CN113301188A - 窗及具有该窗的电子设备 - Google Patents

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金敏基
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Abstract

本申请涉及窗及包括其的电子设备。窗包括：涂覆层，包括前表面、后表面、第一区域和第二区域，第一区域在厚度方向上在前表面和后表面之间具有恒定距离，在第二区域中，前表面和后表面之间在厚度方向上的距离在远离第一区域的方向上减小；以及边框层，设置在涂覆层的后表面上，其中，涂覆层包括无机颗粒、丙烯酸酯树脂和环氧树脂。

Description

窗及具有该窗的电子设备
本申请要求于2020年2月21日提交的第10-2020-0021497号韩国专利申请的优先权以及由其产生的所有权益，其内容通过引用以其整体并入本文。
技术领域
本公开涉及窗、用于制造窗的方法以及包括该窗的电子设备。
背景技术
电子设备包括窗、壳体和电子元件。电子元件可以包括响应于电子信号而被激活的各种元件，诸如显示元件、触摸元件和检测元件。
窗保护电子元件并向用户提供有效区域。因此，用户通过窗向电子元件提供输入并接收由电子元件生成的信息。此外，可以通过窗稳定地保护电子元件免受外部冲击。
由于电子设备的减薄趋势，窗的重量和厚度的减小是所希望的，并且为了补充由于这种趋势导致的结构弱点，已经开展了具有优异强度和表面耐久性的窗的开发。
发明内容
本公开提供了窗，该窗能够减小厚度和重量，同时有效地保护包括其成分和形状受到控制的涂覆层的电子设备。
此外，本公开提供了电子设备，该电子设备具有减小的重量和厚度，并且包括具有高硬度涂覆层的窗。
本公开还提供了用于制造包括高硬度涂覆层的窗的方法。
本发明构思的实施方式提供窗，该窗包括：涂覆层，包括前表面、后表面、第一区域和第二区域，第一区域在厚度方向上在前表面和后表面之间具有恒定距离，在第二区域中，前表面和后表面之间在厚度方向上的距离在远离第一区域的方向上减小；以及边框层，设置在涂覆层的后表面上，其中，涂覆层包括无机颗粒、丙烯酸酯树脂和环氧树脂。
在实施方式中，第一区域中的前表面可以是平坦的，并且第二区域中的前表面可以是弯曲表面。
在实施方式中，无机颗粒可以是SiO2、A12O3、TiO2、Li2O3、Na2O和ZrO2中的至少一种。
在实施方式中，无机颗粒可以以相对于涂覆层约1至10重量百分比(wt％)的量包括在涂覆层中。
在实施方式中，第一区域中的前表面与后表面之间的恒定距离可为约10至1000微米(μm)。
在实施方式中，涂覆层可具有约6硬度(H)至9H的铅笔硬度。
在实施方式中，窗还可以包括设置在边框层和涂覆层之间的玻璃层。
在实施方式中，玻璃层的厚度可以是约10至300μm，并且涂覆层的第一区域中的恒定距离可以是约10至700μm。
在实施方式中，窗还可以包括设置在边框层上的功能层，并且功能层可以具有重复图案，重复图案具有发纹形状、格子形状或多边形形状。
在本发明构思的实施方式中，电子设备包括：电子面板，包括平行于由第一方向和与第一方向交叉的第二方向限定的平面的显示区域以及围绕显示区域的非显示区域；以及窗，设置在电子面板上，其中，窗包括：涂覆层，包括第一区域和第二区域，第一区域平行于平面并且在平面图中与显示区域重叠，第二区域在平面图中与非显示区域重叠并且具有外弯曲表面；以及边框层，设置在第二区域中，其中，涂覆层包括无机颗粒、丙烯酸酯树脂和环氧树脂。
在实施方式中，第一区域可以在垂直于平面的方向上具有恒定的厚度，并且第二区域可以具有朝着第一方向或第二方向逐渐减小的厚度。
在实施方式中，第一区域的厚度在垂直于平面的方向上可以是约10全1000μm。
在实施方式中，窗还可以包括设置在涂覆层和边框层之间的玻璃层，其中，玻璃层在垂直于平面的方向上的厚度可以是约10至300μm。
在实施方式中，窗还可以包括设置在边框层上的功能层，其中，功能层可以具有重复图案，重复图案具有发纹形状、格子形状或多边形形状。
在本发明构思的实施方式中，用于制造窗的方法包括：制备涂覆组合物；施加涂覆组合物，以及固化所施加的涂覆组合物以形成涂覆层，其中，涂覆组合物包含约1至10wt％的无机颗粒、丙烯酸酯树脂和环氧树脂。
在实施方式中，涂覆组合物还可以包括光引发剂。
在实施方式中，在施加涂覆组合物时，可以施加涂覆组合物使得涂覆组合物的厚度可以为约10至1000μm。
在实施方式中，该方法还可以包括在制备涂覆组合物之前布置厚度为约10至300μm的玻璃层。
在实施方式中，在固化所施加的组合物以形成涂覆层时，可提供约120至180摄氏度(℃)的热量约20分钟。
附图说明
附图被包括在内以提供对本发明构思的进一步理解，且并入本说明书中并构成本说明书的一部分。附图示出了本发明构思的示例性实施方式，并且与说明书一起用于说明本发明构思的原理。在附图中：
图1是根据示例性实施方式的电子设备的立体图；
图2是图1所示的电子设备的分解立体图；
图3A至图3C是根据示例性实施方式的窗的剖视图；
图4A是示出图3A的部分AA′的分解图；
图4B是图3B的部分AA的分解图；
图5A是比较和示出一个示例和对比示例中的窗的断裂强度的图形；
图5B是比较和示出一个示例和对比示例中的窗的断裂强度的图形；
图6是示出根据示例性实施方式的用于制造窗的方法的流程图；以及
图7A至图7D是示意性地示出根据本发明构思的实施方式的用于制造显示模块的方法的剖视图。
具体实施方式
本发明可以以多种形式进行修改，且因此优选实施方式在附图中示出，并且在本发明的详细描述中描述。然而，这并不将本发明限制在特定实施方式内，并且应当理解，本发明覆盖了在本发明的思想和技术范围内的所有修改、等同和替换。
在本说明书中，应当理解，当元件(或区域、层、部分等)被称为在另一个元件或层上、连接到或联接到另一个元件或层时，它可以直接在另一个元件或层上、直接连接到或直接联接到另一个元件或层，或者可以存在第三个介于中间的元件。
措辞″直接设置″可以是指在层、膜、区域或板的部分与其它部分之间不存在层、膜、区域或板的情况。例如，措辞″直接设置″可以是指设置两个层或两个构件而不在它们之间使用诸如粘合构件的另外构件的情况。
相同的附图标记表示相同的元件。此外，在附图中，为了有效地说明技术内容，夸大了组件的厚度、比例和尺寸。
本文中所使用的术语仅用于描述特定实施方式的目的，而不是旨在进行限制。除非内容另外清楚地指示，否则如本文所使用的，单数形式″一个″、″一种″和″该″旨在包括复数形式，包括″至少一个″。″至少一个″不应被解释为限制″一个″或″一种″。″或″意指″和/或″。术语″和/或″包括可以由相关项目定义的一个或多个组合中的全部。
应当理解，尽管在本文使用诸如″第一″和″第二″的术语来描述各种元件，但是这些元件不应受到这些术语的限制。这些术语仅用于将一个组件与其它组件区分开。例如，在不脱离本发明的范围的情况下，第一元件可以被称为第二元件，且第二元件可以被类似地称为第一元件。除非在上下文中另有明确定义，否则单数表达可以包括复数表达。
此外，诸如″在后表面上″、″在......之下″、″在......下方″、″在前表面上″、″在......之上″、″在......上方″等术语可用于描述附图中所示的特征之间的相关性。这些术语具有相对的概念，并且是基于附图中所示的取向来描述的。在本说明书中，术语″设置在......上″不仅可表示设置在任何一个构件的上部上的情况，而且可表示设置在其下部的情况。
除非另有定义，否则本说明书中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域的技术人员通常理解的含义相同的含义。此外还应理解，术语，诸如在常用词典中定义的那些术语，应被解释为具有与它们在相关技术的语境中的含义一致的含义，并且除非以理想化或过分形式化的含义来解释，否则将按照本文中定义的那样解释。
将进一步理解，当在本说明书中使用时，术语″包括″或″具有″指定所陈述的特征、数字、步骤、操作、元件、组件或其组合的存在，但不排除一个或多个其它特征、数字、步骤、操作、元件、组件和/或其组合的存在或添加。
在下文中，将参考附图描述根据本发明构思的实施方式的用于制造窗的方法。
在下文中，将参考附图描述本发明构思的实施方式。图1是示出电子设备的立体图。图1是示出包括窗的电子设备的一个示例性实施方式的立体图。图2是图1所示的电子设备的分解立体图。
电子设备EA可以是响应于电信号而被激活的设备。电子设备EA可以包括各种示例性实施方式。例如，电子设备EA可以包括平板PC、膝上型PC、计算机、智能电视等。在下文中，电子设备EA被示例性地示出为智能电话。
电子设备EA可以在平行于由第一方向DR1和第二方向DR2限定的平面的显示表面IS上沿第三方向DR3显示图像IM。在其上显示图像IM的显示表面IS可以对应于电子设备EA的前表面并且对应于窗WN的上表面FS。此外，电子设备EA可以具有在垂直于由第一方向DR1和第二方向DR2限定的平面的第三方向DR3上具有预定厚度的实心形状。
在图1所示的实施方式的电子设备EA中，显示表面IS可以包括显示区域DA和与显示区域DA相邻的非显示区域NDA。非显示区NDA可以围绕显示区域DA设置。然而，本发明构思的实施方式不限于此，并且显示区域DA和非显示区域NDA的形状可以相对地设计。
显示区域DA可以是向其提供图像IM的部分，并且可以是对应于电子面板DP的有效区域AA的部分。同时，图1示出了包括静态图像作为图像IM的示例，但是也可以包括动态图像。
在该实施方式中，相对于显示图像IM的方向(即，第三方向DR3)限定每个构件的前表面(即，上表面)和后表面(即，下表面)。这里，图像IM显示在前表面上。前表面和后表面可以在第三方向DR3上彼此相对。前表面和后表面中的每一个的法线方向可以平行于第三方向DR3。由第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3指示的方向具有相对的概念，且因此，在保持第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3的轴的相对位置的情况下，可以转换为其它方向。在下文中，第一方向到第三方向对应于分别由第一方向DR1、第二方向DR2和第三方向DR3指示的方向，并且用相同的附图标记指代。
电子设备EA包括窗WN、电子面板DP和壳体HAU。在根据图1和图2所示的示例性实施方式的电子设备EA中，窗WN和壳体HAU联接并且可以构成电子设备EA的外观。
如上所述，窗WN的前表面FS限定电子设备EA的前表面。窗WN的前表面FS可以包括透射区域TA和边框区域BZA。
透射区域TA可以是光学透明区域。例如，透射区域TA可以是具有至少约百分之90(90％)的可见光透射率的区域。
边框区域BZA可以是具有比透射区域TA相对更低的透光率的区域。边框区域BZA可以限定透射区域TA的形状。边框区域BZA可以与透射区域TA相邻并围绕透射区域TA。然而，本发明构思的实施方式不限于此，且可以相对地设计边框区域BZA的形状和透射区域TA的形状。
边框区域BZA可以具有预定的颜色。边框区域BZA可以覆盖电子面板DP的外围区域NAA，并防止从外部观看外围区域NAA。边框区域BZA的至少一部分可以具有弯曲表面的形状。
示例性实施方式的窗WN包括涂覆层并且可以稳定地保护电子面板DP免受外部冲击。稍后将描述关于窗WN的详细描述。
电子面板DP可以响应于电子信号而被激活。在该实施方式中，电子面板DP被激活并在电子设备EA的显示表面IS上显示图像IM。通过透射区域TA向用户提供可视的图像IM，并且用户可以通过图像IM看到信息。然而，这被示例性地示出，并且在另一个实施方式中，电子面板DP被激活并且还可以检测施加到其上表面的外部输入。例如，外部输入可以包括用户的触摸、无形物体的接触或接近、压力、光或热，并且不限于任何一个实施方式。
电子面板DP可以包括有效区域AA和外围区域NAA。有效区域AA可以是提供图像IM的区域。透射区域TA可以在第三方向DR3上即，在平面图中)与有效区域AA的至少一部分重叠。
外围区域NAA与有效区域AA相邻。外围区域NAA可以围绕有效区域AA。用于驱动有效区域AA的驱动电路、驱动布线等可以设置在外围区域NAA中。
电子面板DP可以包括多个像素PX。像素PX响应于电子信号并且发射光。由像素PX发射的光实现图像IM。像素PX可以包括显示元件。例如，显示元件可以是有机发光元件、量子点发光元件、液晶电容器、电泳元件、电润湿元件等。
壳体HAU可以设置在电子面板DP的下方。壳体HAU可以包括具有相对高刚性(即，相对高刚度)的材料。例如，壳体HAU可包括由玻璃、塑料或金属构成或包括玻璃、塑料或金属的多个框架和/或板。壳体HAU可以提供预定的容纳空间。电子面板DP可以容纳在壳体HAU的容纳空间内，并可被保护免受外部冲击。
图3A是沿着图2的线I-I′截取的根据示例性实施方式的窗WN1的剖视图，并且图4A是图3A的部分AA′的放大图。图3B是另一示例性实施方式中的窗WN2的剖视图，并且图4B是图3B的部分AA的放大图。图3C是又一示例性实施方式中的窗WN3的剖视图。
图3A至图3C示例性地示出了在第一方向DR1上切割的窗WN1、WN2和WN3的截面，但是在第二方向DR2上切割的窗WN1、WN2和WN3的截面也可以具有基本上相同的形状。
在示例性实施方式中，窗WN1、WN2和WN3中的每一个包括顺序设置的边框层BZ和涂覆层CL1或CL2。窗WN1、WN2和WN3中的每一个可以包括涂覆层CL1或CL2(例如，窗WN1包括涂覆层CL1，并且窗WN2和WN3中的每一个包括涂覆层CL2)并且稳定地保护电子面板DP免受外部冲击。
涂覆层CL1和CL2的前表面FS暴露于电子设备EA的外部，并限定窗WN1的前表面FS和电子设备EA的前表面。涂覆层CL1和CL2的后表面RS在第三方向DR3上与前表面FS相对。涂覆层CL1和CL2的前表面可以是平坦表面。涂覆层CL1和CL2的形状将在图4A和图4B中详细描述。
涂覆层CL1和CL2各自包括无机颗粒、丙烯酸酯树脂和环氧树脂。涂覆层CL1和CL2可以通过混合上述材料来确保优异的硬度和强度。包括在涂覆层CL1或CL2中的无机颗粒可以是SiO2、Al2O3、TiO2、Li2O3、Na2O和ZrO2中的至少一种。无机颗粒可以以相对于涂覆层CL1或CL2以约1％至10％重量百分比被包含。
涂覆层CL1或CL2可具有对应于约6硬度(H)至9H的硬度的铅笔硬度。铅笔硬度可以是这样的铅笔的浓度标志(concentration symbol)，该铅笔是当在将预定载荷施加至该铅笔的同时用该铅笔以约45度的角度刮擦涂覆层CL1或CL2的表面时涂覆层CL1或CL2的表面不会被损坏的最硬铅笔。例如，预定载荷可以是约0.75千克(Kg)。当涂覆层CL1或CL2的铅笔硬度小于约6H时，不能保证耐外力的耐久性，并且很难保护电子面板DP。另一方面，当涂覆层CL1或CL2的铅笔硬度超过约9H时，涂覆层CL1或CL2的柔性不被保证，并且当向涂覆层CL1或CL2施加外力时，可能容易发生裂纹。
在图3B的另一示例性实施方式中，与图3A的实施方式相比，窗WN2还可以包括设置在涂覆层CL2和边框层BZ之间的玻璃层GL。玻璃层GL可以是平坦的。
玻璃层GL不受特别限制，只要具有透光性即可。玻璃层GL在第三方向DR3上的厚度可以是约10微米(μm)至300微米。当玻璃层GL的厚度满足上述范围时，玻璃层GL可以在确保适当的硬度的同时具有优异的硬度，且因此可以有效地保护电子面板DP。由此，可以减小电子设备EA的尺寸和重量。
边框层BZ设置在涂覆层CL1的后表面RS或玻璃层GL的后表面上并限定边框区域BZA。边框层BZ具有比涂覆层CL1、CL2和玻璃层GL相对较低的透光率。例如，边框层BZ可以具有预定的颜色。因此，边框层BZ可以选择性地仅透射/反射特定颜色的光。可选地，例如，边框层BZ也可以是用于吸收入射光的光阻挡层。边框区域BZA的颜色可以根据边框层BZ的透光率来确定。
边框层BZ可以设置在涂覆层CL1的后表面RS或玻璃层GL的后表面上。边框层BZ可以直接形成在涂覆层CL1的后表面RS或玻璃层GL的后表面上。可选地，边框层BZ也可以通过单独的粘合剂构件等连接到涂覆层CL1的后表面RS或玻璃层GL的后表面。用于形成边框层BZ的方法不受特别限制，并且例如可以通过印刷或沉积来形成。
在图3C的另一示例性实施方式中，与图3A和图3B的实施方式相比，窗WN3还可以包括基层BS。基层BS可以是可通常使用的透明基板，或可以是可实现特定功能的功能层。在实施方式中，基层BS可以是具有发纹形状、格子形状、多边形形状等的重复图案的图案层。基层BS可以设置在涂覆层CL2和边框层BZ之间。当窗WN3包括基层BS时，边框层BZ可以直接联接到基层BS的后表面，或者通过单独的粘合构件等间接联接到基层BS的后表面。
参照图4A和图4B，涂覆层CL1和CL2可以各自包括第一区域PT1和第二区域PT2。在本说明书中，第一区域PT1和第二区域PT2中的每一个的厚度(或距离)可以被定义为在平行于第三方向DR3的方向上从前表面FS到后表面RS测量的长度。
第一区域PT1在前表面FS和后表面RS之间具有恒定的距离(即，厚度)。第一区域PT1的前表面FS和后表面RS可以是平坦的。第一区域PT1的前表面FS和后表面RS之间的距离可以是约10μm至1000μm。在另一个示例性实施方式中，第一区域PT1的前表面FS和后表面RS之间的距离可以是约10μm至800μm、约10μm至500μm或约10μm至100μm。当第一区域PT1满足上述距离时，可以通过确保适当的强度和厚度来有效地保护电子设备EA。例如，当如图4A中在窗上没有玻璃层GL时，涂覆层CL1可以具有比如图4B中存在玻璃层GL的情况更大的厚度。
第二区域PT2具有根据在第一方向DR1上距第一区域PT1的距离而不同的厚度。第二区域PT2具有在前表面FS和后表面RS之间的距离(即，在第三方向上的厚度DR3)，并且该距离在远离第一区域PT1的方向上逐渐减小。第二区域PT2的后表面RS是平坦的，但是第二区域PT2的前表面FS可以是弯曲表面。第二区域PT2的弯曲表面的曲率半径可以根据第一区域PT1具有的在第三方向DR3上的厚度而变化。例如，当如图4A中在窗WN1上没有玻璃层GL时，涂覆层CL1可以具有比如图4B中存在玻璃层GL的情况更大的曲率半径。
图5A和图5B是比较和示出一个示例和对比示例中的窗的断裂强度的图形。图5A和图5B的对比例Ref的窗不包括涂覆层并且仅包括厚度为约500μm的玻璃层，并且示例Example的窗如图3B中所示包括厚度为约300μm的玻璃层和厚度为约100μm的涂覆层。
图5A比较和示出了落球试验(″BDT″)断裂强度。通过落球试验(BDT)方法评价BDT断裂强度。将试验目标窗各自设置在预定尺寸的圆环(最外直径为约35mm，且最内直径为约25mm的环)上，并且在使试验目标窗各自与具有球形形状和直径为约10mm的试验探针接触并且施加载荷的同时，测量窗破裂时试验探针下落的高度作为下落高度(厘米：cm)。
参照图5A的结果，在对比示例Ref中在约55cm处发生断裂，并且在示例Example中在约150cm处发生断裂。即，可以确认，与对比示例Ref相比，在包括涂覆层的示例Example中的窗具有改进的强度特性。
图5B示出了落下试验结果。使用包括窗的电子设备实物模型来执行图5B的结果测量。通过将电子设备实物模型下落花岗岩基板上并确认是否发生断裂来进行落下试验。图5B所示的测量值示出了最大下落高度，当下落电子设备实物模型时窗在最大下落高度处破裂。
参照图5B的结果，对比例Ref中的平均下落高度测量为约75cm，并且示例Example中的平均下落高度测量为约180cm。也就是说，可以确认，示例Example中的窗包括涂覆层，并且与对比示例Ref相比，具有提高了约2.4倍的抗冲击性。
图6是示意性地示出根据示例性实施方式的窗制造方法的流程图。图7A至图7D是示意性地示出示例性实施方式的窗制造方法的步骤的剖视图。关于窗，示例性实施方式中的窗制造方法包括：制备涂覆组合物CP的步骤S200；施加涂覆组合物CP的步骤S300；以及固化所施加的涂覆组合物CP以形成涂覆层的步骤S400。
制备涂覆组合物CP的步骤S200可以是混合丙烯酸酯树脂和环氧树脂的步骤。可以以约1至10重量百分比(wt％)的量包含无机颗粒。此外，考虑到后固化反应，涂覆组合物CP还可以包括引发剂。引发剂的类型不受特别限制，只要能够促进固化反应即可，并且可以是例如光引发剂。
在示例性实施方式中，用于制造窗的方法可以包括在制备涂覆组合物CP的步骤S200之前布置玻璃基板的步骤S100。当窗包括玻璃层GL时，可以如图7A所示那样在施加涂覆组合物CP之前设置玻璃层GL。
参照图7B，施加涂覆组合物CP的步骤S300可以是施加涂覆组合物CP使得涂覆层CL在基层BS或玻璃层GL上具有恒定的厚度的步骤，例如涂覆层CL的厚度为10μm至1000μm。用于施加涂覆组合物CP的方法不受特别限制，并且可以使用诸如真空沉积法、旋涂法、流延法、Langmuir-Blodgett(″LB″)法、喷墨印刷法、激光印刷法和激光诱导热成像(″LITI″)法的方法。
参照图7C，固化所施加的涂覆组合物CP以形成涂覆层CL的步骤S400可以是提供恒定能量以形成涂覆层CL的步骤。在向所施加的涂覆组合物CP提供能量并且固化所施加的涂覆组合物CP的步骤中，丙烯酸酯树脂可收缩，并且环氧树脂可膨胀。在具有这种相反性能的两种材料形成一个层的情况下，同时满足涂覆层CL的适当硬度和强度，从而可以确保窗的机械特性。
在图7C中，提供给涂覆组合物CP的能量被示出为热量，但是本发明构思的实施方式不限于此，并且在另一个实施方式中也可以提供紫外线。例如，当提供热量时，提供约120至180摄氏度(℃)的热量至少约20分钟，从而可以固化涂覆组合物CP。此外，当提供紫外线时，提供约800至1，＝000微焦耳(mJ)的能量，从而可以固化涂覆组合物CP。
参照图7D，根据示例性实施方式，涂覆组合物CP被固化且然后转变为涂覆层CL。涂覆层CL可以具有诸如以上在固化步骤中描述的形状，而不经历特定的步骤。在仅由玻璃层组成的窗的情况下，为了具有与涂覆层CL类似的形状，单独需要加工工艺，但是在该实施方式中的窗制造方法由于可以省略这种加工工艺而可以实现成本降低并提高成品率。
根据示例性实施方式的窗和包括该窗的电子设备可以通过包括高硬度涂覆层来实现重量和尺寸的减小。此外，根据示例性实施方式的窗和包括该窗的电子设备还具有低制造成本，并且因此具有非常优异的经济可行性。
根据示例性实施方式的窗制造方法可以具有低制造成本和提高的成品率。
到目前为止，已经参考优选的示例性实施方式描述了本发明的构思。然而，本领域技术人员将理解，在不脱离权利要求书中阐述的本发明的精神和技术领域的情况下，可以在本发明中进行各种修改和变化。
因此，本发明的实际保护范围应由所附权利要求书的技术范围来确定。

Claims (10)

1.一种窗，包括：
涂覆层，包括前表面、后表面、第一区域和第二区域，所述第一区域在厚度方向上在所述前表面和所述后表面之间具有恒定距离，所述第二区域中，所述前表面和所述后表面之间在所述厚度方向上的距离在远离所述第一区域的方向上减小；以及
边框层，设置在所述涂覆层的所述后表面上，
其中，所述涂覆层包括无机颗粒、丙烯酸酯树脂和环氧树脂。
2.根据权利要求1所述的窗，其中，所述第一区域中的所述前表面是平坦的，并且所述第二区域中的所述前表面是弯曲表面。
3.根据权利要求1所述的窗，其中，所述无机颗粒是SiO2、Al2O3、TiO2、Li2O3、Na2O和ZrO2中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的窗，其中，所述无机颗粒以相对于所述涂覆层1wt％至10wt％的量包括在所述涂覆层中。
5.根据权利要求1所述的窗，其中，所述涂覆层具有6H至9H的铅笔硬度。
6.一种电子设备，包括：
电子面板，包括平行于由第一方向和与所述第一方向交叉的第二方向限定的平面的显示区域以及围绕所述显示区域的非显示区域；以及
窗，设置在所述电子面板上，
其中，所述窗包括：
涂覆层，包括第一区域和第二区域，所述第一区域平行于所述平面并且在平面图中与所述显示区域重叠，所述第二区域在所述平面图中与所述非显示区域重叠并且具有外弯曲表面；以及
边框层，设置在所述第二区域中，
其中，所述涂覆层包括无机颗粒、丙烯酸酯树脂和环氧树脂。
7.根据权利要求6所述的电子设备，其中，
所述第一区域在垂直于所述平面的方向上具有恒定厚度，以及
所述第二区域具有朝向所述第一方向或所述第二方向逐渐减小的厚度。
8.根据权利要求6所述的电子设备，其中，所述第一区域在垂直于所述平面的方向上的厚度为10μm至1000μm。
9.根据权利要求6所述的电子设备，其中，所述窗还包括：
玻璃层，设置在所述涂覆层和所述边框层之间，
其中，所述玻璃层在垂直于所述平面的方向上的厚度为10μm至300μm。
10.根据权利要求6所述的电子设备，其中，所述窗还包括：
设置在所述边框层上的功能层，
其中，所述功能层具有重复图案，所述重复图案具有发纹形状、格子形状或多边形形状。
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