CN113176000A - 一种可测量微米级别反射和透射光学相位的系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种可测量微米级别反射和透射光学相位的系统，包括相位测量系统，相位测量系统包括准直光源发生器、红外光源产生器、第一反射镜、第二反射镜、第五反射镜、第六反射镜、第一小孔、分光装置、光电探测设备，准直光源发生器用于产生准直光源，准直光源依次经过第一反射镜、第二反射镜进行调制后再依次通过第一小孔、分光装置，最后在光电探测设备上得到干涉条纹；红外光源产生器用于产生红外光源，红外光源依次经过第五反射镜、第六反射镜、第二反射镜后再通过第一小孔、分光装置，最后在光电探测设备上得到光斑干涉。本发明的有益效果是：本发明的系统可以进行不同波段相位的测量，而且可以测量微米级别的超表面结构的相位。
Description
技术领域
本发明涉及光子晶体领域，尤其涉及一种可测量微米级别反射和透射光学相位的系统。
背景技术
随着制备技术的发展以及现实需求的提高，光相位信息的表征也变得至关重要。当两束光满足相干条件时，即传播方向相同，频率相同，偏振方向不正交时，这两束光会干涉，干涉的强度和这两束光的相位差有关。而且当两束光的偏振方向相同时，具体相位差的大小可以通过干涉光强度公式反推，由此我们就能够表征相位。
超构材料是一种新兴的亚波长人工电磁结构，其特征尺寸小于与之作用的电磁波波长。通过人工设计的结构排布方式和材料组成，超构材料可以在二维尺度上实现传统天然材料与复合材料难以实现的异常电磁响应，将人类调控电磁波的自由度提高到了一个新的层次。因此，超构材料自提出以来就受到了电磁学、光学以及光子学等领域的广泛关注。近年来的研究表明，基于超构材料的功能器件由于其高集成度、多功能化以及轻量化等特点在电磁通讯、计算全息、辐射调控和探测成像等领域相较于传统器件具有独特的优势。亚波长结构是指结构的特征尺寸比工作波长更小的周期性(或非周期性)结构。由于其特征尺寸小于与之作用的电磁波波长，与传统衍射元件不同，亚波长结构中的高阶衍射级次不能在自由空间中传播，因此亚波长结构对电磁波的调控效率优于传统衍射元件；同时，通过设计亚波长结构的排列方式与材料组成，可以改变材料的宏观电磁特性，这使得该类人工结构可以实现天然材料难以实现的新颖功能。典型的基于亚波长结构的功能材料主要包括光子晶体、频率选择表面、亚波长光栅以及超构材料等。典型的超构材料主要有以下的三个特点：
(1)由人工设计的亚波长尺度单元(单元结构)构成；
(2)具有超常的电磁特性(往往是自然界的材料中所不具备的)；
(3)所表现出的电磁响应不主要取决于构成材料的本征性质，而取决于人工结构的排布方式。
由于超构表面能够在二维尺度实现对电磁波的灵活调控，相较于传统三维超构材料，具有更好的集成度并且更易于加工制备。
超构表面的一个重要应用就是对相位进行调制，相应可以制成超构透镜。众所周知，透镜是光学领域常见的位相调控器件，如生活中常用的放大镜、望远镜以及显微镜等。事实上，能够将电磁波会聚或发散的器件都可以看作是广义的透镜，如微波段的抛物面天线等。传统透镜主要是通过改变器件的宏观形貌引入相位差，从而实现对电磁波波束的调控，但这种方式会导致器件的尺寸和重量较大，不利于器件的集成化与级联。超构透镜相位调控的原理主要是利用超构表面的谐振特性在界面处引入位相突变，通过适当的结构排布可以在平面上满足需要的相位分布。
超构表面的相位性质正在越来越多的光子学研究中起着重要作用，这也对相应的光学测量手段提出了新的要求，而且超构表面特殊的透射相位和反射相位都是其应用于各个领域的重要性质。目前，市面上已有一些用于测量显微样品材料的光学相位性质的专利技术，如光学相位测量轮廓术和相称显微技术，但这些技术仅能满足部分测量需求。
相位测量轮廓术是根据观察物体上条纹的变形情况来测量物体三维形貌。它通过多幅相移条纹图来计算得到截断的相位,再通过相位展开算法将截断相位展开为连续相位,最后根据一定的算法从相位分布中恢复物体的实际三维面形。该方法处理数据的方式比较复杂，且市面上大多数系统都是测量反射相位。对于透射相位显微测量的系统比较少，反射相位和透射相位测量功能集成的更加少。
发明内容
本发明提供了一种可测量微米级别反射和透射光学相位的系统，包括相位测量系统，所述相位测量系统包括准直光源发生器、红外光源产生器、第一反射镜、第二反射镜、第五反射镜、第六反射镜、第一小孔、分光装置、光电探测设备，所述准直光源发生器用于产生准直光源，所述准直光源依次经过所述第一反射镜、所述第二反射镜进行调制后再依次通过所述第一小孔、所述分光装置，最后在所述光电探测设备上得到干涉条纹；所述红外光源产生器用于产生红外光源，所述红外光源依次经过所述第五反射镜、所述第六反射镜、所述第二反射镜后再通过所述第一小孔、所述分光装置，最后在所述光电探测设备上得到光斑干涉。
作为本发明的进一步改进，所述分光装置包括第三反射镜、第四反射镜、第一分光棱镜、第二分光棱镜、光楔、第二小孔、第三小孔、显微系统，所述准直光源或所述红外光源经所述第一分光棱镜后分别被分成两束光源，其中一束光源依次经过所述第二小孔、所述光楔、所述第三小孔、所述第四反射镜到达所述第二分光棱镜，另一束光源依次经过所述第三反射镜、所述显微系统后到达所述第二分光棱镜。
作为本发明的进一步改进，所述显微系统包括第一物镜、第二物镜，所述第三反射镜之后依次安装有所述第一物镜、所述第二物镜。
作为本发明的进一步改进，该系统还包括可调衰减片，所述可调衰减片安装在所述第二小孔和所述光楔之间。
作为本发明的进一步改进，该系统还包括红外观察卡，所述红外观察卡用于判断红外激光光源有没有通过所述第一小孔和所述第二小孔。
作为本发明的进一步改进，所述第一物镜、所述第二物镜放大倍数一样且共焦。
作为本发明的进一步改进，所述相位测量系统去掉所述第三反射镜、所述第一物镜，在所述第二分光棱镜之后增加第七反射镜，再将所述第二分光棱镜旋转90度，即构成反射相位测量系统。
作为本发明的进一步改进，该系统还包括第一镜架、第二镜架和步进电机，所述第一物镜安装在所述第一镜架上，所述第二物镜安装在所述第二镜架上，所述第一镜架、所述第二镜架为可活动镜架，所述步进电机用于移动样品。
作为本发明的进一步改进，所述光电探测设备为CCD。
本发明的有益效果是：1.本发明的系统可以进行不同波段相位的测量，而且可以测量微米级别的超表面结构的相位，这和近些年来超表面相位调控精细化和工作波段变宽的趋势吻合；2.本发明的系统只需要转动一个器件的角度即可实现测量透射相位和测量反射相位功能的切换，功能灵活；3.本发明的系统结构简单、成本低、性能可靠，实现非接触检测，由强度获得相位的方式比较简单。
附图说明
图1是本发明相位测量光路示意图；
图2是本发明超构表面透射相位测量数据图；
图3是本发明反射相位测量光路示意图；
图4是本发明超构表面反射相位测量数据图。
具体实施方式
干涉法是一种经典相位测量技术，自从提出“干涉”这个概念以来，干涉技术在光学和光学测量中发挥了重要的作用。干涉法的基本原理通过物光和参考光的干涉，物体的相位信息调制干涉条纹中，通过数值计算方法将相位从干涉图解调出来。
如图1所示，本发明公开了一种可测量微米级别反射和透射光学相位的系统，包括相位测量系统，所述相位测量系统包括准直光源发生器17、红外光源产生器18、第一反射镜1、第二反射镜2、第五反射镜5、第六反射镜6、第一小孔12、分光装置、光电探测设备15，所述准直光源发生器17用于产生准直光源，所述准直光源依次经过所述第一反射镜1、所述第二反射镜2进行调制后再依次通过所述第一小孔12、所述分光装置，最后在所述光电探测设备15上得到干涉条纹；所述红外光源产生器18用于产生红外光源，所述红外光源依次经过所述第五反射镜5、所述第六反射镜6、所述第二反射镜2后再通过所述第一小孔12、所述分光装置，最后在所述光电探测设备15上得到光斑干涉。
所述分光装置包括第三反射镜3、第四反射镜4、第一分光棱镜7、第二分光棱镜8、光楔9、第二小孔13、第三小孔14、显微系统，所述准直光源或所述红外光源经所述第一分光棱镜7后分别被分成两束光源，其中一束光源依次经过所述第二小孔13、所述光楔9、所述第三小孔14、所述第四反射镜4到达所述第二分光棱镜8，另一束光源依次经过所述第三反射镜3、所述显微系统后到达所述第二分光棱镜8。
所述显微系统包括第一物镜10、第二物镜11，所述第三反射镜3之后依次安装有所述第一物镜10、所述第二物镜11。
该系统还包括可调衰减片19，所述可调衰减片19安装在所述第二小孔13和所述光楔9之间。
该系统还包括红外观察卡，所述红外观察卡用于判断红外激光光源有没有通过所述第一小孔12和所述第二小孔13。
所述第一物镜10、所述第二物镜11放大倍数一样且共焦。
如图3所示，所述相位测量系统去掉所述第三反射镜3、所述第一物镜10，在所述第二分光棱镜8之后增加第七反射镜20，再将所述第二分光棱镜8旋转90度，即构成反射相位测量系统。
该系统还包括第一镜架、第二镜架和步进电机16，所述第一物镜10安装在所述第一镜架上，所述第二物镜11安装在所述第二镜架上，所述第一镜架、所述第二镜架为可活动镜架，所述步进电机是位移器件，用于移动样品。
所述光电探测设备为CCD，CCD为电荷耦合器件。
本发明公开的可测量微米级别反射和透射光学相位的系统用于测量和表征超构表面的透射和反射光学相位信息，能够对样品的测量区域进行精确选择，可用于探测样品不同位置的空间相干性信息。
本发明公开的可测量微米级别反射和透射光学相位的系统通过光学元件令入射的光束分成经过样品和不经过样品的两路光束传播，而后在样品的空间中干涉；利用光电探测设备CCD测量叠加信号的强度，从中提取出样品在空间中的光学相位响应信息。
下面结合附图对本相位测量系统进行说明。
在进行红外光相位测量时，以1550nm的光源作为实例，为了保证1550nm的光源能在CCD上干涉，我们先利用可见激光器对光路进行准直，利用第一反射镜1和第二反射镜2对光源进行调制使得光通过第一小孔12和第二小孔13，让参考光(准直光源)这一路准直，考虑到在实际过程中插入光楔9会影响光的路径，在调节光路的过程中，光楔9已经插入了。光楔9本身只是额外引入一段相位差，后可以通过调节第四反射镜4来补偿这一段相位差。之后调节第三反射镜3和第一分光棱镜7使得测量光路(红外光源的光路)准直，之后调节第四反射镜4和第二分光棱镜8，可以在CCD上看到干涉条纹，而且此时为了保证引入红外光之后仍然能比较容易调出干涉条纹，可以略微调节第四反射镜4，使得干涉的明暗条纹最粗。
为了能够测量微小结构我们加入第一物镜10和第二物镜11，它们构成了显微系统，不同的物镜具有不同的放大倍数、数值孔径、工作距离、增透波段等，适用于不同的样品种类和测量需求。先调节第一镜架和第二镜架的俯仰角，使得它们与光束传播方向平行，接下来加上第一物镜10，调节第一物镜10的位置使得光束通过第一物镜10的中心，之后加上第二物镜11，使得光束通过第二物镜11的中心，之后调节第二物镜11在光束传播方向的位置使得CCD上出现比较明显的干涉圆环。
接下来我们可以将红外激光引入准直光路中，来进行红外波段的相位测量，此时可以引入第五反射镜5和第六反射镜6使得红外光同时通过第一小孔12和第二小孔13，而判断红外激光有没有同时通过第一小孔12和第二小孔13，利用红外观察卡即可。当红外光大致通过两个小孔后，此时在CCD上能看到两个光斑，之后继续调节第五反射镜5和第六反射镜6使得两光斑干涉，第四反射镜4也是调节光斑干涉的一个重要自由度，因为它只影响参考光的光程，而不影响测量光的量程。
两光斑在CCD上干涉后，可以在CCD上看到干涉圆环，由于准直光和测量光(红外光源)分别是可见波段和红外波段，此时还要进行光路的两个物镜进行优化，以保证测量相位时不会引入其它相位差。在两个物镜的位置优化完成后，可以调节光楔9使得干涉圆环中心最亮，即参考光和相干光相干相长。
插入样品，先调节物镜的位置使其CCD上的成像清晰，挪到所需要测相位的位置，拍照即可，利用干涉光强即可反推相位。
测量连续相位的时候，我们可以利用算法来反推相位，同时光在小改之后可以进行反射相位的测量，接下来我们通过两个实例来展现连续相位的测量以及反射相位的测量。第一物镜10和第二物镜11的放大倍数一样且共焦这样才能消除显微系统引入的相位。
1.超构表面红外波段相位测量，在测量如图1所示的相位时，我们在光路准直完之后，进行相位测量，由于经过物镜之后只有微米级别的区域能成像，为了测量2.5mm长度上连续相位的分布，我们可以利用步进电机16移动样品进行扫描，同时利用CCD录像，录像的时间与距离成正比，通过处理这个视频的干涉强度就能得到样品的相位分布，图2即为测量结果。
2.超构表面反射相位测量
我们只需要将第二分光棱镜8转90度即可将此光路用于测量反射相位，测量的精度同样能达到微米级别。如图3所示，将第二分光棱镜8旋转90度，再加上一个可以三维移动的第七反射镜20，即可测量反射相位。此时参考光路即为第七反射镜20正反射的光，测量光路即为光会聚入射到样品上，再原路返回。在调节光路的过程中主要调节样品的俯仰角，使得光能正反射到CCD上，之后调节第七反射镜20的俯仰角和位置，使得参考光和测量光在CCD的屏幕上干涉。此处实例我们测量的是8个100微米X100微米样品的反射相位，分别移动八个样品到物镜2的焦点，记录下CCD上的干涉光强，图4即为测量相位与设计相位的比较。
本发明的有益效果：1.本发明的系统可以进行不同波段相位的测量，而且可以测量微米级别的超表面结构的相位，这和近些年来超表面相位调控精细化和工作波段变宽的趋势吻合；2.本发明的系统只需要转动一个器件的角度即可实现测量透射相位和测量反射相位功能的切换，功能灵活；3.本发明的系统结构简单、成本低、性能可靠，实现非接触检测，由强度获得相位的方式比较简单。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种可测量微米级别反射和透射光学相位的系统，其特征在于：包括相位测量系统，所述相位测量系统包括准直光源发生器(17)、红外光源产生器(18)、第一反射镜(1)、第二反射镜(2)、第五反射镜(5)、第六反射镜(6)、第一小孔(12)、分光装置、光电探测设备(15)，所述准直光源发生器(17)用于产生准直光源，所述准直光源依次经过所述第一反射镜(1)、所述第二反射镜(2)进行调制后再依次通过所述第一小孔(12)、所述分光装置，最后在所述光电探测设备(15)上得到干涉条纹；所述红外光源产生器(18)用于产生红外光源，所述红外光源依次经过所述第五反射镜(5)、所述第六反射镜(6)、所述第二反射镜(2)后再通过所述第一小孔(12)、所述分光装置，最后在所述光电探测设备(15)上得到光斑干涉。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述分光装置包括第三反射镜(3)、第四反射镜(4)、第一分光棱镜(7)、第二分光棱镜(8)、光楔(9)、第二小孔(13)、第三小孔(14)、显微系统，所述准直光源或所述红外光源经所述第一分光棱镜(7)后分别被分成两束光源，其中一束光源依次经过所述第二小孔(13)、所述光楔(9)、所述第三小孔(14)、所述第四反射镜(4)到达所述第二分光棱镜(8)，另一束光源依次经过所述第三反射镜(3)、所述显微系统后到达所述第二分光棱镜(8)。
3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于：所述显微系统包括第一物镜(10)、第二物镜(11)，所述第三反射镜(3)之后依次安装有所述第一物镜(10)、所述第二物镜(11)。
4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于：该系统还包括可调衰减片(19)，所述可调衰减片(19)安装在所述第二小孔(13)和所述光楔(9)之间。
5.根据权利要求2所述的系统，其特征在于：该系统还包括红外观察卡，所述红外观察卡用于判断红外激光光源有没有通过所述第一小孔(12)和所述第二小孔(13)。
6.根据权利要求3所述的系统，其特征在于：所述第一物镜(10)、所述第二物镜(11)放大倍数一样且共焦。
7.根据权利要求3所述的系统，其特征在于：该系统还包括第一镜架、第二镜架和步进电机(16)，所述第一物镜(10)安装在所述第一镜架上，所述第二物镜(11)安装在所述第二镜架上，所述第一镜架、所述第二镜架为可活动镜架，所述步进电机用于移动样品。
8.根据权利要求4所述的系统，其特征在于：所述相位测量系统去掉所述第三反射镜(3)、所述第一物镜(10)，在所述第二分光棱镜(8)之后增加第七反射镜(20)，再将所述第二分光棱镜(8)旋转90度，即构成反射相位测量系统。
9.根据权利要求1所述的系统，其特征在于：所述光电探测设备为CCD。
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Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102589684A (zh) * | 2011-12-14 | 2012-07-18 | 长春理工大学 | 一种红外激光测量像面对准装置 |
| CN205643181U (zh) * | 2015-12-30 | 2016-10-12 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 反射双波长合成孔径全息术的光学元件表面疵病检测装置 |
| CN106872415A (zh) * | 2017-01-23 | 2017-06-20 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 结合显微成像的多波长样品光限幅性能的测量装置和测量方法 |
| CN108132026A (zh) * | 2018-01-24 | 2018-06-08 | 赵智亮 | 半导体中红外可见光双波长透射式干涉测试装置 |
| CN109085139A (zh) * | 2018-08-23 | 2018-12-25 | 天津大学 | 红外透射式离轴数字全息显微测量系统 |
| CN110631994A (zh) * | 2019-10-24 | 2019-12-31 | 上海复享光学股份有限公司 | 动量空间光学相位测量系统 |
| CN111397861A (zh) * | 2020-04-17 | 2020-07-10 | 复旦大学 | 微型透镜检测系统及其检测方法 |
-
2021
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Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102589684A (zh) * | 2011-12-14 | 2012-07-18 | 长春理工大学 | 一种红外激光测量像面对准装置 |
| CN205643181U (zh) * | 2015-12-30 | 2016-10-12 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 反射双波长合成孔径全息术的光学元件表面疵病检测装置 |
| CN106872415A (zh) * | 2017-01-23 | 2017-06-20 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 结合显微成像的多波长样品光限幅性能的测量装置和测量方法 |
| CN108132026A (zh) * | 2018-01-24 | 2018-06-08 | 赵智亮 | 半导体中红外可见光双波长透射式干涉测试装置 |
| CN109085139A (zh) * | 2018-08-23 | 2018-12-25 | 天津大学 | 红外透射式离轴数字全息显微测量系统 |
| CN110631994A (zh) * | 2019-10-24 | 2019-12-31 | 上海复享光学股份有限公司 | 动量空间光学相位测量系统 |
| CN111397861A (zh) * | 2020-04-17 | 2020-07-10 | 复旦大学 | 微型透镜检测系统及其检测方法 |
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