尺寸关系相同或相似的尺寸关系。
位置恢复构件510和520可以设置成直接或间接地面对驱动单元402和404的驱动磁体410和412。例如，可以使用基板700将位置恢复构件510和520设置在开口106和108的外部。位置恢复构件510和520可配置成通过与驱动磁体410和412相互作用而产生预定大小的吸引力。例如，位置恢复构件500可以由磁性材料形成。然而，一个或多个示例性实施例还包括由除磁性材料之外的材料形成的位置恢复构件510和520。例如，位置恢复构件510和520可以由磁性材料和另一种材料的混合物或复合物形成。位置恢复构件510和520可以具有预定的尺寸。例如，位置恢复构件510和520的总高度Yh1和Yh2可以分别小于相应的驱动磁体410和412的总高度Mh1和Mh2。例如，第一位置恢复构件510的总高度Yh1小于第一驱动磁体410的总高度Mh1，并且第二位置恢复构件520的总高度Yh2小于第二驱动磁体412的总高度Mh2。位置恢复构件510和520的中心Yc1和Yc2可以设置成与相应的驱动线圈420和422的绕组中心Wc1和Wc2基本一致。例如，第一位置恢复构件510的中心Yc1设置成与第一驱动线圈420的绕组中心Wc1一致，第二位置恢复构件520的中心Yc2设置成与第二驱动线圈422的绕组中心Wc2一致。然而，一个或多个实施例还包括位置恢复构件510和520的中心Yc1和Yc2不设置成与相应驱动线圈420和422的绕组中心Wc1和Wc2相匹配。例如，位置恢复构件510和520的中心Yc1和Yc2可以设置成在光轴C的方向上从驱动线圈420和422的绕组中心Wc1和Wc2偏移。
滚珠支承件610和620可以设置在壳体100和镜筒支架300之间。例如，滚珠支承件610和620可以设置在壳体100的导向槽122和124与镜筒支架300的导向槽322和324之间。滚珠支承件610和620配置成能够使得平滑地驱动透镜镜筒200。例如，滚珠支承件610和620可以在镜筒支架300和壳体100之间的直接接触被阻挡的状态下与镜筒支架300点接触。因此，透镜镜筒200可以沿着镜筒支架300在光轴C的方向上与滚珠支承件610和620点接触地平滑移动。滚珠支承件610和620可以配置成多个。例如，两对滚珠支承件610和620可以顺序地设置在壳体100的导向槽122和124与镜筒支架300的导向槽322和324之间。然而，滚珠支承件610和620的数量不限于两对。例如，三对或更多对滚珠支承件610和620可以设置在壳体100的导向槽122和124与镜筒支架300的导向槽322和324之间。滚珠支承件610和620可以被设置成稳定地支撑透镜镜筒200和镜筒支架300。例如，滚珠支承件610和620可以分别设置在壳体100和镜筒支架300的对角部分。
基板700可以设置成围绕壳体100的开口106和108。基板700可以电连接到驱动单元402和404。例如，基板700可以电连接到驱动单元402和404的驱动线圈420和422。基板700可以包括用于直接或间接控制驱动单元402和404的部件。例如，基板700可以包括电路或电子部件，用于改变、控制或传输提供给驱动线圈420和422的电流量或提供的电流的方向。基板700可以配置成能够弯曲变形的形式。例如，基板700可以被配置为FPCB的形式。
屏蔽罩900可以被配置成保护相机模块14的主要部件免受外部电磁波的影响。例如，屏蔽罩900可以由金属材料形成，以阻止电磁波穿透到相机模块14中。
相机模块14还可以包括轭构件512和522。轭构件512和522可以设置在镜筒支架300上。轭构件512和522可以设置在与驱动磁体410和412重叠的位置。例如，第一轭构件512可以设置在安装槽312中，第二轭构件514可以设置在安装槽314中。轭构件512和522可以增加驱动磁体410和412的磁力。例如，轭构件512和522可以增加在驱动磁体410和412与驱动线圈420和422之间产生的磁力，或者可以增加在驱动磁体410和412与位置恢复构件510和520之间产生的吸引力。
此外，如图9所示，透镜镜筒200和镜筒支架300可以沿光轴C的方向移动。例如，透镜镜筒200和镜筒支架300可以通过驱动磁体410和412以及驱动线圈420和422的驱动力向上或向下移动预定的幅度(AFL/2)。作为参考，AFL是透镜镜筒200的最大或总位移。
位置恢复构件510和520可配置成部分地限制透镜镜筒200的移动。例如，位置恢复构件510和520可以被配置成减少透镜镜筒200由于外部冲击而移动位移AFL或更多或者透镜镜筒200由于外部冲击而规则地或不规则地抖动的现象。例如，位置恢复构件510和520可以通过与固定到镜筒支架300的驱动磁体410和412的相互作用(吸引力)来抑制透镜镜筒200和镜筒支架300的移动或者逐渐减小移动的宽度。在位置恢复构件510和520与驱动磁体410和412之间产生的吸引力可以小于在透镜镜筒200的驱动状态下在驱动磁体410和412与驱动线圈420和422之间产生的吸引力，并且可以大于在透镜镜筒200的非驱动状态下在驱动磁体410和412与驱动线圈420和422之间产生的吸引力。位置恢复构件510和520可以与透镜镜筒200以及驱动磁体410和412的位移AFL形成预定的尺寸关系。例如，第一位置恢复构件510的总高度Yh1可以小于第一驱动磁体410的总高度Mh1和位移AFL的一半的和(Mh1+AFL/2)，以及第二位置恢复构件520的总高度Yh2可以小于第二驱动磁体412的总高度Mh2和位移AFL的一半的和(Mh2+AFL/2)。此外，位置恢复构件510和520的总高度Yh1和Yh2可以分别小于彼此面对的驱动磁体410和412的总高度Mh1和Mh2。
如上所述配置的相机模块14可以减少或抑制由于外部冲击而引起的透镜镜筒200和镜筒支架300的抖动。例如，当透镜镜筒200和镜筒支架300由于外部冲击而向上移动或振动时，位置恢复构件510和520与驱动磁体410和412相互作用，并且可以通过所产生的吸引力向下拉动透镜镜筒200和镜筒支架300。相反，当透镜镜筒200和镜筒支架300由于外部冲击而向下移动或振动时，位置恢复构件510和520可以与驱动磁体410和412相互作用，并且可以通过所产生的吸引力向上拉动透镜镜筒200和镜筒支架300。因此，根据一个或多个实施例的相机模块可以减少由于外部冲击而引起的透镜镜筒200和镜筒支架300的突然移动或振动，并且透镜镜筒200和镜筒支架300还可以减少由突然移动或振动引起的噪声。
此外，根据一个或多个实施例的相机模块可以确保透镜镜筒200和镜筒支架300的水平稳定性。例如，设置在透镜镜筒200的一侧和另一侧上的驱动磁体410和412可以减轻透镜镜筒200和镜筒支架300在倾斜于光轴C的方向上抖动或倾斜的现象。此外，设置在壳体100的对角线位置处的滚珠支承件610和620可以使透镜镜筒200和镜筒支架300能够在光轴方向上稳定地驱动。因此，根据一个或多个实施例的相机模块可以提高透镜镜筒200和镜筒支架300在光轴方向上的移动的可靠性。
图10是根据一个或多个实施例的示例相机模块的分解立体图。图11是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的组合立体图。图12是根据一个或多个实施例的示例性相机模块的剖视图。
例如，如图10至图12所示，根据一个或多个实施例的相机模块16包括壳体100、透镜镜筒200、镜筒支架300、驱动单元402和404、位置恢复构件510和520以及基板700。然而，相机模块16的配置不限于上述配置。例如，相机模块16还可以包括滚珠支承件600、夹构件800、屏蔽罩900和图像传感器。
壳体100可配置成具有大致四边形横截面和预定高度的多面体形状。然而，壳体100的形状不限于具有四边形横截面的多面体形状。壳体100被配置成容纳透镜镜筒200。例如，能够容纳透镜镜筒200的至少一部分的空间可以形成在壳体100的内部。壳体100被配置成允许透镜镜筒200在光轴C方向上移动。例如，壳体100的上表面和下表面可以是开放的。壳体100可配置成使得能够设置驱动单元402和404。例如，开口106和108可以分别形成在壳体100的一侧，使得驱动单元402和404的不同构件可以设置成彼此直接面对。
透镜镜筒200可以形成为具有基本上圆柱形形状。然而，透镜镜筒200的形状不限于圆柱形。透镜镜筒200包括一个或多个透镜。例如，透镜镜筒200可以包括四个或更多个透镜。然而，容纳在透镜镜筒200中的透镜的数量不限于四个。例如，透镜镜筒200可配置成容纳3个或更少或者5个或更多的透镜。透镜镜筒200被配置成容纳在壳体100中。例如，透镜镜筒200的横截面尺寸可以小于壳体100的内横截面尺寸。透镜镜筒200可以沿光轴C方向移动。例如，透镜镜筒200可以通过驱动单元402和404的驱动力在光轴C的方向上移动同时容纳在壳体100中。
镜筒支架300可以连接到透镜镜筒200。镜筒支架300可以支撑透镜镜筒200，使得透镜镜筒200可以在壳体100的内部空间中稳定地移动。透镜镜筒200可以形成为基本上类似于镜筒支架300的内部空间的形状。例如，透镜镜筒200的横截面形状可以具有与镜筒支架300的内部空间相同或相似的圆形形状。镜筒支架300可以提供用于支撑驱动单元402和404的一些部件的空间。例如，驱动磁体410和412将设置在其中的安装槽312和314可以形成在镜筒支架300的侧面中。
驱动单元402和404可以提供驱动透镜镜筒200所需的驱动力。例如，驱动单元402和404可以通过磁力沿光轴C的方向驱动透镜镜筒200。驱动单元402和404可以包括第一驱动单元402和第二驱动单元404，第一驱动单元402被配置为向透镜镜筒200和镜筒支架300的一侧提供驱动力，第二驱动单元404被配置为向透镜镜筒200和镜筒支架300的另一侧提供驱动力。驱动单元402和404可以包括驱动磁体410和412以及驱动线圈420和422。驱动磁体410和412可以设置在镜筒支架300上。例如，驱动磁体410和412可以分别设置在镜筒支架300的安装槽312和314中。驱动磁体410和412可以设置成基本上面对驱动线圈420和422。例如，驱动磁体410和412以及驱动线圈420和422可以设置成通过壳体100的开口106和108彼此面对。驱动线圈420和422可以分别设置在壳体100的开口106和108中。例如，驱动线圈420和422可以分别使用围绕壳体100的开口106和106的基板700设置在开口106和108内。第一驱动磁体410和第二驱动磁体412可以具有不同的尺寸。例如，第一驱动磁体410的总长度ML1可以大于第二驱动磁体412的总长度ML2。作为另一个示例，第二驱动磁体412的总长度ML2可以是第一驱动磁体410的总长度ML1的大约0.3至0.7。
作为另一个示例，第一驱动磁体410的总长度ML1和第二驱动磁体412的总长度ML2可以满足以下关系式：
0.3≤(ML1/G1)/(ML2/G2)≤0.7
作为参考，G1是第一驱动磁体410和第一位置恢复构件510之间的最短距离，G2是第二驱动磁体412和第二位置恢复构件520之间的最短距离，并且第一驱动线圈420和第二驱动线圈422也可以具有与第一驱动磁体410和第二驱动磁体412的尺寸关系相同或相似的尺寸关系。
位置恢复构件510和520可以设置成直接或间接地面对驱动单元402和404的驱动磁体410和412。例如，可以使用基板700将位置恢复构件510和520设置在开口106和108的外部。位置恢复构件510和520可配置成通过与驱动磁体410和412相互作用而产生预定大小的吸引力。例如，位置恢复构件500可以由磁性材料形成。然而，一个或多个实施例还包括由除磁性材料之外的材料形成的位置恢复构件510和520。例如，位置恢复构件510和520可以由磁性材料和另一种材料的混合物或复合物形成。位置恢复构件510和520可以具有预定的尺寸。例如，位置恢复构件510和520的总高度Yh1和Yh2可以分别小于相应的驱动磁体410和412的总高度Mh1和Mh2。例如，第一位置恢复构件510的总高度Yh1小于第一驱动磁体410的总高度Mh1，并且第二位置恢复构件520的总高度Yh2小于第二驱动磁体412的总高度Mh2。位置恢复构件510和520的中心Yc1和Yc2可以设置成与相应的驱动线圈420和422的绕组中心Wc1和Wc2基本一致。例如，第一位置恢复构件510的中心Yc1设置成与第一驱动线圈420的绕组中心Wc1一致，并且第二位置恢复构件520的中心Yc2设置成与第二驱动线圈422的绕组中心Wc2一致。然而，一个或多个实施例还包括位置恢复构件510和520的中心Yc1和Yc2不设置成与相应驱动线圈420和422的绕组中心Wc1和Wc2相匹配。例如，位置恢复构件510和520的中心Yc1和Yc2可以设置成在光轴C的方向上从驱动线圈420和422的绕组中心Wc1和Wc2偏移。
滚珠支承件610和620可以设置在壳体100和镜筒支架300之间。例如，滚珠支承件610和620可以设置在形成于壳体100的一个表面中的导向槽122和124与形成于镜筒支架300的一个表面中的导向槽322和324之间。滚珠支承件610和620配置成能够使得平滑地驱动透镜镜筒200。例如，滚珠支承件610和620可以在镜筒支架300和壳体100之间的直接接触被阻挡的状态下与镜筒支架300点接触。因此，透镜镜筒200可以沿着镜筒支架300在光轴C的方向上与滚珠支承件610和620点接触地平滑地移动。滚珠支承件610和620可以配置成多个。例如，两个滚珠支承件610和两个滚珠支承件620可以顺序地设置在壳体100的导向槽122和124与镜筒支架300的导向槽322和324之间。然而，滚珠支承件610和620的数量不限于此。例如，三对或更多对滚珠支承件610和620可以设置在壳体100的导向槽122和124与镜筒支架300的导向槽322和324之间。
基板700可以设置成围绕壳体100的开口106和108。基板700可以电连接到驱动单元402和404。例如，基板700可以电连接到驱动单元402和404的驱动线圈420和422。基板700可以包括用于直接或间接控制驱动单元402和404的部件。例如，基板700可以包括电路或电子部件，用于改变、控制或传输提供给驱动线圈420和422的电流量或提供的电流的方向。基板700可以配置成能够弯曲变形的形式。例如，基板700可以被配置为FPCB的形式。基板700可以形成为围绕壳体100的侧表面。例如，根据一个或多个实施例的基板700可以形成为围绕壳体100的所有四个侧面。
夹构件800配置成联接到镜筒支架300。例如，夹构件800可以通过突起和凹槽的结构联接到镜筒支架300。作为参考，图10示出了在镜筒支架300上形成突起并且在夹构件800中形成联接槽，但是也可以在镜筒支架300中形成联接槽并且也可以在夹构件800上形成突起。缓冲构件820可以形成在夹构件800上。缓冲构件820可以由能够弹性变形的材料形成。例如，缓冲构件820可以由聚氨酯泡沫、环氧树脂、天然橡胶、合成橡胶等形成。缓冲构件820可以减少镜筒支架300和屏蔽罩900之间的碰撞能量。例如，缓冲构件820可以通过弹性变形来吸收或减少在镜筒支架300和屏蔽罩900之间的碰撞过程中产生的能量。
屏蔽罩900可以被配置成保护相机模块16的主要部件免受外部电磁波的影响。例如，屏蔽罩900可以由金属材料形成，以阻止电磁波穿透到相机模块16中。
此外，如图12所示，透镜镜筒200和镜筒支架300可以沿光轴C的方向移动。例如，透镜镜筒200和镜筒支架300可以通过驱动磁体410和412以及驱动线圈420和422的驱动力向上或向下移动预定的幅度(AFL/2)。作为参考，AFL是透镜镜筒200的最大位移。
位置恢复构件510和520可配置成部分地限制透镜镜筒200的移动。例如，位置恢复构件510和520可以被配置成减少由于外部冲击而使透镜镜筒200移动位移AFL或更多或者由于外部冲击而使透镜镜筒200规则地或不规则地抖动的现象。例如，位置恢复构件510和520可用于通过与固定到镜筒支架300的驱动磁体410和412的相互作用(吸引力)抑制透镜镜筒200和镜筒支架300的移动或者逐渐减小移动的宽度。在位置恢复构件510和520与驱动磁体410和412之间产生的吸引力可以小于在透镜镜筒200的驱动状态下在驱动磁体410和412与驱动线圈420和422之间产生的吸引力，并且可以大于在透镜镜筒200的非驱动状态下在驱动磁体410和412与驱动线圈420和422之间产生的吸引力。位置恢复构件510和520可以与透镜镜筒200以及驱动磁体410和412的位移AFL形成预定的尺寸关系。例如，第一位置恢复构件510的总高度Yh1可以小于第一驱动磁体410的总高度Mh1和位移AFL的一半的总和(Mh1+AFL/2)，并且第二位置恢复构件520的总高度Yh2可以小于第二驱动磁体412的总高度Mh2和位移AFL的一半的总和(Mh2+AFL/2)。此外，位置恢复构件510和520的总高度Yh1和Yh2可以分别小于彼此面对的驱动磁体410和412的总高度Mh1和Mh2。
如上所述配置的相机模块16可以减少或抑制由于外部冲击而引起的透镜镜筒200和镜筒支架300的抖动。例如，当透镜镜筒200和镜筒支架300由于外部冲击而向上移动或振动时，位置恢复构件510和520可以通过与驱动磁体410和412的相互作用(吸引力)而向下拉动透镜镜筒200和镜筒支架300。相反，当透镜镜筒200和镜筒支架300由于外部冲击而向下移动或振动时，位置恢复构件510和520可以通过与驱动磁体410和412的相互作用(吸引力)向上拉动透镜镜筒200和镜筒支架300。因此，根据一个或多个实施例的相机模块可以减小由透镜镜筒200和镜筒支架300的突然移动或振动引起的噪声，以及减小由于外部冲击引起的透镜镜筒200和镜筒支架300的快速移动或振动。
此外，根据一个或多个实施例的相机模块可以确保透镜镜筒200和镜筒支架300的水平稳定性。例如，设置在透镜镜筒200的一侧和另一侧上的驱动磁体410和412可以减轻透镜镜筒200和镜筒支架300在相对于光轴C倾斜的方向上抖动或倾斜的现象。此外，设置在壳体100的对角线位置上的滚珠支承件610和620可以使得透镜镜筒200和镜筒支架300能够在光轴方向上稳定地驱动。因此，根据一个或多个实施例的相机模块可以提高透镜镜筒200和镜筒支架300在光轴方向上的移动的可靠性。
因此，如以上关于图1至图12所述的，根据一个或多个实施例，电子设备的一个或多个相机模块的透镜镜筒的抖动效应(例如，由于外部冲击)可以显著降低。如上所述，在一个或多个示例中，电子设备是移动或便携式电子设备，例如移动电话或计算机。
虽然本公开包括具体示例，但在理解本申请的公开内容之后将显而易见的是，在不背离权利要求及其等同的精神和范围的情况下，可对这些示例作出形式和细节上的各种变化。本文中所描述的示例应仅以描述性意义解释，而非出于限制的目的。对每个示例中的特征或方面的描述应被认为可适用于其它示例中的相似的特征或方面。如果以不同的顺序执行所描述的技术，和/或如果以不同的方式组合和/或用其它部件或它们的等同件替换或增补所描述的系统、架构、装置或电路中的部件，则也可以获得合适的结果。因此，本公开内容的范围不通过具体实施方式限定，而是通过所附权利要求及其等同限定，并且在所附权利要求及其等同的范围之内的全部变型应被理解为包括在本公开内容中。

Claims (20)

1.一种相机模块，包括：
壳体；
透镜镜筒，设置在所述壳体中；
透镜镜筒驱动单元，包括驱动磁体和驱动线圈，配置为沿光轴方向驱动所述透镜镜筒；
位置恢复构件，设置为面对所述驱动磁体；以及
图像传感器，
其中，满足条件表达式Yh<(Mh-AFL/2)，
其中，Yh是所述位置恢复构件在所述光轴方向上的总长度，Mh是所述驱动磁体在所述光轴方向上的总长度，以及AFL是所述透镜镜筒在所述光轴方向上的最大位移。
2.根据权利要求1所述的相机模块，还包括：
一个或多个滚珠支承件，设置在所述透镜镜筒和所述壳体之间。
3.根据权利要求1所述的相机模块，其中，所述透镜镜筒驱动单元包括：
第一驱动磁体和第一驱动线圈，配置成向所述透镜镜筒的一侧提供驱动力；以及
第二驱动磁体和第二驱动线圈，配置成向所述透镜镜筒的另一侧提供另一驱动力。
4.根据权利要求3所述的相机模块，其中，所述第一驱动磁体配置为具有与所述第二驱动磁体的总长度不同的总长度。
5.根据权利要求4所述的相机模块，其中，所述第一驱动磁体的总长度与所述第二驱动磁体的总长度之间的比率为0.3至0.7。
6.根据权利要求3所述的相机模块，
其中，所述位置恢复构件设置为面对所述第一驱动磁体，以及
其中，所述相机模块还包括另一位置恢复构件，所述另一位置恢复构件设置为面对所述第二驱动磁体。
7.根据权利要求6所述的相机模块，其中，满足另一条件表达式Yh2<(Mh2-AFL/2)。
其中，Yh2是所述另一位置恢复构件在所述光轴方向上的总长度，并且Mh2是所述第二驱动磁体在所述光轴方向上的总长度。
8.根据权利要求1所述的相机模块，其中，所述位置恢复构件在所述光轴方向上的总长度小于所述驱动磁体在所述光轴方向上的总长度。
9.一种相机模块，包括：
壳体；
透镜镜筒，配置成能够在光轴方向上移动；
镜筒支架，联接到所述透镜镜筒，并设置在所述壳体内；
透镜镜筒驱动单元，配置为在所述光轴方向上驱动所述透镜镜筒，并且包括驱动磁体和驱动线圈；
位置恢复构件，配置为在与光轴相交的方向上面对所述驱动磁体；以及
图像传感器，
其中，所述位置恢复构件在所述光轴方向上的总长度小于所述驱动磁体在所述光轴方向上的总长度，以限制所述透镜镜筒在所述光轴方向上的位移。
10.根据权利要求9所述的相机模块，其中，所述位置恢复构件向所述驱动磁体施加被动吸引力，以限制所述透镜镜筒在所述光轴方向上的位移。
11.根据权利要求9所述的相机模块，还包括：
一个或多个滚珠支承件，设置在所述壳体的导向槽和所述镜筒支架的导向槽之间。
12.根据权利要求11所述的相机模块，其中，所述一个或多个滚珠支承件包括两个或更多个滚珠支承件，并且所述两个或更多个滚珠支承件分别设置在所述壳体和所述镜筒支架的对角的部分处。
13.根据权利要求11所述的相机模块，其中，所述一个或多个滚珠支承件包括两个或更多个滚珠支承件，并且所述两个或更多个滚珠支承件设置在所述壳体的一个表面和所述镜筒支架的一个表面之间。
14.根据权利要求9所述的相机模块，其中，所述透镜镜筒驱动单元包括：
第一驱动磁体和第一驱动线圈，配置成向所述透镜镜筒的一侧提供驱动力；以及
第二驱动磁体和第二驱动线圈，配置成向所述透镜镜筒的另一侧提供另一驱动力。
15.根据权利要求14所述的相机模块，其中，所述第一驱动磁体配置为具有与所述第二驱动磁体的总长度不同的总长度。
16.根据权利要求15所述的相机模块，其中，所述第一驱动磁体的总长度与所述第二驱动磁体的总长度之间的比率为0.3到0.7。
17.根据权利要求14所述的相机模块，
其中，所述位置恢复构件设置为面对所述第一驱动磁体，Yh1是所述位置恢复构件在所述光轴方向上的总长度，Mh1是所述第一驱动磁体在所述光轴方向上的总长度，AFL是所述透镜镜筒在所述光轴方向上的最大位移，并且满足条件表达式Yh1<(Mh1-AFL/2)，以及
其中，所述相机模块还包括另一位置恢复构件，所述另一位置恢复构件设置为面对所述第二驱动磁体，其中，Yh2是所述另一位置恢复构件在所述光轴方向上的总长度，Mh2是所述第二驱动磁体在所述光轴方向上的总长度，且满足另一条件表达式Yh2<(Mh2-AFL/2)。
18.根据权利要求9所述的相机模块，还包括：
电路板，设置成围绕所述壳体的开口部分并且电连接到所述驱动线圈。
19.根据权利要求9所述的相机模块，还包括：
屏蔽罩，联接到所述壳体并且配置成阻挡外部电磁波。
20.根据权利要求19所述的相机模块，还包括：
夹构件，联接到所述镜筒支架；以及
缓冲构件，设置在所述夹构件上。
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