CN113316279A - 用于加热装置的控制方法以及加热装置 - Google Patents

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CN113316279A CN202010125591.0A CN202010125591A CN113316279A CN 113316279 A CN113316279 A CN 113316279A CN 202010125591 A CN202010125591 A CN 202010125591A CN 113316279 A CN113316279 A CN 113316279A
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Abstract

本发明提供了一种用于加热装置的控制方法及加热装置。加热装置包括用于辐射电磁波的至少一个辐射组,每个辐射组包括多个辐射单元。控制方法包括:感测待处理物的多个感测点的温度,多个感测点与至少一个辐射组的多个辐射单元相对应;根据每个辐射单元与其相邻辐射单元对应的温度,调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向。本发明根据多个辐射单元对应感测点的温度调节对应辐射单元的电磁波辐射方向,使得电磁波在待处理物的吸收电磁波能力强的部分和吸收电磁波能力差的部分的分布更加合理,均衡了对待处理物不同部分的加热效率,提高了待处理物的温度均匀性。

Description

用于加热装置的控制方法以及加热装置
技术领域
本发明涉及食物处理领域,特别是涉及一种用于电磁波加热装置的控制方法以及加热装置。
背景技术
食物在冷冻的过程中,食物的品质得到了保持,然而冷冻的食物在加工或食用前需要解冻。为了便于用户解冻食物,通常通过电磁波加热装置来解冻食物。
通过电磁波加热装置来解冻食物,不仅速度快、效率高,而且食物的营养成分损失低。但是,由于微波对水和冰的穿透和吸收有差别,且食物内部物质分布不均匀,已融化的区域吸收的能量多,易产生解冻不均匀和局部过热的问题(例如五花肉的肥肉部分、鸡的鸡爪部分、鱼的鱼尾部分等)。
发明内容
本发明第一方面的一个目的是要克服现有技术的至少一个技术缺陷,提供一种用于电磁波加热装置的控制方法。
本发明第一方面的一个进一步的目的是要提高待处理物的温度均匀性。
本发明第二方面的一个目的是要提供一种电磁波加热装置。
根据本发明的第一方面,提供了一种用于加热装置的控制方法,所述加热装置包括用于辐射电磁波的至少一个辐射组,每个辐射组包括多个辐射单元,其中,所述控制方法包括:
感测待处理物的多个感测点的温度,所述多个感测点与所述至少一个辐射组的多个辐射单元相对应;
根据每个所述辐射单元与其相邻辐射单元对应的温度,调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向。
可选地,所述根据每个所述辐射单元与其相邻辐射单元对应的温度调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向的步骤包括:
判断是否存在所述辐射单元对应的温度大于其相邻辐射单元对应的温度且温差大于等于第一温度阈值的情况;
若是,调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向与其温差最大的相邻辐射单元的对应区域偏移。
可选地,在存在多个所述辐射单元对应的温度大于其相邻辐射单元对应的温度且温差大于等于第一温度阈值的情况下,首先调节对应的温度大于其相邻辐射单元对应的温度且温差最大的辐射单元辐射出的电磁波的方向。
可选地,所述至少一个辐射组包括一个可在纵向方向上调整辐射出电磁波的方向的纵向辐射组,所述纵向辐射组包括沿纵向方向依次排布的第一辐射单元、第二辐射单元和第三辐射单元,所述调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向与其温差最大的相邻辐射单元的对应区域偏移的步骤包括:
在所述第二辐射单元对应的温度大于所述第一辐射单元并进一步大于所述第三辐射单元对应的温度且最大温差大于等于所述第一温度阈值的情况下,调节所述第二辐射单元的辐射出的电磁波的方向向所述第三辐射单元的对应区域偏移;
在所述第二辐射单元与所述第三辐射单元对应的温度的温差小于第二温度阈值时,若所述第二辐射单元对应的温度大于所述第一辐射单元对应的温度且温差大于等于所述第二温度阈值,调节所述第二辐射单元的辐射出的电磁波的方向向所述第一辐射单元的对应区域偏移;若所述第二辐射单元对应的温度小于等于所述第一辐射单元对应的温度或温差小于所述第二温度阈值,调节所述第二辐射单元的辐射出的电磁波的方向,使电磁波向其对应区域辐射;其中所述第二温度阈值小于所述第一温度阈值。
可选地,所述至少一个辐射组包括间隔设置并可在纵向方向上调整辐射出电磁波的方向的两个纵向辐射组、和设置于所述两个纵向辐射组之间并在横向方向上调整辐射出电磁波的方向的一个横向辐射组,所述调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向与其温差最大的相邻辐射单元的对应区域偏移的步骤包括:
在存在所述横向辐射组的辐射单元对应的温度大于其相邻的两个所述纵向辐射组的辐射单元对应的温度且最大温差大于等于所述第一温度阈值的情况下,调节该所述横向辐射组的辐射单元辐射出的电磁波方向向与其温差最大的一个所述纵向辐射组的辐射单元的对应区域偏移;
在该所述横向辐射组的辐射单元与所述一个纵向辐射组的辐射单元的温差小于第二温度阈值时,若该所述横向辐射组的辐射单元对应的温度大于另一所述纵向辐射组的辐射单元对应的温度且温差大于等于所述第二温度阈值,调节该所述横向辐射组的辐射单元辐射出的电磁波方向向所述另一纵向辐射组的辐射单元的对应区域偏移;若该所述横向辐射组的辐射单元对应的温度小于所述另一纵向辐射组的辐射单元对应的温度或温差小于所述第二温度阈值,调节该所述横向辐射组的辐射单元辐射出的电磁波的方向,使电磁波向其对应区域辐射;其中所述第二温度阈值小于所述第一温度阈值。
可选地,所述至少一个辐射组包括间隔设置并可在纵向方向上调整辐射出电磁波的方向的两个纵向辐射组、和设置于所述两个纵向辐射组之间并在横向方向上调整辐射出电磁波的方向的一个横向辐射组,每个辐射组均包括沿纵向方向依次排布的第一辐射单元、第二辐射单元和第三辐射单元,且一个所述纵向辐射组的第三辐射单元位于边缘处,所述调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向与其温差最大的相邻辐射单元的对应区域偏移的步骤包括:
在位于边缘的所述纵向辐射组的第三辐射单元与所述横向辐射组的第二辐射单元对应的温度分别为最高和最低且温差大于等于所述第一温度阈值的情况下,若该所述纵向辐射组的第二辐射单元与所述横向辐射组的第二辐射单元对应的温度的温差大于等于所述第一温度阈值,使该所述纵向辐射组的第三辐射单元停止辐射电磁波,并调节该所述纵向辐射组的第二辐射单元辐射出的电磁波方向向该所述纵向辐射组的第一辐射单元的对应区域偏移;若该所述纵向辐射组的第二辐射单元与所述横向辐射组的第二辐射单元对应的温度的温差小于所述第一温度阈值,调节该所述纵向辐射组的第三辐射单元辐射出的电磁波方向向该所述纵向辐射组的第二辐射单元的对应区域偏移。
可选地,所述控制方法,还包括:
判断是否存在所述辐射单元的对应区域无待处理物的情况;
若是,调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向靠近待处理物的方向偏移或使该辐射单元停止辐射电磁波。
可选地,所述至少一个辐射组包括一个可在纵向方向上调整辐射出电磁波的方向的纵向辐射组,所述纵向辐射组包括沿纵向方向依次排布的第一辐射单元、第二辐射单元和第三辐射单元,所述调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向靠近待处理物的方向偏移的步骤包括:
在所述第一辐射单元的对应区域无待处理物的情况下,调节所述第一辐射单元辐射出的电磁波的方向向所述第二辐射单元的对应区域偏移;
若所述第二辐射单元对应的温度大于所述第三辐射单元对应的温度且温差大于等于第一温度阈值,调节所述第二辐射单元辐射出的电磁波的方向向所述第三辐射单元的对应区域偏移。
可选地,在所述调节所述第二辐射单元辐射出的电磁波的方向向所述第三辐射单元的对应区域偏移的步骤之后还包括:
若所述第二辐射单元与所述第三辐射单元对应的温度的温差进一步大于等于第三温度阈值,调节所述第一辐射单元和所述第二辐射单元辐射出的电磁波的方向,使电磁波分别向其对应区域辐射。
根据本发明的第二方面,提供了一种加热装置,其特征在于,包括:
筒体,限定有加热室,用于放置待处理物;
电磁波发生系统,包括用于辐射电磁波的至少一个辐射组,每个辐射组包括多个辐射单元,以加热所述加热室内的待处理物;以及
控制器,配置为用于执行以上任一所述的控制方法。
本发明根据多个辐射单元对应感测点的温度调节对应辐射单元的电磁波辐射方向,使得电磁波在待处理物的吸收电磁波能力强的部分和吸收电磁波能力差的部分的分布更加合理,均衡了对待处理物不同部分的加热效率,提高了待处理物的温度均匀性。
进一步地,本发明根据相邻感测点的温差的大小来确定辐射单元的辐射方向的调节顺序,相比于同时对多个辐射单元的辐射方向进行调节,可减少调节次数,提高加热效率,并进一步地提高待处理物的温度均匀性。
进一步地,本发明在存在辐射单元的对应区域无待处理物时,将该辐射单元辐射出的电磁波向靠近待处理物的方向偏移,在保证待处理物的温度均匀性的基础上,进一步地提高了加热效率,避免了不期望的能源浪费。
根据下文结合附图对本发明具体实施例的详细描述,本领域技术人员将会更加明了本发明的上述以及其他目的、优点和特征。
附图说明
后文将参照附图以示例性而非限制性的方式详细描述本发明的一些具体实施例。附图中相同的附图标记标示了相同或类似的部件或部分。本领域技术人员应该理解,这些附图未必是按比例绘制的。附图中:
图1是根据本发明一个实施例的加热装置的示意性结构图;
图2是图1中控制器的示意性结构图;
图3是根据本发明一个实施例的多个辐射单元的布局示意图;
图4是根据本发明另一个实施例的多个辐射单元的布局示意图;
图5是根据本发明一个实施例的用于加热装置的控制方法的示意性流程图;
图6是根据本发明一个实施例的基于图3所示布局的控制方法的示意性流程图;
图7是根据本发明一个实施例的基于图4所示布局的控制方法的示意性流程图。
具体实施方式
图1是根据本发明一个实施例的加热装置100的示意性结构图。参见图1,加热装置100可包括筒体110、门体、电磁波发生系统和控制器130。
筒体110可限定有加热室,用于放置待处理物170,且其前壁可开设有取放口,用于取放待处理物170。
门体可通过适当方法与筒体110安装在一起,例如滑轨连接、铰接等,用于开闭取放口。
电磁波发生系统可至少一部分设置于筒体110内或通达至筒体110内,以在加热室内产生电磁波来加热待处理物170。
筒体110和门体可分别设置有电磁屏蔽特征,使门体在关闭状态时与筒体110导电连接,以防止电磁泄露。
电磁波发生系统可包括电磁波发生模块120、供电模块、至少一个辐射组、移相器160以及开关装置150。
电磁波发生模块120可配置为产生电磁波信号。供电模块可设置为与电磁波发生模块120电连接,以为电磁波发生模块120提供电能,进而使电磁波发生模块120产生电磁波信号。
至少一个辐射组可设置于筒体110内并与电磁波发生模块120电连接,以根据电磁波信号产生相应频率的电磁波,对加热室内的待处理物170进行加热。
每个辐射组可包括多个辐射单元,以提高加热室内电磁波的分布均匀性。
在一些实施例中,筒体110可由金属制成,以作为至少一个辐射组的接收极。在该实施例中,筒体110本身即为筒体110的电磁屏蔽特征。
在另一些实施例中,电磁波发生系统还包括与至少一个辐射组的多个辐射单元相对设置并与电磁波发生模块120电连接的一个或多个接收极板。在该实施例中,筒体110的内壁可涂覆有金属涂层或贴附有金属网等,以作为筒体110的电磁屏蔽特征。
移相器160设置为可独立调节至少一个辐射组的多个辐射单元辐射出的电磁波的方向,以使电磁波在加热室内的分布更加合理,提高加热效率和待处理物170的温度均匀性。
移相器160可包括独立受控的多个移相单元,多个移相单元分别串联在电磁波发生模块120与至少一个辐射组的多个辐射单元之间,通过调节电磁波信号的相位来调节对应辐射单元辐射出的电磁波方向。
开关装置150设置为可独立开闭至少一个辐射组的多个辐射单元,以避免不期望的能源浪费。
图2是图1中控制器130的示意性结构图。参见图2,控制器130可包括处理单元131和存储单元132。其中存储单元132存储有计算机程序133,计算机程序133被处理单元131执行时用于实现本发明实施例的控制方法。
加热装置100还可包括用于感测待处理物170的多个感测点的温度的温度感测装置,其中多个感测点与至少一个辐射组的多个辐射单元相对应。温度感测装置可包括多个温度传感器180。
至少一个辐射组可设置于加热室的底部,多个温度传感器180可设置于加热室的顶部,以在对待处理物170进行均匀加热的同时,提高温度传感器180检测到的感测点的温度的准确性。
加热室可被分割为容积间相等的多个假想空间,每个假想空间可均设置有一个辐射单元,以进一步提高待处理物170的温度均匀性。
特别地,处理单元131可配置为根据多个感测点的温度控制移相器160调节相应辐射单元辐射出的电磁波的方向,以使电磁波在待处理物170的吸收电磁波能力强的部分和吸收电磁波能力差的部分的分布更加合理,均衡了对待处理物170不同部分的加热效率,提高了待处理物170的温度均匀性。在本发明中,每个加热循环中默认为每个辐射单元初始向其本身对应的区域辐射电磁波。
具体地,处理单元131可配置为在存在辐射单元对应(感测点)的温度大于相邻辐射单元对应的温度且温差大于等于第一温度阈值W1时,控制移相器160调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向其可调范围内的与其温差最大的相邻辐射单元的对应区域偏移,以减少调节次数,进一步地提高待处理物170的温度均匀性。其中,第一温度阈值W1可为1.5~3℃,例如1.5℃、2℃、或3℃等。
处理单元131还可进一步配置为在该辐射单元对应的温度与前述“温差最大的相邻辐射单元”对应的温度小于第二温度阈值W2时,控制移相器160调节该辐射单元辐射出的电磁波停止向前述“温差最大的相邻辐射单元”的对应区域偏移,以避免电磁波的辐射方向被频繁地调节。其中,第二温度阈值W2可小于第一温度阈值W1。第二温度阈值W2可为0.75~1.5℃,例如0.75℃、1℃或1.5℃等。
处理单元131还可配置为在存在辐射单元的对应区域无待处理物170的情况下,控制移相器160调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向靠近待处理物170的方向偏移,或控制开关装置150使该辐射单元停止辐射电磁波,以在保证待处理物170的温度均匀性的基础上,避免不期望的能源浪费。
图3是根据本发明一个实施例的多个辐射单元的布局示意图。参见图3,在一些实施例中,辐射组的数量可为一个。该辐射组的多个辐射单元在加热室内可线性排列,适用于辐射组的安装平面的长宽比例较大的加热装置100,例如长宽比例大于3/2。
多个辐射单元辐射出的电磁波的可调节方向可与其排布方向相同,以便于对电磁波的分布进行调节。在图示实施例中,多个辐射单元沿纵向方向排布,且多个辐射单元辐射出的电磁波的方向可沿纵向方向调节。
在一些进一步地示例性实施例中,多个辐射单元可包括依次排布的第一辐射单元141、第二辐射单元142和第三辐射单元143,即第一辐射单元141、第二辐射单元142和第三辐射单元143相邻设置,且第二辐射单元142设置于第一辐射单元141和第三辐射单元143之间。
处理单元131可配置为在第二辐射单元142对应的温度T2大于第一辐射单元141对应的温度T1并进一步大于第三辐射单元143对应的温度T3,且最大温差大于等于第一温度阈值W1的情况下,控制移相器160调节第二辐射单元142的辐射出的电磁波的方向向第三辐射单元143的对应区域偏移,以提高第三辐射单元143对应区域的加热效率,减小第二辐射单元142与第三辐射单元143对应感测点的温差。
在第二辐射单元142与第三辐射单元143对应的温度的温差小于第二温度阈值W2时,处理单元131还可进一步配置为在第二辐射单元142对应的温度T2大于第一辐射单元141对应的温度T1且温差大于等于第二温度阈值W2的情况下,控制移相器160调节第二辐射单元142的辐射出的电磁波的方向向第一辐射单元141的对应区域偏移,以减小第二辐射单元142与第一辐射单元141对应感测点的温差;在第二辐射单元142对应的温度T2小于等于第一辐射单元141对应的温度T1或其温差小于第二温度阈值W2的情况下,调节第二辐射单元142的辐射出的电磁波的方向向其本身对应的区域辐射,以保证待处理物170的温度均匀性。
在辐射组的一个或多个辐射单元的对应区域无待处理物170的情况下,处理单元131还可配置为控制移相器160调节该一个或多个辐射单元辐射出的电磁波的方向向靠近待处理物170的方向偏移,以提高加热效率。
下面以仅第一辐射单元141的对应区域无待处理物170为例对本发明图3所示实施例的技术方案进行详细介绍。
处理单元131可配置为在确定第一辐射单元141的对应区域无待处理物170后首先控制移相器160调节第一辐射单元141辐射出的电磁波的方向向第二辐射单元142的对应区域偏移,以提高加热效率。
若第二辐射单元142对应的温度T2与第三辐射单元143对应的温度T3的温差小于第一温度阈值W1,处理单元131可继续控制移相器160调节第一辐射单元141辐射出的电磁波的方向向第二辐射单元142的对应区域偏移。
若第二辐射单元142对应的温度T2与第三辐射单元143对应的温度T3的温差大于等于第一温度阈值W1并小于第三温度阈值W3,处理单元131可配置为控制移相器160调节第一辐射单元141辐射出的电磁波的方向向第二辐射单元142的对应区域偏移,并调节第二辐射单元142辐射出的电磁波的方向向第三辐射单元143的对应区域偏移,以提高待处理物170的温度均匀性。第三温度阈值W3可为4~6℃,例如4℃、5℃、或6℃。
若第二辐射单元142对应的温度T2与第三辐射单元143对应的温度T3的温差大于等于第三温度阈值W3,处理单元131可配置为控制移相器160调节第一辐射单元141和第二辐射单元142辐射出的电磁波分别向其本身对应的区域辐射,以避免待处理物170局部过热。
图4是根据本发明另一个实施例的多个辐射单元的布局示意图。参见图4,在另一些实施例中,辐射组的数量可为多个。每个辐射组的辐射单元辐射出的电磁波的可调节方向可相同,以简化控制流程。
多个辐射组的多个辐射单元可呈矩阵式分布,以进一步地提高待处理物170的温度均匀性。
在图示实施例中,每个辐射组可包括沿纵向方向依次排布的第一辐射单元、第二辐射单元、和第三辐射单元。具体地,一个纵向辐射组可包括第一辐射单元141a、第二辐射单元142a、和第三辐射单元143a。另一个纵向辐射组可包括第一辐射单元141b、第二辐射单元142b、和第三辐射单元143b。横向辐射组可包括第一辐射单元141c、第二辐射单元142c、和第三辐射单元143c。
在一些进一步地示例性实施例中,多个辐射组可包括间隔设置并可在纵向方向上调整辐射出电磁波的方向的两个纵向辐射组、以及设置于两个纵向辐射组之间并在横向方向上调整辐射出电磁波的方向的一个横向辐射组,以实现对加热室内的电磁波分布进行充分地调节。即,纵向辐射组的多个辐射单元的排布方向与其辐射出的电磁波的可调节方向相同,横向辐射组的多个辐射单元的排布方向与其辐射出的电磁波的可调节方向垂直。
处理单元131可配置为在存在横向辐射组的辐射单元对应的温度Tc大于其相邻的两个纵向辐射组的辐射单元对应的温度Ta、Tb且其最大温差大于等于第一温度阈值W1的情况下,控制移相器160调节该横向辐射组的辐射单元辐射出的电磁波方向向与其温差最大的一个纵向辐射组的辐射单元的对应区域偏移,以提高该温差最大的一个纵向辐射组的辐射单元的对应区域的加热效率,减小温差。
例如,在辐射单元141c对应的温度Tc1大于辐射单元141a对应的温度Ta1并进一步大于辐射单元141b对应的温度Tb1,且其最大温差大于等于第一温度阈值W1的情况下,处理单元131可控制移相器160调节辐射单元141c辐射出的电磁波方向向辐射单元141b对应区域偏移。
在辐射单元141c与辐射单元141b的温差小于第二温度阈值W2时,处理单元131可进一步配置为控制移相器160在辐射单元141c对应的温度Tc1大于辐射单元141a对应的温度Ta1且温差大于等于第二温度阈值W2的情况下,调节辐射单元141c辐射出的电磁波方向向辐射单元141a的对应区域偏移,以减小辐射单元141c和辐射单元141a的对应感测点的温差;在辐射单元141c对应的温度Tc1小于辐射单元141a对应的温度Ta1且温差小于第二温度阈值W2的情况下,调节辐射单元141c辐射出的电磁波的方向,使电磁波向其本身对应的区域辐射,以保证待处理物170的温度均匀性。
在一些进一步地示例性实施例中,对于纵向辐射组,处理单元131可配置为在辐射单元142a对应的温度Ta2大于辐射单元141a并进一步大于辐射单元143a对应的温度Ta3且最大温差大于等于第一温度阈值W1的情况下,控制移相器160调节辐射单元142a的辐射出的电磁波的方向向辐射单元143a的对应区域偏移,以提高辐射单元143a的对应区域的加热效率,减小温差。
在辐射单元142a与辐射单元143a对应的温度的温差小于第二温度阈值W2时,处理单元131可进一步配置为控制移相器160在辐射单元142a对应的温度Ta2大于辐射单元141a对应的温度Ta1且温差大于等于第二温度阈值W2的情况下,调节辐射单元142a的辐射出的电磁波的方向向辐射单元141a的对应区域偏移,以减小辐射单元142a和辐射单元141a的对应感测点的温差;在辐射单元142a对应的温度Ta2小于等于辐射单元141a对应的温度Ta1或温差小于第二温度阈值W2的情况下,调节辐射单元142a的辐射出的电磁波的方向向其本身对应的区域辐射,以保证待处理物170的温度均匀性。
在一些进一步地示例性实施例中,辐射单元143a、辐射单元143b和辐射单元143c可位于加热室的边缘处。
在位于边缘的辐射单元143a和辐射单元143b中存在辐射单元与辐射单元142c对应的温度分别为最高和最低且温差大于等于第一温度阈值W1的情况下,处理单元131可配置为根据与该对应温度最高的辐射单元相邻的第二辐射单元的温度控制该对应温度最高的辐射单元是否辐射电磁波以及辐射电磁波时的电磁波辐射方向。
以辐射单元143b和辐射单元142c对应的温度分别为最高和最低为例进行详细说明,在辐射单元143b和辐射单元142c对应的温度的温差大于等于第一温度阈值W1的情况下,处理单元131可配置为在相邻于辐射单元143b的辐射单元142b与辐射单元142c的温差大于等于第一温度阈值W1时,控制开关装置150使辐射单元143b停止辐射电磁波,并控制移相器160调节辐射单元142b辐射出的电磁波方向向辐射单元141b的对应区域偏移,以缩小辐射单元143b和辐射单元142b与辐射单元142c对应感测点的温差;在辐射单元142b与辐射单元142c的温差小于第一温度阈值W1时,控制移相器160调节辐射单元143b辐射出的电磁波方向向辐射单元142b的对应区域偏移,以提高加热效率,并缩小辐射单元143b与辐射单元142c对应感测点的温差。
在一个纵向辐射组的部分辐射单元的对应区域无待处理物170的情况下,处理单元131可配置为控制移相器160调节该部分辐射单元辐射出的电磁波的方向向该纵向辐射组的其他辐射单元的对应区域偏移,以在保证待处理物170的温度均匀性的同时,提高加热效率。
例如,辐射单元141b的对应区域无待处理物170且辐射单元142b和辐射单元143b的对应区域存在待处理物170,处理单元131可配置为在辐射单元142b对应的温度Tb2与辐射单元143b对应的温度Tb3的温差小于第一温度阈值W1的情况下,控制移相器160调节辐射单元141b辐射出的电磁波的方向向辐射单元142b的对应区域偏移,以在保证待处理物170的温度均匀性的同时,提高加热效率。
处理单元131还可配置为在辐射单元142b对应的温度Tb2与辐射单元143b对应的温度Tb3的温差大于等于第一温度阈值W1并小于第三温度阈值W3的情况下,控制移相器160调节辐射单元142b辐射出的电磁波的方向向辐射单元143b的对应区域偏移,以在保证待处理物170的温度均匀性的同时,提高加热效率。
处理单元131还可配置为在辐射单元142b对应的温度Tb2与辐射单元143b对应的温度Tb3的温差大于等于第三温度阈值W3的情况下,控制移相器160使辐射单元141b、辐射单元142b和辐射单元143b辐射出的电磁波的方向分别向其本身对应的区域辐射,以保证待处理物170的温度均匀性。
在一个纵向辐射组的多个辐射单元的对应区域均无待处理物170的情况下,处理单元131可配置为控制移相器160使该纵向辐射组的多个辐射单元辐射出的电磁波的方向分别向其本身对应的区域辐射,以保证待处理物170的温度均匀性。
在横向辐射组的一个或多个辐射单元的对应区域无待处理物170的情况下,处理单元131可配置为控制该移相器160使该一个或多个辐射单元辐射出的电磁波的方向分别向其本身对应的区域辐射,以保证待处理物170的温度均匀性。
处理单元131也可配置为控制开关装置150使对应区域无待处理物170的辐射单元停止辐射电磁波,以节约能源。
在一些实施例中,若同时出现多个辐射单元同时与其相邻的辐射单元对各温度的温差温差大于等于第一温度阈值W1的情况,处理单元131可配置为根据温差的大小来确定辐射单元的辐射方向的调节顺序,首先对温差最大的辐射单元的辐射方向进行调节,相比于同时对多个辐射单元的辐射方向进行调节,可减少调节次数,提高加热效率,并进一步地提高待处理物170的温度均匀性。
图5是根据本发明一个实施例的用于加热装置100的控制方法的示意性流程图。参见图5,本发明的由上述任一实施例的控制器130执行的用于加热装置100的控制方法可包括如下步骤:
步骤S502:感测待处理物170的多个感测点的温度,其中多个感测点与至少一个辐射组的多个辐射单元相对应。
步骤S504:根据每个辐射单元与其相邻辐射单元对应的温度,调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向。
本发明的控制方法根据多个辐射单元对应感测点的温度调节对应辐射单元的电磁波辐射方向,使得电磁波在待处理物170的吸收电磁波能力强的部分和吸收电磁波能力差的部分的分布更加合理,均衡了对待处理物170不同部分的加热效率,提高了待处理物170的温度均匀性。
具体地,步骤S504可进一步包括如下步骤:
判断是否存在辐射单元对应的温度大于其相邻辐射单元对应的温度且温差大于等于第一温度阈值的情况,其中,第一温度阈值W1可为1.5~3℃,例如1.5℃、2℃、或3℃等。
若是,调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向与其温差最大的相邻辐射单元的对应区域偏移,以减少调节次数,进一步地提高待处理物170的温度均匀性。
在一些进一步地实施例中,若存在多个辐射单元对应的温度大于其相邻辐射单元对应的温度且温差大于等于第一温度阈值,首先调节对应的温度大于其相邻辐射单元对应的温度且温差最大的辐射单元辐射出的电磁波的方向,相比于同时对多个辐射单元的辐射方向进行调节,可减少调节次数,提高加热效率,并进一步地提高待处理物170的温度均匀性。
在一些实施例中,若存在辐射单元的对应区域无待处理物170,调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向靠近待处理物170的方向偏移或使该辐射单元停止辐射电磁波,以在保证待处理物170的温度均匀性的基础上,避免不期望的能源浪费。
图6是根据本发明一个实施例的基于图3所示布局的控制方法的示意性流程图(在本发明附图中,“Y”表示“是”,“N”表示“否”)。参见图6,本发明的基于图3所示布局的控制方法可包括如下步骤:
步骤S602:判断是否存在辐射单元对应区域无待处理物170。若是,执行步骤S604;若否,执行步骤S620。
步骤S604:若第一辐射单元141对应区域无待处理物170,调节第一辐射单元141辐射出的电磁波的方向向第二辐射单元142的对应区域偏移,以提高加热效率。
步骤S606:感测待处理物170的多个感测点的温度,判断第二辐射单元142对应的温度T2是否大于第三辐射单元143对应的温度T3且温差大于等于第一温度阈值W1。若是,执行步骤S608;若否,返回步骤S604。
步骤S608:调节第二辐射单元142辐射出的电磁波的方向向第三辐射单元143的对应区域偏移,以提高待处理物170的温度均匀性。
步骤S610:感测待处理物170的多个感测点的温度,判断第二辐射单元142对应的温度T2是否大于第三辐射单元143对应的温度T3且温差大于等于第三温度阈值W3。其中,第三温度阈值W3可为4~6℃,例如4℃、5℃、或6℃。若是,执行步骤S612;若否,返回步骤S606。
步骤S612:调节第一辐射单元141和第二辐射单元142辐射出的电磁波的方向向其本身对应的区域辐射,以避免待处理物170局部过热。(若该辐射组还包括设置于第三辐射单元143远离第二辐射单元142的一侧的第四辐射单元,在执行步骤S608后,可判断第三辐射单元143对应的温度是否大于等于第四辐射单元对应的温度且温差大于等于第一温度阈值W1,若是,可调节第三辐射单元143辐射出的电磁波的方向向第四辐射单元的对应区域偏移,当存在相邻两个辐射单元对应的温度的温差大于等于第三温度阈值W3的情况时,使各个辐射单元分别向其本身对应的区域辐射电磁波。)
步骤S620:感测待处理物170的多个感测点的温度,判断第二辐射单元142对应的温度T2是否大于第一辐射单元141对应的温度T1并进一步大于第三辐射单元143对应的温度T3且最大温差大于等于第一温度阈值W1,即判断相邻三个辐射单元中是否位于中部的辐射单元对应的温度最高且与两侧的辐射单元的对应温度的最大温差大于等于第一温度阈值W1。若是,执行步骤S622;若否,执行步骤S632。
步骤S622:调节第二辐射单元142的辐射出的电磁波的方向向第三辐射单元143的对应区域偏移,以提高第三辐射单元143对应区域的加热效率,减小第二辐射单元142与第三辐射单元143对应感测点的温差。
步骤S624:感测待处理物170的多个感测点的温度,判断第二辐射单元142对应的温度T2与第三辐射单元143对应的温度T3的温差是否小于第二温度阈值W2。其中,第二温度阈值W2可小于第一温度阈值W1,可为为0.75~1.5℃,例如0.75℃、1℃或1.5℃等。若是,执行步骤S626;若否,返回步骤S622。
步骤S626:感测待处理物170的多个感测点的温度,判断第二辐射单元142对应的温度T2是否大于第一辐射单元141对应的温度T1且温差大于等于第二温度阈值W2。若是,执行步骤S628;若否,执行步骤S630。
步骤S628:调节第二辐射单元142的辐射出的电磁波的方向向第一辐射单元141的对应区域偏移,以减小第二辐射单元142与第一辐射单元141对应感测点的温差。返回步骤S626。
步骤S630:调节第二辐射单元142的辐射出的电磁波的方向,使电磁波向其本身对应区域辐射,以保证待处理物170的温度均匀性。返回步骤S620。
步骤S632:感测待处理物170的多个感测点的温度,判断是否存在第一辐射单元141对应的温度T1大于第二辐射单元142对应的温度T2且温差大于等于第一温度阈值W1,和/或第三辐射单元143对应的温度T3大于第二辐射单元142对应的温度T2且温差大于等于第一温度阈值W1的情况,即判断位于边缘处的辐射单元的对应温度是否大于其相邻辐射单元的对应温度且温差大于等于第一温度阈值W1。若是,执行步骤S634;若否,执行步骤S620。
步骤S634:调节第一辐射单元141和第三辐射单元143中与第二辐射单元142对应的温度T2的温差最大且大于等于第一温度阈值W1的辐射单元辐射出的电磁波的方向,使该电磁波向第二辐射单元142的对应区域偏移,以减小待处理物170边缘与中心的温差。
步骤S636:感测待处理物170的多个感测点的温度,判断该被调节的辐射单元与第二辐射单元142对应的温度T2的温差是否小于第二温度阈值W2。若是,执行步骤S638;若否,执行步骤S634。
步骤S638:再次调节前述该被调节的辐射单元辐射出的电磁波的方向,使电磁波向其本身对应区域辐射,以保证待处理物170的温度均匀性。返回步骤S620。
图7是根据本发明一个实施例的基于图4所示布局的控制方法的示意性流程图。参见图7,本发明的基于图4所示布局的控制方法可包括如下步骤:
步骤S702:感测待处理物170的多个感测点的温度,判断是否存在横向辐射组的辐射单元对应的温度Tc大于其相邻的两个纵向辐射组的辐射单元对应的温度Ta、Tb且其最大温差大于等于第一温度阈值W1的情况。即,判断是否存在横向辐射组的辐射单元对应的温度Tc最高,其相邻的一个纵向辐射组的辐射单元对应的温度Tb小于其相邻的另一个纵向辐射组的辐射单元对应的温度Ta并与该横向辐射组的辐射单元对应的温度Tc的温差大于等于第一温度阈值W1的情况。若是,执行步骤S704;若否,执行步骤S720。
步骤S704:调节该横向辐射组的辐射单元辐射出的电磁波方向向与其温差最大的一个纵向辐射组的辐射单元(即前述相邻的一个纵向辐射组的辐射单元)的对应区域偏移,以提高该温差最大的一个纵向辐射组的辐射单元的对应区域的加热效率,减小温差。
步骤S706:感测待处理物170的多个感测点的温度,判断该横向辐射组的辐射单元对应的温度Tc与前述相邻的一个纵向辐射组的辐射单元的温度Tb的温差是否小于第二温度阈值W2。若是,执行步骤S708;若否,返回步骤S704。
步骤S708:测待处理物170的多个感测点的温度,判断该横向辐射组的辐射单元对应的温度Tc是否大于前述相邻的另一个纵向辐射组的辐射单元的温度Ta且温差大于等于第二温度阈值W2。若是,执行步骤S710;若否,执行步骤S712。
步骤S710:调节该横向辐射组的辐射单元辐射出的电磁波方向向前述相邻的另一个纵向辐射组的辐射单元的对应区域偏移,以减小该横向辐射组的辐射单元与前述相邻的另一个纵向辐射组的辐射单元的对应感测点的温差。返回步骤S708。
步骤S712:调节该横向辐射组的辐射单元辐射出的电磁波的方向,使电磁波向其本身对应区域辐射,以保证待处理物170的温度均匀性。返回步骤S702。
步骤S720:判断辐射单元143a和辐射单元143b中是否存在辐射单元的对应温度Ta3,b3是所有感测点中的最高温度,辐射单元142c的对应温度Tc2是所有感测点中的最低温度,且二者温差大于等于第一温度阈值W1的情况。即,判断是否纵向辐射组的位于加热室边缘处的辐射单元中存在辐射单元的对应温度Ta3,b3最高,横向辐射组的位于中部的辐射单元中存在辐射单元的对应温度Tc2最低,且最高温度和最低温度的温差大于等于第一温度阈值W1。若是,执行步骤S722;若否,执行步骤S730。
步骤S722:判断与该对应最高温度的辐射单元相邻的辐射单元(对应最高温度的纵向辐射组的第二辐射单元)对应的温度Ta2,b2与辐射单元142c的对应温度Tc2的温差是否大于等于第一温度阈值W1。若是,执行步骤S724;若否,执行步骤S726。
步骤S724:使该纵向辐射组的第三辐射单元停止辐射电磁波,调节该纵向辐射组的第二辐射单元辐射出的电磁波方向向该纵向辐射组的第一辐射单元的对应区域偏移,以缩小该纵向辐射组的第三辐射单元和第二辐射单元与横向辐射组的中部辐射单元对应感测点的温差。返回步骤S702。
步骤S726:调节该纵向辐射组的第三辐射单元辐射出的电磁波方向向该纵向辐射组的第二辐射单元的对应区域偏移,以提高加热效率,并缩小该纵向辐射组的第三辐射单元与横向辐射组的中部辐射单元对应感测点的温差。返回步骤S702。
步骤S730:判断是否存在纵向辐射组中第二辐射单元对应的温度Ta2,b2大于第一辐射单元对应的温度Ta1,b1并进一步大于第三辐射单元对应的温度Ta3,b3且最大温差大于等于第一温度阈值W1的情况,即判断是否存在纵向辐射组中相邻三个辐射单元中位于中部的辐射单元对应的温度最高且与两侧的辐射单元的对应温度的最大温差大于等于第一温度阈值W1的情况。若是,执行步骤S732;若否,返回步骤S702。
步骤S732:调节该纵向辐射组的第二辐射单元辐射出的电磁波的方向向该辐射组的第三辐射单元的对应区域偏移,以提高该辐射组的第三辐射单元的对应区域的加热效率,减小温差。
步骤S734:感测待处理物170的多个感测点的温度,判断该纵向辐射组的第二辐射单元与第三辐射单元的温差是否小于第二温度阈值W2。若是,执行步骤S736;若否,返回步骤S732。
步骤S736:感测待处理物170的多个感测点的温度,判断该纵向辐射组的第二辐射单元对应的温度Ta2,b2是否大于第一辐射单元对应的温度Ta1,b1且温差大于等于第二温度阈值W2。若是,执行步骤S738;若否,执行步骤S740。
步骤S738:调节该纵向辐射组的第二辐射单元辐射出的电磁波的方向向该辐射组的第一辐射单元的对应区域偏移,以减小该纵向辐射组的第二辐射单元和第一辐射单元的对应感测点的温差。
步骤S740:调节该纵向辐射组的第二辐射单元的辐射出的电磁波的方向,使电磁波向其本身对应区域辐射,以保证待处理物170的温度均匀性。
在一些实施例中,对于图4实施例的纵向辐射组,若其一个或多个辐射单元的对应区域无待处理物170,可参照步骤S602至步骤S612之类的控制方法对移相器160和/或开关装置150进行控制,提高加热效率,并保证待处理物170的温度均匀性。
至此,本领域技术人员应认识到,虽然本文已详尽示出和描述了本发明的多个示例性实施例,但是,在不脱离本发明精神和范围的情况下,仍可根据本发明公开的内容直接确定或推导出符合本发明原理的许多其他变型或修改。因此,本发明的范围应被理解和认定为覆盖了所有这些其他变型或修改。

Claims (10)

1.一种用于加热装置的控制方法,所述加热装置包括用于辐射电磁波的至少一个辐射组,每个辐射组包括多个辐射单元,其中,所述控制方法包括:
感测待处理物的多个感测点的温度,所述多个感测点与所述至少一个辐射组的多个辐射单元相对应;
根据每个所述辐射单元与其相邻辐射单元对应的温度,调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向。
2.根据权利要求1所述的控制方法,其中,所述根据每个所述辐射单元与其相邻辐射单元对应的温度调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向的步骤包括:
判断是否存在所述辐射单元对应的温度大于其相邻辐射单元对应的温度且温差大于等于第一温度阈值的情况;
若是,调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向与其温差最大的相邻辐射单元的对应区域偏移。
3.根据权利要求2所述的控制方法,其中,
在存在多个所述辐射单元对应的温度大于其相邻辐射单元对应的温度且温差大于等于第一温度阈值的情况下,首先调节对应的温度大于其相邻辐射单元对应的温度且温差最大的辐射单元辐射出的电磁波的方向。
4.根据权利要求2所述的控制方法,其中,所述至少一个辐射组包括一个可在纵向方向上调整辐射出电磁波的方向的纵向辐射组,所述纵向辐射组包括沿纵向方向依次排布的第一辐射单元、第二辐射单元和第三辐射单元,所述调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向与其温差最大的相邻辐射单元的对应区域偏移的步骤包括:
在所述第二辐射单元对应的温度大于所述第一辐射单元并进一步大于所述第三辐射单元对应的温度且最大温差大于等于所述第一温度阈值的情况下,调节所述第二辐射单元的辐射出的电磁波的方向向所述第三辐射单元的对应区域偏移;
在所述第二辐射单元与所述第三辐射单元对应的温度的温差小于第二温度阈值时,若所述第二辐射单元对应的温度大于所述第一辐射单元对应的温度且温差大于等于所述第二温度阈值,调节所述第二辐射单元的辐射出的电磁波的方向向所述第一辐射单元的对应区域偏移;若所述第二辐射单元对应的温度小于等于所述第一辐射单元对应的温度或温差小于所述第二温度阈值,调节所述第二辐射单元的辐射出的电磁波的方向,使电磁波向其对应区域辐射;其中所述第二温度阈值小于所述第一温度阈值。
5.根据权利要求2所述的控制方法,其中,所述至少一个辐射组包括间隔设置并可在纵向方向上调整辐射出电磁波的方向的两个纵向辐射组、和设置于所述两个纵向辐射组之间并在横向方向上调整辐射出电磁波的方向的一个横向辐射组,所述调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向与其温差最大的相邻辐射单元的对应区域偏移的步骤包括:
在存在所述横向辐射组的辐射单元对应的温度大于其相邻的两个所述纵向辐射组的辐射单元对应的温度且最大温差大于等于所述第一温度阈值的情况下,调节该所述横向辐射组的辐射单元辐射出的电磁波方向向与其温差最大的一个所述纵向辐射组的辐射单元的对应区域偏移;
在该所述横向辐射组的辐射单元与所述一个纵向辐射组的辐射单元的温差小于第二温度阈值时,若该所述横向辐射组的辐射单元对应的温度大于另一所述纵向辐射组的辐射单元对应的温度且温差大于等于所述第二温度阈值,调节该所述横向辐射组的辐射单元辐射出的电磁波方向向所述另一纵向辐射组的辐射单元的对应区域偏移;若该所述横向辐射组的辐射单元对应的温度小于所述另一纵向辐射组的辐射单元对应的温度或温差小于所述第二温度阈值,调节该所述横向辐射组的辐射单元辐射出的电磁波的方向,使电磁波向其对应区域辐射;其中所述第二温度阈值小于所述第一温度阈值。
6.根据权利要求2所述的控制方法,其中,所述至少一个辐射组包括间隔设置并可在纵向方向上调整辐射出电磁波的方向的两个纵向辐射组、和设置于所述两个纵向辐射组之间并在横向方向上调整辐射出电磁波的方向的一个横向辐射组,每个辐射组均包括沿纵向方向依次排布的第一辐射单元、第二辐射单元和第三辐射单元,且一个所述纵向辐射组的第三辐射单元位于边缘处,所述调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向与其温差最大的相邻辐射单元的对应区域偏移的步骤包括:
在位于边缘的所述纵向辐射组的第三辐射单元与所述横向辐射组的第二辐射单元对应的温度分别为最高和最低且温差大于等于所述第一温度阈值的情况下,若该所述纵向辐射组的第二辐射单元与所述横向辐射组的第二辐射单元对应的温度的温差大于等于所述第一温度阈值,使该所述纵向辐射组的第三辐射单元停止辐射电磁波,并调节该所述纵向辐射组的第二辐射单元辐射出的电磁波方向向该所述纵向辐射组的第一辐射单元的对应区域偏移;若该所述纵向辐射组的第二辐射单元与所述横向辐射组的第二辐射单元对应的温度的温差小于所述第一温度阈值,调节该所述纵向辐射组的第三辐射单元辐射出的电磁波方向向该所述纵向辐射组的第二辐射单元的对应区域偏移。
7.根据权利要求1所述的控制方法,还包括:
判断是否存在所述辐射单元的对应区域无待处理物的情况;
若是,调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向靠近待处理物的方向偏移或使该辐射单元停止辐射电磁波。
8.根据权利要求7所述的控制方法,其中,所述至少一个辐射组包括一个可在纵向方向上调整辐射出电磁波的方向的纵向辐射组,所述纵向辐射组包括沿纵向方向依次排布的第一辐射单元、第二辐射单元和第三辐射单元,所述调节该辐射单元辐射出的电磁波的方向向靠近待处理物的方向偏移的步骤包括:
在所述第一辐射单元的对应区域无待处理物的情况下,调节所述第一辐射单元辐射出的电磁波的方向向所述第二辐射单元的对应区域偏移;
若所述第二辐射单元对应的温度大于所述第三辐射单元对应的温度且温差大于等于第一温度阈值,调节所述第二辐射单元辐射出的电磁波的方向向所述第三辐射单元的对应区域偏移。
9.根据权利要求8所述的控制方法,在所述调节所述第二辐射单元辐射出的电磁波的方向向所述第三辐射单元的对应区域偏移的步骤之后还包括:
若所述第二辐射单元与所述第三辐射单元对应的温度的温差进一步大于等于第三温度阈值,调节所述第一辐射单元和所述第二辐射单元辐射出的电磁波的方向,使电磁波分别向其对应区域辐射。
10.一种加热装置,其特征在于,包括:
筒体,限定有加热室,用于放置待处理物;
电磁波发生系统,包括用于辐射电磁波的至少一个辐射组,每个辐射组包括多个辐射单元,以加热所述加热室内的待处理物;以及
控制器,配置为用于执行权利要求1-9任一所述的控制方法。
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