CN113959262A - 一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法 - Google Patents

一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN113959262A
CN113959262A CN202111091854.1A CN202111091854A CN113959262A CN 113959262 A CN113959262 A CN 113959262A CN 202111091854 A CN202111091854 A CN 202111091854A CN 113959262 A CN113959262 A CN 113959262A
Authority
CN
China
Prior art keywords
optical axis
pupil
imaging
axis
calibration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202111091854.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113959262B (zh
Inventor
武春风
王晓丹
吴丰阳
董理治
江颖
马社
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CASIC Microelectronic System Research Institute Co Ltd
Original Assignee
CASIC Microelectronic System Research Institute Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CASIC Microelectronic System Research Institute Co Ltd filed Critical CASIC Microelectronic System Research Institute Co Ltd
Priority to CN202111091854.1A priority Critical patent/CN113959262B/zh
Publication of CN113959262A publication Critical patent/CN113959262A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113959262B publication Critical patent/CN113959262B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F41—WEAPONS
    • F41G—WEAPON SIGHTS; AIMING
    • F41G1/00—Sighting devices
    • F41G1/06—Rearsights
    • F41G1/16—Adjusting mechanisms therefor; Mountings therefor
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F41—WEAPONS
    • F41H—ARMOUR; ARMOURED TURRETS; ARMOURED OR ARMED VEHICLES; MEANS OF ATTACK OR DEFENCE, e.g. CAMOUFLAGE, IN GENERAL
    • F41H13/00—Means of attack or defence not otherwise provided for
    • F41H13/0043—Directed energy weapons, i.e. devices that direct a beam of high energy content toward a target for incapacitating or destroying the target
    • F41H13/005—Directed energy weapons, i.e. devices that direct a beam of high energy content toward a target for incapacitating or destroying the target the high-energy beam being a laser beam
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/003—Alignment of optical elements
    • G02B7/005—Motorised alignment
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
    • G02B7/1821—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors for rotating or oscillating mirrors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Telescopes (AREA)
  • Studio Devices (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，包括步骤：通过参考光在光轴和光瞳相机上成像，成像后与标定的位置和角度作差，然后控制调整快反镜的姿态实现成像光轴、发射光轴和转台机械轴的标定。本发明实现成像光轴、发射光轴和机械轴的动态重合，消除产品因温度、振动等复杂环境引起的光轴变化，提高了装备的瞄准精度，具有实时性、稳定性、动态闭环的优点。

Description

一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法
技术领域
本发明涉及光电跟瞄成像技术领域，更为具体的，涉及一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法。
背景技术
光束控制与跟踪瞄准装备(简称ATP)是激光定向能武器的重要组成部分，其目的是将高能激光经过光电跟瞄转台到发射望远镜上，将激光聚焦到远场目标上，对目标实现打击和摧毁。主要作用是完成目标跟踪探测、内光路光轴标校、高精度瞄准等功能。
目前，现有技术存在如下缺点：由于主激光发射光轴、成像光学视轴和光电转台的机械轴存在偏差，系统对目标的跟踪精度和瞄准精度有待提高；同时，成像波段和激光发射波段不是同一个波段导致需要两个探测系统，探测系统的空间大、成本高。同时，产品因温度、振动等复杂环境引起的光轴变化，导致装备瞄准精度的实时性、稳定性较差。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，实现成像光轴、发射光轴和机械轴的动态重合，消除产品因温度、振动等复杂环境引起的光轴变化，提高装备的瞄准精度，具有实时性、稳定性、动态闭环的优点等。
本发明的目的是通过以下方案实现的：
一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，包括步骤：通过参考光在光轴和光瞳相机上成像，成像后与标定的位置和角度作差，然后控制调整快反镜的姿态实现成像光轴、发射光轴和转台机械轴的标定。
进一步地，包括子步骤：
S1，控制光束跟瞄装备的光电转台旋转，进行光轴和光电转台机械轴标校；
S2，通过光电转台的旋转，参考光通过机架后，在光轴、光瞳相机上进行点光源成像，且随着光电转台的旋转，光轴、光瞳相机上点光源的质心发生变化，该变化信息被探测后输入到控制器进行图像处理；
S3，通过图像处理，控制器的CPU将质心的变化取均方差且与初装配时的基准作差，然后将值反馈给光电转台的快反镜，快反镜通过调整自己的姿态，将成像光轴和光电转台的机械轴重合；
S4，光电成像光轴和光电转台的机械轴标定后，出主激光，进行发射光轴和成像视轴、机械轴的标校；
S5，主激光发出的光经过快反镜和反射镜反射，仍有主激光透过反射镜，透过反射镜后在光轴相机上成像，该成像信息输入到控制器进行图像处理；
S6，通过图像处理，控制器的CPU将主激光与参考光的成像值作差，并将差值反馈给光电转台的快反镜，快反镜通过调整自己的姿态，将成像光轴、机械轴和发射光轴重合。
进一步地，在步骤S1之前包括步骤：上电，上电后启动光束跟瞄装备的操控计算机，并启动光电转台机架，参考光工作，快反镜进行初始零位自检。
进一步地，包括步骤：基于共孔径缩束系统、第一分光镜、光轴探测成像系统和光瞳探测成像系统，实施如上任一所述方法所包含的步骤；且所述共孔径缩束系统通过第一分光镜分别与光轴探测成像系统和光瞳探测成像系统光路连接。
进一步地，所述第一分光镜在波段0.44um～1.7um区间为半反半透。
进一步地，所述光轴探测成像系统透过分光镜成像，所述光瞳探测系统经过分光镜反射成像。
进一步地，所述共孔径缩束系统的物镜和目镜采用正负透镜组。
进一步地，所述的光轴探测成像系统和光瞳探测成像系统均用于对系统成像视轴、发射视轴和转台机械轴进行成像，其中光轴探测成像用于光轴的角度标定，光瞳探测成像用于光轴的位置标定。
进一步地，所述参考光包括532nm的绿光。
本发明的有益效果包括：
本发明实施例可以实现成像光轴、发射光轴和机械轴的动态重合，消除产品因温度、振动等复杂环境引起的光轴变化，提高装备的瞄准精度，具有实时性、稳定性、动态闭环的优点等。
本发明实施例基于的光学系统，用在光束控制与跟踪瞄准装备中，是该装备的内光路稳定系统，通过该光学系统能够校正主激光、光学视轴和光电转台的机械轴的偏差，保证系统对目标的跟踪精度和瞄准精度；通过与快反镜闭环的方式实现成像光轴、发射光轴和机械轴的动态重合，消除产品因温度、振动等复杂环境引起的光轴变化，提高装备的瞄准精度，具有实时性、稳定性、动态闭环的优点。
本发明实施例基于的光学系统，光轴探测系统的焦距较长、分辨率高，可提高系统的瞄准精度。
本发明实施例的光瞳探测系统的缩束倍率为100倍，具有高的缩束倍率满足系统对主激光、参考绿光和照明光多波段的缩束要求。
本发明实施例利用光轴和光瞳探测的光斑，实时输出脱靶量与控制的快返镜进行闭环，提高系统的稳定性，满足在动平台下、随行下的目标跟踪和瞄准。
本发明实施例基于的光学系统的光学材料全部采用国产光学材料，且利用共孔径的优势，降低了产品的成本。
本发明实施例基于的光学系统稳定性好、工程化高，易于实现。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例的标校流程图；
图2是本发明光轴、光瞳标校图；
图3是本发明实施例基于的光学系统总图；
图4是本发明实施例基于的光学系统的光瞳成像点列斑图；
图5是本发明实施例基于的光学系统的光轴成像点列斑图；
图6是本发明实施例基于的光学系统的光轴成像MTF曲线图；
图中，101-共孔径缩束系统；102-第一分光镜；103-第一反射镜；104- 光轴成像光学系统；105-光轴成像探测器；106-光瞳成像光学系统；107-光瞳成像探测器；1-激光耦合系统；2-光电转台；3-发射望远镜；4-粗跟踪成像探测系统；5-角锥棱镜；6-激光器；7-第二反射镜；8-第二分光镜；9-发射望远镜主镜；10-发射望远镜次镜；11-参考光；12-第三分光镜。
具体实施方式
本说明书中所有实施例公开的所有特征，或隐含公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合和/或扩展、替换。
如图1～图6所示，一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，包括步骤：通过参考光在光轴和光瞳相机上成像，成像后与标定的位置和角度作差，然后控制调整快反镜的姿态实现成像光轴、发射光轴和转台机械轴的标定。
在可选的实施方式中，包括子步骤：
S1，控制光束跟瞄装备的光电转台旋转，进行光轴和光电转台机械轴标校；
S2，通过光电转台的旋转，参考光通过机架后，在光轴、光瞳相机上进行点光源成像，且随着光电转台的旋转，光轴、光瞳相机上点光源的质心发生变化，该变化信息被探测后输入到控制器进行图像处理；
S3，通过图像处理，控制器的CPU将质心的变化取均方差且与初装配时的基准作差，然后将值反馈给光电转台的快反镜，快反镜通过调整自己的姿态，将成像光轴和光电转台的机械轴重合；
S4，光电成像光轴和光电转台的机械轴标定后，出主激光，进行发射光轴和成像视轴、机械轴的标校；
S5，主激光发出的光经过快反镜和反射镜反射，仍有主激光透过反射镜，透过反射镜后在光轴相机上成像，该成像信息输入到控制器进行图像处理；
S6，通过图像处理，控制器的CPU将主激光与参考光的成像值作差，并将差值反馈给光电转台的快反镜，快反镜通过调整自己的姿态，将成像光轴、机械轴和发射光轴重合。
在可选的实施方式中，在步骤S1之前包括步骤：上电，上电后启动光束跟瞄装备的操控计算机，并启动光电转台机架，参考光工作，快反镜进行初始零位自检。
在可选的实施方式中，包括步骤：基于共孔径缩束系统101、第一分光镜102、光轴探测成像系统和光瞳探测成像系统，实施如权利要求1～3中任一方法所包含的步骤；且共孔径缩束系统101通过第一分光镜102分别与光轴探测成像系统和光瞳探测成像系统光路连接。
在可选的实施方式中，第一分光镜102在波段0.44um～1.7um区间为半反半透。
在可选的实施方式中，光轴探测成像系统透过分光镜成像，光瞳探测系统经过分光镜反射成像。
在可选的实施方式中，共孔径缩束系统101的物镜和目镜采用正负透镜组。
在可选的实施方式中，的光轴探测成像系统和光瞳探测成像系统均用于对系统成像视轴、发射视轴和转台机械轴进行成像，其中光轴探测成像用于光轴的角度标定，光瞳探测成像用于光轴的位置标定。
在可选的实施方式中，参考光包括532nm的绿光。
如图1～图6所示，一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校方法的标校原理如图2所示，通过图2中的11发出参考光11，如图2中的点划线，参考光通过光电转台2后，再通过第二分光镜8上面的相对532nm波段半反半透反射镜反射，透过下面的相对532nm波段半反半透反射镜后，入射到角锥棱镜5，角锥棱镜5将入射的参考光180°反射回去，经过第二分光镜8下面的反射镜后反射到第二反射镜7相对532nm波段全反反射镜，然后进入到光轴和光瞳探测系统成像。然后，旋转光电转台参考光在光轴和光瞳相机上对动态旋转，通过求解动态光斑的质心，解算出光斑与初始装调标校的光斑中心的偏差值，通过图2中的光电转台2画的小三角的反射镜 (简称“快返镜”)调整镜子的姿态，使得光学精跟踪光学成像视轴和光电转台2的机械轴重合。因此，结构随着温度、振动等环境的影响，只要耦合光轴光瞳相机的闭环点光斑的质心反射变化，其光电转台2的快返镜就实时的改变镜子的姿态保证系统成像光轴和光电转台的机械轴重合。然后，再标校发射激光的发射光轴和成像光轴，方法为主激光发射激光，发射的光经过激光器6快反镜反射后，经过第二分光镜8下面的反射镜反射，只有一部分透过的光经过第二反射镜7反射后入射到光轴和光瞳探测系统，主激光点光源在光轴像机上的点与标定后的参考光的点做有一个差值，通过调整主激光的快反镜使得主激光与标定后的参考光重合。
在本发明实施例中，光轴和光瞳标校光学系统的波段为可见光、近红外和短波，由于波段比较长，系统的色差较大，因此在共孔径缩束系统中物镜和目镜都采用阿贝束像差较大，局部色散系数较小的光学材料来校正系统的色差。物镜采用的材料是H-ZPK7和H-ZLAF2A；目镜采用的材料是D-ZK3L和D-LAF050。
在本发明实施例中，光轴和光瞳的成像原理是入射的光经过共孔径缩束系统后，经过分光镜，分光镜镀半反半透的光学介质膜，分别对光瞳相机成和光轴相机成像。
在本发明实施例中，光瞳探测系统的缩束倍率为100倍；光轴探测系统焦距1700mm，F数为17。光轴和光瞳探测器均采用系统采用2000×2000 的焦平面探测器，像元分辨率为5.5um，使用波长覆盖可见光、近红外和短波红外。
从图4可知，光瞳光学系统的光斑点列图大部分都在光学系统的衍射极限艾里斑内。
从图5、图6可知，光轴光学系统的光斑点列图都在光学系统的衍射极限艾里斑内。MTF曲线靠近衍射极限。
如图2所示，激光耦合系统1作用就是将发射激光和参考光11的光轴进行标定，并通过耦合将主激光导入到光电跟踪转台。发射望远镜3为系统的发射光路，该发射望远镜3是离轴发射系统，没有遮拦比，可以将激光全部聚焦到目标上，发射望远镜主镜9和发射望远镜次镜10构成发射望远系统。粗跟踪探测成像系统4包括可见光、近红外探测系统、中波红外探测系统、短波探测系统，作用是捕获目标后，将图像的脱靶量与转台的控制系统形成闭环，使得目标稳定锁定在目标的探测器视场内。参考光11 为532nm的绿光激光器，该激光器是内光路的标校基准，利用参考光11可以在光轴和光瞳探测器上成像。第三分光镜12为参考光和主激光的分光镜，参考光为透射，主激光为反射。
本发明实施例方法，主要用于对光电跟瞄装备的光学视轴和机械轴的进行标校，标校的光学系统主要由共孔径缩束系统、分光镜、光轴探测成像系统和光瞳探测成像系统构成，本发明实施例方法在参考光通过缩束系统后，经过分光镜，光瞳探测系统和光轴探测系统分别对参考点光源成像。光轴和光瞳探测器则记录下参考点的坐标值，通过快反镜使得光瞳和光轴的点坐标与初始装调的时候一样，使得光学成像视轴和光电跟踪转台的机械轴同轴。主激光通过缩束系统后，经过分光镜，光瞳探测系统和光轴探测系统分别主激光成像，成像的点与参考光初始标校的偏差值反馈给快反镜，使得发射光轴和成像视轴、光电跟踪转台的机械轴同轴。
本发明未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
上述技术方案只是本发明的一种实施方式，对于本领域内的技术人员而言，在本发明公开了应用方法和原理的基础上，很容易做出各种类型的改进或变形，而不仅限于本发明上述具体实施方式所描述的方法，因此前面描述的方式只是优选的，而并不具有限制性的意义。
除以上实例以外，本领域技术人员根据上述公开内容获得启示或利用相关领域的知识或技术进行改动获得其他实施例，各个实施例的特征可以互换或替换，本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围，则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。

Claims (9)

1.一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，其特征在于，包括步骤：通过参考光在光轴和光瞳相机上成像，成像后与标定的位置和角度作差，然后控制调整快反镜的姿态实现成像光轴、发射光轴和转台机械轴的标定。
2.根据权利要求1所述的用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，其特征在于，包括子步骤：
S1，控制光束跟瞄装备的光电转台旋转，进行光轴和光电转台机械轴标校；
S2，通过光电转台的旋转，参考光通过机架后，在光轴、光瞳相机上进行点光源成像，且随着光电转台的旋转，光轴、光瞳相机上点光源的质心发生变化，该变化信息被探测后输入到控制器进行图像处理；
S3，通过图像处理，控制器的CPU将质心的变化取均方差且与初装配时的基准作差，然后将值反馈给光电转台的快反镜，快反镜通过调整自己的姿态，将成像光轴和光电转台的机械轴重合；
S4，光电成像光轴和光电转台的机械轴标定后，出主激光，进行发射光轴和成像视轴、机械轴的标校；
S5，主激光发出的光经过快反镜和反射镜反射，仍有主激光透过反射镜，透过反射镜后在光轴相机上成像，该成像信息输入到控制器进行图像处理；
S6，通过图像处理，控制器的CPU将主激光与参考光的成像值作差，并将差值反馈给光电转台的快反镜，快反镜通过调整自己的姿态，将成像光轴、机械轴和发射光轴重合。
3.根据权利要求1所述的用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，其特征在于，在步骤S1之前包括步骤：上电，上电后启动光束跟瞄装备的操控计算机，并启动光电转台机架，参考光工作，快反镜进行初始零位自检。
4.根据权利要求1～3任一所述的用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，其特征在于，包括步骤：基于共孔径缩束系统(101)、第一分光镜(102)、光轴探测成像系统和光瞳探测成像系统，实施如权利要求1～3中任一所述方法所包含的步骤；且所述共孔径缩束系统(101)通过第一分光镜(102)分别与光轴探测成像系统和光瞳探测成像系统光路连接。
5.根据权利要求4所述的用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，其特征在于，所述第一分光镜(102)在波段0.44um～1.7um区间为半反半透。
6.根据权利要求4所述的用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，其特征在于，所述光轴探测成像系统透过分光镜成像，所述光瞳探测系统经过分光镜反射成像。
7.根据权利要求4所述的用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，其特征在于，所述共孔径缩束系统(101)的物镜和目镜采用正负透镜组。
8.根据权利要求4所述的用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，其特征在于，所述的光轴探测成像系统和光瞳探测成像系统均用于对系统成像视轴、发射视轴和转台机械轴进行成像，其中，光轴探测成像用于光轴的角度标定，光瞳探测成像用于光轴的位置标定。
9.根据权利要求1所述的用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法，其特征在于，所述参考光包括532nm的绿光。
CN202111091854.1A 2021-09-17 2021-09-17 一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法 Active CN113959262B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111091854.1A CN113959262B (zh) 2021-09-17 2021-09-17 一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111091854.1A CN113959262B (zh) 2021-09-17 2021-09-17 一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113959262A true CN113959262A (zh) 2022-01-21
CN113959262B CN113959262B (zh) 2023-05-23

Family

ID=79461860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111091854.1A Active CN113959262B (zh) 2021-09-17 2021-09-17 一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113959262B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114994931A (zh) * 2022-05-27 2022-09-02 合肥英睿系统技术有限公司 前置瞄准装置及组合式瞄准系统

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4385834A (en) * 1980-07-28 1983-05-31 Westinghouse Electric Corp. Laser beam boresight system
CN103149657A (zh) * 2013-03-18 2013-06-12 中国工程物理研究院应用电子学研究所 一种光学平台间光路传输中光轴稳定装置及控制方法
CN104049354A (zh) * 2014-07-05 2014-09-17 中国科学院光电技术研究所 一种自动调整激光通信望远镜方位轴与发射光轴重合的方法
CN107045192A (zh) * 2017-03-24 2017-08-15 中国工程物理研究院应用电子学研究所 一种用于共孔径望远镜收发光轴校准装置及方法
CN112648887A (zh) * 2020-12-16 2021-04-13 航天科工微电子系统研究院有限公司 基于共架雷达复合探测的光电跟踪与控制方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4385834A (en) * 1980-07-28 1983-05-31 Westinghouse Electric Corp. Laser beam boresight system
CN103149657A (zh) * 2013-03-18 2013-06-12 中国工程物理研究院应用电子学研究所 一种光学平台间光路传输中光轴稳定装置及控制方法
CN104049354A (zh) * 2014-07-05 2014-09-17 中国科学院光电技术研究所 一种自动调整激光通信望远镜方位轴与发射光轴重合的方法
CN107045192A (zh) * 2017-03-24 2017-08-15 中国工程物理研究院应用电子学研究所 一种用于共孔径望远镜收发光轴校准装置及方法
CN112648887A (zh) * 2020-12-16 2021-04-13 航天科工微电子系统研究院有限公司 基于共架雷达复合探测的光电跟踪与控制方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114994931A (zh) * 2022-05-27 2022-09-02 合肥英睿系统技术有限公司 前置瞄准装置及组合式瞄准系统
CN114994931B (zh) * 2022-05-27 2023-08-01 合肥英睿系统技术有限公司 前置瞄准装置及组合式瞄准系统

Also Published As

Publication number Publication date
CN113959262B (zh) 2023-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106405860B (zh) 基于折反式红外成像光学系统的装调方法
CN102385170B (zh) 一种高精度测量调整光学镜片中心偏差的光学系统
EP3465272A1 (en) High-performance beam director for high-power laser systems or other systems
CN112596230B (zh) 用于光电跟踪主动层析照明的光路系统
US20220082697A1 (en) Laser radar
CN108051908B (zh) 一种成像光学系统
CN112558286A (zh) 用于光电跟瞄装备的大口径动态调光大光程短波光学系统
CN113866969B (zh) 一种用于光束跟瞄装备的光路系统
CN114216659B (zh) 一种大口径长焦距光轴平行度的测量系统及其测量方法
CN113125119A (zh) 多谱段复合光电设备调焦调轴用离轴目标模拟器及方法
CN113959262A (zh) 一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校的方法
CN111123536A (zh) 一种基于双探测器的激光发射光轴校正装置
CN114609773A (zh) 一种高功率激光库德光路调试方法
CN112526531B (zh) 一种具有多目标激光测距功能的双视场红外成像系统
CN114185025A (zh) 一种用于光束跟瞄装备的光轴光瞳标校复合光学系统
CN210294682U (zh) 一种双通道红外场景模拟器装置
CN113934234B (zh) 一种光束跟踪控制装备的光学方法
CN113985590B (zh) 一种应用于光电跟踪粗探测的宽波段光学系统
CN114089310B (zh) 一种激光束靶耦合传感器
CN114486198B (zh) 大口径反射镜检测系统
Tao Optical System Selection of Remote Sensor
CN215218016U (zh) 多谱段复合光电设备调焦调轴用离轴目标模拟器
Maxey Novel technique for aligning paraboloids
Li et al. Design and alignment of off‐axis reflection beam expanding and contracting optical system
Nan et al. Uncertainty analysis and optimization design of long-distance laser triangulation displacement sensor applied to dynamic object

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant