CN113935404A - 一种光场显著性检测数据集清晰度评价方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光场显著性检测数据集清晰度评价方法。首先通过显著性区域掩膜制作三个掩膜,并获取对应的窗函数;通过掩膜A获得光场焦堆栈图像显著性区域图像;用傅里叶变换将焦堆栈显著性区域图像从空域转换到频域,获得其频谱信息;对显著性区域高频信息进行傅里叶反变换,得到空域图像;用腐蚀的掩膜B截取空域高频部分,计算高频图像灰度值之和,用以表示焦堆栈图像显著性区域高频能量值大小;对堆栈图像显著性区域高频能量值进行归一化,用来表示该图片的训练权重。本发明针对数据集焦堆栈中显著性区域进行清晰程度判定,并以此作为焦堆栈中该图片训练权重的评价标准,显著性区域越清晰,则该图片的训练权重越高。
Description
技术领域
本发明涉及显著性检测领域,是一种光场显著性检测数据集焦堆栈中不同层图像质量的评价方法。
技术背景
显著性监测需要相应的数据集进行网络训练,从数据结构分类,有彩色数据集、RGB-D数据集、光场显著性检测数据集等。其中光场显著性检测数据集中每个场景以焦堆栈形式存在,并且数据集中焦堆栈通常是无序的,因此输入网络进行训练时,焦堆栈中每张图片的权重的判定对网络训练尤为重要。
发明内容:
针对现有技术中存在的不足,本发明提出一种光场显著性检测数据集清晰度评价方法。
光场显著性检测数据集中每一个场景有一组焦堆栈、一张全聚焦图、一张显著性区域mask组成,以一组焦堆栈包括N张不同焦距图片为例,则一个场景由N+2张图片记录表示。
一种光场显著性检测数据集清晰度评价方法,对N张焦堆栈图片中显著性区域的清晰度进行评价,获得每一张焦堆栈图片的训练权重,具体步骤如下:
步骤一:通过光场显著性检测数据集中显著性区域掩膜Imask制作三个掩膜,并获取对应的窗函数maskcirc。
光场显著性检测数据集中的一个场景由N张图片一组的焦堆栈I1,I2,.....,IN、一个全聚焦图Ifocus、一张显著性区域掩膜Imask共N+2张图片组成。将显著性区域掩膜Imask进行二值化处理得到Amask,即Amask=Imask&Imask;
对Amask进行先腐蚀后膨胀操作,去除掉Imask中小的连通域,得到掩膜A1;
对A1进行膨胀操作,得到掩膜A,膨胀强度为3~5个像素;
对A1进行腐蚀操作,得到掩膜B,腐蚀强度为3~5个像素;
窗函数maskcirc与显著性区域掩膜Imask尺寸相同,并且窗口位于maskcirc中央;
步骤二:通过掩膜A获得光场焦堆栈图像显著性区域图像。
进一步的,所述的步骤三具体方法如下:
本发明有益效果如下:
本发明针对数据集焦堆栈中显著性区域进行清晰程度判定,并以此作为焦堆栈中该图片训练权重的评价标准,显著性区域越清晰,则该图片的训练权重越高。
具体实施方式
一种光场显著性检测数据集清晰度评价方法,本方法对N张焦堆栈图片中显著性区域的清晰度进行评价,获得每一张焦堆栈图片的训练权重,具体步骤如下:
步骤一:通过光场显著性检测数据集中显著性区域掩膜Imask制作三个掩膜,并获取对应的窗函数maskcirc。
光场显著性检测数据集中的一个场景由N张图片一组的焦堆栈I1,I2,......,IN、一个全聚焦图Ifocus、一张显著性区域掩膜Imask共N+2张图片组成。将显著性区域掩膜Imask进行二值化处理得到Amask,即Amask=Imask&Imask;
对Amask进行先腐蚀后膨胀操作,去除掉Imask中小的连通域,得到掩膜A1;
对A1进行膨胀操作,得到掩膜A,膨胀强度为3~5个像素;
对A1进行腐蚀操作,得到掩膜B,腐蚀强度为3~5个像素;
窗函数maskcirc与显著性区域掩膜Imask尺寸相同,并且窗口位于maskcirc中央;
步骤二:通过掩膜A获得光场焦堆栈图像显著性区域图像。
Claims (2)
1.一种光场显著性检测数据集清晰度评价方法,其特征在于,对N张焦堆栈图片中显著性区域的清晰度进行评价,获得每一张焦堆栈图片的训练权重,具体步骤如下:
步骤一:通过光场显著性检测数据集中显著性区域掩膜Imask制作三个掩膜,并获取对应的窗函数maskcirc;
光场显著性检测数据集中的一个场景由N张图片一组的焦堆栈I1,I2,......,IN、一个全聚焦图Ifocus、一张显著性区域掩膜Imask共N+2张图片组成;将显著性区域掩膜Imask进行二值化处理得到Amask,即Amask=Imask&Imask;
对Amask进行先腐蚀后膨胀操作,去除掉Imask中小的连通域,得到掩膜A1;
对A1进行膨胀操作,得到掩膜A,膨胀强度为3~5个像素;
对A1进行腐蚀操作,得到掩膜B,腐蚀强度为3~5个像素;
窗函数maskcirc与显著性区域掩膜Imask尺寸相同,并且窗口位于maskcirc中央;
步骤二:通过掩膜A获得光场焦堆栈图像显著性区域图像;
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CN202111120902.5A Pending CN113935404A (zh) | 2021-09-24 | 2021-09-24 | 一种光场显著性检测数据集清晰度评价方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116777750A (zh) * | 2023-07-31 | 2023-09-19 | 山东黄河三角洲国家级自然保护区管理委员会 | 一种基于视差维滤波的聚焦堆栈视差维超分辨方法和装置 |
CN117253054A (zh) * | 2023-11-20 | 2023-12-19 | 浙江优众新材料科技有限公司 | 一种光场显著性检测方法及其相关设备 |
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2021
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN116777750A (zh) * | 2023-07-31 | 2023-09-19 | 山东黄河三角洲国家级自然保护区管理委员会 | 一种基于视差维滤波的聚焦堆栈视差维超分辨方法和装置 |
CN116777750B (zh) * | 2023-07-31 | 2023-12-26 | 山东黄河三角洲国家级自然保护区管理委员会 | 一种基于视差维滤波的聚焦堆栈视差维超分辨方法和装置 |
CN117253054A (zh) * | 2023-11-20 | 2023-12-19 | 浙江优众新材料科技有限公司 | 一种光场显著性检测方法及其相关设备 |
CN117253054B (zh) * | 2023-11-20 | 2024-02-06 | 浙江优众新材料科技有限公司 | 一种光场显著性检测方法及其相关设备 |
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