CN113108909A - 一种光谱成像设备校正方法及光谱成像设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种光谱成像设备校正方法及光谱成像设备，首先获取目标光及环境光，并对获取的环境光标记特征光谱，通过采样口的第一区域对目标光采样，通过光谱成像设备获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及通过采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，通过光谱成像设备获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果，根据第二成像结果获得第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，根据该关系对第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正。本发明能够同步地获取目标光和环境光进行光谱成像，根据环境光的成像结果对目标光成像进行校正，能够在拍摄过程中对成像光谱实时地标定及校正。

Description

一种光谱成像设备校正方法及光谱成像设备
技术领域
本发明涉及光谱和辐射标定及校正领域，特别是涉及一种光谱成像设备校正方法。本发明还涉及一种光谱成像设备。
背景技术
高光谱成像仪能够获取目标连续的光谱和图像信息，在农业、生态、国土资源等领域有着广泛的应用。光谱校正和辐射校正是高光谱成像仪定量遥感的基础，在实际应用中，无论是星载、机载还是地基高光谱成像仪都需要在实验室进行严格的光谱和辐射标定，并在使用过程中进行校正。通常仪器的标定和校正是一个独立的工作模式，无法在实际遥感拍摄过程中同步开展光谱和辐射的标定及校正，无法实时监视和标定遥感拍摄过程中仪器光谱和辐射状态的变化，以及环境变化对光谱、辐射测量结果的影响。
发明内容
本发明的目的是提供一种光谱成像设备校正方法及光谱成像设备，能够在拍摄过程中对成像光谱变化实时地标定及校正。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种光谱成像设备校正方法，包括：
获取目标光及环境光，并对获取的环境光标记特征光谱；
通过采样口的第一区域对目标光采样，通过光谱成像设备获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及通过所述采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，通过所述光谱成像设备获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果；
根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，根据该关系对所述第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正。
优选的，对获取的环境光标记特征光谱包括：向环境光加入一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱，或者滤除环境光中一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱。
优选的，根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系包括：
根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱的中心波长和带宽；
根据所述第二成像结果中特征光谱的中心波长和带宽，以及环境光中特征光谱的中心波长和带宽，获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系。
优选的，根据该关系对所述第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正包括：
根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正所述第一成像结果各个像元中心波长的位置。
优选的，还包括：对进入所述采样口之前的、经过标记的环境光测量辐射强度；
根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正所述第二成像结果各个像元中心波长的位置；
根据进入所述采样口之前的、经过标记的环境光的辐射强度值，对经过波长位置校正的所述第二成像结果各个像元中心波长的辐射强度值校正；
根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正所述第一成像结果各个像元中心波长的位置；
根据对经过波长位置校正的所述第二成像结果各个像元中心波长的辐射强度值的校正量，对经过波长位置校正的所述第一成像结果各个像元中心波长的辐射强度值校正。
优选的，所述采样口为狭缝，第二区域位于所述狭缝一端。
一种光谱成像设备，应用以上所述的光谱成像设备校正方法，包括第一获取装置、第二获取装置，采样口和成像装置；
所述第一获取装置用于获取目标光，所述第二获取装置用于获取环境光，并对环境光标记特征光谱；
所述采样口用于通过第一区域对目标光采样，通过第二区域对经过标记的环境光采样，所述成像装置用于获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果。
优选的，所述第二获取装置具体用于向环境光加入一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱，或者所述第二获取装置具体用于滤除环境光中一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱。
优选的，所述第二获取装置还用于对进入所述采样口之前的、经过标记的环境光测量辐射强度。
优选的，所述成像装置具体用于将目标光和经过标记的环境光成像在同一感光面上。
由上述技术方案可知，本发明所提供的一种光谱成像设备校正方法，首先获取目标光及环境光，并对获取的环境光标记特征光谱，通过采样口的第一区域对目标光采样，通过光谱成像设备获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及通过采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，通过光谱成像设备获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果，然后，根据第二成像结果获得第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，根据该关系对第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正。
本发明的光谱成像设备校正方法，通过采样口的第一区域对目标光采样，通过采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，能够同步地获取目标光和环境光进行光谱成像，根据环境光的成像结果对目标光的成像结果进行校正，能够在拍摄过程中对成像光谱变化实时地标定及校正。
本发明提供的一种光谱成像设备，能够达到上述有益效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种光谱成像设备校正方法的流程图；
图2为本发明实施例中采样口的示意图；
图3为通过图2所示采样口在感光面上形成的目标成像区域和环境光成像区域的示意图；
图4为本发明又一实施例提供的一种光谱成像设备校正方法的流程图；
图5为一具体实例中对环境光的成像结果校正光谱位置之前和之后的光谱图；
图6(a)为一具体实例中标记前环境光的光谱图；
图6(b)为一具体实例使用的窄带光源的光谱图；
图6(c)为使用图6(b)所示的窄带光源对环境光标记特征光谱后的光谱图；
图7(a)为一具体实例使用的滤光器件的透过率曲线；
图7(b)为使用图7(a)所示的滤光器件对环境光标记特征光谱后的光谱图；
图8为本发明实施例提供的一种光谱成像设备的示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明中的技术方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。
请参考图1，图1为本实施例提供的一种光谱成像设备校正方法的流程图，由图可知，所述光谱成像设备校正方法包括以下步骤：
S10：获取目标光及环境光，并对获取的环境光标记特征光谱。
特征光谱是指在环境光光谱中能够容易识别出的光谱波段。
S11：通过采样口的第一区域对目标光采样，通过光谱成像设备获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及通过所述采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，通过所述光谱成像设备获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果。
光的光谱信息至少包括光的波长信息以及各个波长位置的辐射强度。对光获取光谱信息并进行成像，得到的成像结果包含光谱信息。
采样口的第一区域和第二区域是两个相互独立的区域，相互之间没有重叠。将目标光入射到采样口的第一区域，目标光透过采样口的第一区域后，通过光谱成像设备获取目标光的光谱信息并进行成像。将环境光引导入射到采样口的第二区域，使环境光透过采样口的第二区域后，通过光谱成像设备获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像。
S12：根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，根据该关系对所述第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正。
第二成像结果中特征光谱位置是指在第二成像结果中检测出的特征光谱的波段位置。环境光中特征光谱位置是指在环境光中实际标记的特征光谱的波段位置。
根据第二成像结果获得第二成像结果中特征光谱的位置，可以得到第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系。根据第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，对目标光对应的第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正。
本实施例的光谱成像设备校正方法，通过采样口的第一区域对目标光采样，通过采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，能够同步地获取目标光和环境光进行光谱成像，根据环境光的成像结果对目标光的成像结果进行校正，能够在拍摄过程中对成像光谱实时地标定及校正。
下面结合具体实施方式对本光谱成像设备校正方法进行详细说明。参考图1所示，本光谱成像设备校正方法包括以下步骤：
S10：获取目标光及环境光，并对获取的环境光标记特征光谱。
可选的，可以向环境光加入一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱，或者也可以滤除环境光中一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱。在实际应用中，可以根据光谱成像设备的工作波段范围选取特征波长，来对环境光标记特征光谱。
另外，若环境光中存在比较明显且稳定的光谱波段，可以将这些光谱波段作为特征光谱，这样可以不向环境光另外加入特征波长光或者抑制特征波长光来进行标记光谱。
S11：通过采样口的第一区域对目标光采样，通过光谱成像设备获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及通过所述采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，通过所述光谱成像设备获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果。
采样口的第一区域和第二区域是两个相互独立的区域，相互之间没有重叠。优选的，采样口为狭缝，可设置第二区域位于狭缝一端，可在狭缝一端仅设置一个第二区域，或者也可在狭缝的两端分别设置一个第二区域。第二区域沿狭缝长度方向的长度小于第一区域沿狭缝长度方向的长度，第二区域的长度可以很小，比如对应在成像设备感光面上占几个或者十几个像素。请参考图2，图2为本实施例中采样口的示意图，其中第二区域202位于采样口20一端，第二区域202的长度小于第一区域201的长度。
透过采样口第一区域的目标光进入光谱成像设备，光谱成像设备将目标光进行色散并成像在光谱成像设备的感光面上。透过采样口第二区域的经过标记的环境光进入光谱成像设备，光谱成像设备将经过标记的环境光进行色散并成像在光谱成像设备的感光面上。
优选的，可以将目标光和经过标记的环境光成像在同一感光面上。若将目标光和环境光成像在同一感光面上，目标光成像区域和环境光成像区域在空间维的位置与采样口的第一区域和第二区域的位置对应，目标光成像区域和环境光成像区域在空间维的尺寸分别与采样口的第一区域和第二区域的尺寸对应。在光谱维目标光和环境光经光谱成像设备色散后，目标光光谱和环境光光谱连续分布在感光面上。请参考图3，图3为通过图2所示采样口在感光面上形成的目标成像区域和环境光成像区域的示意图，可以看出，目标光成像区域203和环境光成像区域204在空间维的位置、大小分别与采样口20的第一区域201和第二区域202的位置、大小对应。
通过采样口的第一区域和第二区域分别对目标光和环境光采样，能够通过光谱成像设备同步地对目标光和环境光进行光谱成像。进行同步成像后，根据经过标记的环境光的成像结果，能够对目标光的成像结果的光谱信息进行校正，能够实现在拍摄过程中进行实时校正。
S12：根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，根据该关系对所述第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正。
可选的，可根据以下过程获得第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，具体包括以下步骤：
S120：根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱的中心波长和带宽。
根据得到的第二成像结果，根据所成像中各个像元的辐射强度值，获得其中特征光谱的中心波长和带宽。具体可根据所成像中各个像元的辐射强度值通过拟合方式获得特征光谱的中心波长和带宽。
S121：根据所述第二成像结果中特征光谱的中心波长和带宽，以及环境光中特征光谱的中心波长和带宽，获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系。
第二成像结果中特征光谱位置与环境光中实际特征光谱位置的关系可能是线性关系或者非线性关系。根据第二成像结果中特征光谱的中心波长和带宽以及环境光中实际特征光谱的中心波长和带宽，可以获得第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系。比如第二成像结果中特征光谱位置与环境光中实际特征光谱位置的关系是线性关系，即第二成像结果中特征光谱位置相对于环境光中实际特征光谱位置平移了一个移动量。
对第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正可具体包括对第一成像结果各个像元的光谱位置校正。根据第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正目标光对应的第一成像结果各个像元中心波长的位置，对第一成像结果各个像元的光谱位置进行校正。
本实施例的光谱成像设备校正方法，通过采样口的第一区域对目标光采样，通过采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，能够同步地获取目标光和环境光进行光谱成像，根据环境光中特征光谱位置的变化，实现对目标光所成像中光谱位置的校正，能够在拍摄过程中对成像光谱实时地标定及校正。
进一步的请参考图4，图4为又一实施例提供的一种光谱成像设备校正方法的流程图，由图可知，所述光谱成像设备校正方法包括以下过程，具体包括以下步骤：
S20：获取目标光及环境光，并对获取的环境光标记特征光谱。
S21：对进入采样口之前的、经过标记的环境光测量辐射强度。
对获取的环境光标记特征光谱后，对经过标记的环境光测量辐射强度。而后将经过标记的环境光引导入射到采样口的第二区域。
S22：通过采样口的第一区域对目标光采样，通过光谱成像设备获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及通过所述采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，通过所述光谱成像设备获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果。
本实施例中步骤S20和步骤S22的具体实施方式可参考上文所述。
S23：根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正所述第二成像结果各个像元中心波长的位置。
根据第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正经过标记的环境光对应的第二成像结果各个像元中心波长的位置，对第二成像结果各个像元的光谱位置校正。示例性的请参考图5，图5为一具体实例中对环境光的成像结果校正光谱位置之前和之后的光谱图，其中虚线表示光谱位置校正前的光谱曲线，实线表示光谱位置校正后的光谱曲线。其中环境光成像结果中光谱位置相对于环境光中实际光谱位置平移了一个移动量。
S24：根据进入所述采样口之前的、经过标记的环境光的辐射强度值，对经过波长位置校正的所述第二成像结果各个像元中心波长的辐射强度值校正。
对经过标记的环境光的成像结果即第二成像结果校正波长位置之后，根据测得的进入采样口之前的、经过标记的环境光的辐射强度值，对经过波长位置校正的第二成像结果各个像元中心波长的辐射强度值校正。进而实现环境光色散区域各个像元理论中心波长的辐射强度的校正，保证环境光色散区域每次拍摄获取图像中心波长矩阵的一致性和辐射信息的准确性。
S25：根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正所述第一成像结果各个像元中心波长的位置。
根据第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正目标光对应的第一成像结果各个像元中心波长的位置，对第一成像结果各个像元的光谱位置进行校正。
S26：根据对经过波长位置校正的所述第二成像结果各个像元中心波长的辐射强度值的校正量，对经过波长位置校正的所述第一成像结果各个像元中心波长的辐射强度值校正。
通过采样口的第一区域和第二区域分别对目标光和环境光采样，能够通过光谱成像设备同步地对目标光和环境光进行光谱成像。进行同步成像后，根据对环境光成像结果各个像元的辐射强度值的校正，相应地对目标光的成像结果各个像元的辐射强度值校正，实现对目标光成像结果辐射强度的校正。
本实施例的光谱成像设备校正方法，通过采样口的第一区域对目标光采样，通过采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，能够同步地获取目标光和环境光进行光谱成像，根据环境光中特征光谱位置的变化，能够实现对目标光所成像中光谱位置的校正，并且通过测量经过标记的环境光的辐射强度，根据环境光所成像中辐射强度值的变化，能够实现对目标光所成像中辐射强度的校正。从而能够实现对目标光所成像中光谱信息的校正以及辐射特性变化的校正，能够在拍摄过程中对成像光谱和辐射特性变化实时地标定及校正。
在一具体实例中，通过向环境光加入多种特征波长对环境光标记特征光谱。请参考图6(a)、图6(b)和图6(c)，图6(a)为标记前环境光的光谱图，图6(b)为一具体实例使用的窄带光源的光谱图，图6(c)为使用图6(b)所示的窄带光源对环境光标记特征光谱后的光谱图。可选的，可使用多个窄带LED光源发出特征光谱，并通过匀光器与环境光叠加，从而生成光谱标记后的环境光。
还可通过滤除环境光中多种特征波长对环境光标记特征光谱，请参考图7(a)和图7(b)，图7(a)为一具体实例使用的滤光器件的透过率曲线，图7(b)为使用图7(a)所示滤光器件对环境光标记特征光谱后的光谱图。
本实施例还提供一种光谱成像设备，应用以上所述的光谱成像设备校正方法。请参考图8，图8为本实施例提供的一种光谱成像设备的示意图，由图可知，所述光谱成像设备包括第一获取装置31、第二获取装置32，采样口30和成像装置33；
所述第一获取装置31用于获取目标光，所述第二获取装置32用于获取环境光，并对环境光标记特征光谱；
所述采样口30用于通过第一区域对目标光采样，通过第二区域对经过标记的环境光采样，所述成像装置33用于获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果。
本实施例的光谱成像设备能够应用以上所述的校正方法，通过采样口的第一区域对目标光采样，通过采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，能够同步地获取目标光和环境光进行光谱成像，根据环境光的成像结果对目标光的成像结果进行校正，能够在拍摄过程中对成像光谱实时地标定及校正。
可选的，第二获取装置32可具体用于向环境光加入一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱，进行主动式的标记。具体可采用发出特征波长光的光源，向环境光标记特征光谱。
可选的，第二获取装置32可具体用于滤除环境光中一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱，进行被动式的标记。具体可采用滤光器件对环境光进行滤光，使环境光中一种或者多种波长光被抑制。
进一步的，第二获取装置32还用于对进入所述采样口30之前的、经过标记的环境光测量辐射强度。可选的，第二获取装置32可采用匀光装置对经过标记的环境光匀光处理，而后测量经过标记的环境光的辐射强度。匀光装置可采用但不限于积分球、余弦校正器或者毛玻璃。可选的，所述光谱成像设备还可包括光引导装置，光引导装置用于将获取的环境光引导入射到采样口30的第二区域。还可包括存储装置，用于存储获得的第一成像结果、第二成像结果以及校正后的成像结果。
本实施例的光谱成像设备可以应用于遥感高光谱成像设备，第一获取装置可采用望远镜。
以上对本发明所提供的一种光谱成像设备校正方法及光谱成像设备进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

Claims (10)

1.一种光谱成像设备校正方法，其特征在于，包括：
获取目标光及环境光，并对获取的环境光标记特征光谱；
通过采样口的第一区域对目标光采样，通过光谱成像设备获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及通过所述采样口的第二区域对经过标记的环境光采样，通过所述光谱成像设备获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果；
根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，根据该关系对所述第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正。
2.根据权利要求1所述的光谱成像设备校正方法，其特征在于，对获取的环境光标记特征光谱包括：向环境光加入一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱，或者滤除环境光中一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱。
3.根据权利要求1所述的光谱成像设备校正方法，其特征在于，根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系包括：
根据所述第二成像结果获得所述第二成像结果中特征光谱的中心波长和带宽；
根据所述第二成像结果中特征光谱的中心波长和带宽，以及环境光中特征光谱的中心波长和带宽，获得所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系。
4.根据权利要求1所述的光谱成像设备校正方法，其特征在于，根据该关系对所述第一成像结果各个像元的光谱信息进行校正包括：根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正所述第一成像结果各个像元中心波长的位置。
5.根据权利要求1所述的光谱成像设备校正方法，其特征在于，还包括：对进入所述采样口之前的、经过标记的环境光测量辐射强度；
根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正所述第二成像结果各个像元中心波长的位置；
根据进入所述采样口之前的、经过标记的环境光的辐射强度值，对经过波长位置校正的所述第二成像结果各个像元中心波长的辐射强度值校正；
根据所述第二成像结果中特征光谱位置与环境光中特征光谱位置的关系，校正所述第一成像结果各个像元中心波长的位置；
根据对经过波长位置校正的所述第二成像结果各个像元中心波长的辐射强度值的校正量，对经过波长位置校正的所述第一成像结果各个像元中心波长的辐射强度值校正。
6.根据权利要求1-5任一项所述的光谱成像设备校正方法，其特征在于，所述采样口为狭缝，第二区域位于所述狭缝一端。
7.一种光谱成像设备，其特征在于，应用权利要求1-6任一项所述的光谱成像设备校正方法，包括第一获取装置、第二获取装置，采样口和成像装置；
所述第一获取装置用于获取目标光，所述第二获取装置用于获取环境光，并对环境光标记特征光谱；
所述采样口用于通过第一区域对目标光采样，通过第二区域对经过标记的环境光采样，所述成像装置用于获取目标光的光谱信息并进行成像得到第一成像结果，以及获取经过标记的环境光的光谱信息并进行成像得到第二成像结果。
8.根据权利要求7所述的光谱成像设备，其特征在于，所述第二获取装置具体用于向环境光加入一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱，或者所述第二获取装置具体用于滤除环境光中一种或者多种特征波长光以实现标记特征光谱。
9.根据权利要求7所述的光谱成像设备，其特征在于，所述第二获取装置还用于对进入所述采样口之前的、经过标记的环境光测量辐射强度。
10.根据权利要求7所述的光谱成像设备，其特征在于，所述成像装置具体用于将目标光和经过标记的环境光成像在同一感光面上。
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