CN113088888A - 一种vcsel及vcsel表面偏振光膜镀膜装置 - Google Patents

一种vcsel及vcsel表面偏振光膜镀膜装置 Download PDF

Info

Publication number
CN113088888A
CN113088888A CN202110319846.1A CN202110319846A CN113088888A CN 113088888 A CN113088888 A CN 113088888A CN 202110319846 A CN202110319846 A CN 202110319846A CN 113088888 A CN113088888 A CN 113088888A
Authority
CN
China
Prior art keywords
vcsel
coating
evaporation
polarized light
objective table
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202110319846.1A
Other languages
English (en)
Inventor
詹健龙
陶晟
王林峰
王海成
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zhejiang Kunteng Infrared Technology Co ltd
Original Assignee
Zhejiang Kunteng Infrared Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zhejiang Kunteng Infrared Technology Co ltd filed Critical Zhejiang Kunteng Infrared Technology Co ltd
Priority to CN202110319846.1A priority Critical patent/CN113088888A/zh
Publication of CN113088888A publication Critical patent/CN113088888A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12Organic material
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/18Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities
    • H01S5/183Surface-emitting [SE] lasers, e.g. having both horizontal and vertical cavities having only vertical cavities, e.g. vertical cavity surface-emitting lasers [VCSEL]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

本发明公开了一种VCSEL及VCSEL表面偏振光膜镀膜装置,VCSELL表面镀有偏振光膜,镀膜装置包括有内部具有镀膜室的箱体,箱体连接有抽真空设备,镀膜室内安装有蒸镀源、载物台和扩散筒,蒸所述镀源包括有蒸镀材料和蒸镀组件,蒸镀组件正对载物台,蒸镀组件和载物台分别位于扩散筒的两端,扩散筒可拆卸的安装在镀膜室中。本发明的VCSEL,表面具有偏振光膜,改变了传统VCSEL只有垂直光射出的发光结构,提高了VCSEL发光的可视角度,与其他仪器设备使用,拓宽了VCSEL的应用领域。表面偏振光膜镀膜装置,能够针对体积小的VCSEL芯片进行蒸镀,将偏振光膜蒸镀在VCSEL表面。蒸镀过程操控性强,精度高。

Description

一种VCSEL及VCSEL表面偏振光膜镀膜装置
技术领域
本发明属于VCSEL技术领域,具体涉及一种VCSEL及VCSEL表面偏振光膜镀膜装置。
背景技术
垂直腔面发射激光器(Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser,简称VCSEL,又译垂直共振腔面射型激光)是一种半导体,其激光垂直于顶面射出,与一般激光由边缘射出的边射型激光有所不同。VCSEL激光器在光通信、光存储、激光显示以及照明等领域具有广泛的应用前景。VCSEL激光垂直射出的特性,能够带来区别于其他边射型激光的优势性能。但是垂直射出的光照射物体时,其观察角度受限,这也限制了VCSEL的应用。另外,VCSEL的尺寸一般都很小,发光面大小约2*2mm,封装完尺寸约为5mm。对VCSEL进行加工处理非常困难。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:VCSEL表面偏振光膜镀膜装置,包括有内部具有镀膜室的箱体,箱体连接有抽真空设备,镀膜室内安装有蒸镀源、载物台和扩散筒,蒸所述镀源包括有蒸镀材料和蒸镀组件,蒸镀组件正对载物台,蒸镀组件和载物台分别位于扩散筒的两端,扩散筒可拆卸的安装在镀膜室中。
作为上述技术方案的优选,所述蒸镀材料为PET。
作为上述技术方案的优选,所述箱体包括有翻盖,翻盖铰接在箱体上端,翻盖内侧安装有升降台,升降台由气缸驱动升降,载物台安装在升降台上,载物台上设有用于将VCSEL固定在载物台上的固定装置。
作为上述技术方案的优选,所述固定装置包括有固定板和若干旋转压紧气缸,固定板上设有若干通孔,VCSEL包括有镀膜部位,VCSEL夹在固定板与载物台之间,镀膜部位从通孔露出,旋转压紧气缸分别连接有压块,旋转压紧气缸安装在升降台上。
作为上述技术方案的优选,所述压块为弹性塑料压块,所述固定板的内表面具有弹性。
作为上述技术方案的优选,所述扩散筒呈喇叭状,扩散筒包括有大口径端和小口径端,蒸镀组件位于小口径端中。
作为上述技术方案的优选,所述载物台能够从大口径端伸入到扩散筒中,所述升降台不能伸入到扩散筒中。
作为上述技术方案的优选,所述大口径端安装有缓冲密封垫。
一种VCSEL,所述VCSEL表面镀有偏振光膜。
作为上述技术方案的优选,所述偏振光膜为PET偏振光膜,所述PET偏振光膜的厚度为100-500nm,所述VCSEL通过如权利要求1-8中任意一项的镀膜装置镀膜。
本发明的有益效果是:本发明的VCSEL,表面具有偏振光膜,改变了传统VCSEL只有垂直光射出的发光结构,提高了VCSEL发光的可视角度,与其他仪器设备使用,拓宽了VCSEL的应用领域。表面偏振光膜镀膜装置,能够针对体积小的VCSEL芯片进行蒸镀,将偏振光膜蒸镀在VCSEL表面。蒸镀过程操控性强,精度高。
附图说明
图1是本发明的结构示意图;
图2是翻盖开启时本发明的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
如图1-2所示,VCSEL表面偏振光膜镀膜装置,包括有内部具有镀膜室1的箱体2,箱体2连接有抽真空设备,镀膜室1内安装有蒸镀源、载物台3和扩散筒4,蒸所述镀源包括有蒸镀材料5和蒸镀组件6,蒸镀组件6正对载物台3,蒸镀组件6和载物台3分别位于扩散筒4的两端,扩散筒4可拆卸的安装在镀膜室1中。
进一步的,所述蒸镀材料5为PET。
进一步的,所述箱体2包括有翻盖7,翻盖7铰接在箱体2上端,翻盖7内侧安装有升降台8,升降台8由气缸9驱动升降,载物台3安装在升降台8上,载物台3上设有用于将VCSEL13固定在载物台3上的固定装置。
进一步的,所述固定装置包括有固定板10和若干旋转压紧气缸11,固定板10上设有若干通孔12,VCSEL13包括有镀膜部位,VCSEL13夹在固定板10与载物台3之间,镀膜部位从通孔12露出,旋转压紧气缸11分别连接有压块14,旋转压紧气缸11安装在升降台8上。通过固定板10可以同时蒸镀多个VCSEL13。固定板10上的通孔12可以根据VCSEL13的形状和大小来加工。VCSEL13上镀膜部位占比太大时,VCSEL13也可以采用粘接的方式粘在薄膜上,再将薄膜夹在固定板10与载物台3之间。
进一步的,所述压块14为弹性塑料压块,所述固定板10的内表面具有弹性。固定板10可以定期更换清理,去除上面的蒸镀材料。
进一步的,所述扩散筒4呈喇叭状,扩散筒4包括有大口径端15和小口径端16,蒸镀组件6位于小口径端16中。扩散筒4给蒸镀材料提供扩散导向。扩散筒4可以拆卸安装,方便更换清理。
进一步的,所述载物台3能够从大口径端15伸入到扩散筒4中,所述升降台8不能伸入到扩散筒4中。
进一步的,所述大口径端15安装有缓冲密封垫17。
一种VCSEL13,所述VCSEL13表面镀有偏振光膜。
进一步的,所述偏振光膜为PET偏振光膜,所述PET偏振光膜的厚度为100-500nm。
值得一提的是,本发明专利申请涉及的蒸镀组件6等技术特征应被视为现有技术,这些技术特征的具体结构、工作原理以及可能涉及到的控制方式、空间布置方式采用本领域的常规选择即可,不应被视为本发明专利的发明点所在,本发明专利不做进一步具体展开详述。
以上详细描述了本发明的较佳具体实施例,应当理解,本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本发明的构思做出诸多修改和变化,因此,凡本技术领域中技术人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案,皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。

Claims (10)

1.VCSEL表面偏振光膜镀膜装置,其特征在于,包括有内部具有镀膜室的箱体,箱体连接有抽真空设备,镀膜室内安装有蒸镀源、载物台和扩散筒,蒸所述镀源包括有蒸镀材料和蒸镀组件,蒸镀组件正对载物台,蒸镀组件和载物台分别位于扩散筒的两端,扩散筒可拆卸的安装在镀膜室中。
2.如权利要求1所述的VCSEL表面偏振光膜镀膜装置,其特征在于,所述蒸镀材料为PET。
3.如权利要求1所述的VCSEL表面偏振光膜镀膜装置,其特征在于,所述箱体包括有翻盖,翻盖铰接在箱体上端,翻盖内侧安装有升降台,升降台由气缸驱动升降,载物台安装在升降台上,载物台上设有用于将VCSEL固定在载物台上的固定装置。
4.如权利要求3所述的VCSEL表面偏振光膜镀膜装置,其特征在于,所述固定装置包括有固定板和若干旋转压紧气缸,固定板上设有若干通孔,VCSEL包括有镀膜部位,VCSEL夹在固定板与载物台之间,镀膜部位从通孔露出,旋转压紧气缸分别连接有压块,旋转压紧气缸安装在升降台上。
5.如权利要求4所述的VCSEL表面偏振光膜镀膜装置,其特征在于,所述压块为弹性塑料压块,所述固定板的内表面具有弹性。
6.如权利要求5所述的VCSEL表面偏振光膜镀膜装置,其特征在于,所述扩散筒呈喇叭状,扩散筒包括有大口径端和小口径端,蒸镀组件位于小口径端中。
7.如权利要求6所述的VCSEL表面偏振光膜镀膜装置,其特征在于,所述载物台能够从大口径端伸入到扩散筒中,所述升降台不能伸入到扩散筒中。
8.如权利要求7所述的VCSEL表面偏振光膜镀膜装置,其特征在于,所述大口径端安装有缓冲密封垫。
9.一种VCSEL,其特征在于,所述VCSEL表面镀有偏振光膜。
10.如权利要求9所述的VCSEL,其特征在于,所述偏振光膜为PET偏振光膜,所述PET偏振光膜的厚度为100-500nm,所述VCSEL通过如权利要求1-8中任意一项的镀膜装置镀膜。
CN202110319846.1A 2021-03-25 2021-03-25 一种vcsel及vcsel表面偏振光膜镀膜装置 Pending CN113088888A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110319846.1A CN113088888A (zh) 2021-03-25 2021-03-25 一种vcsel及vcsel表面偏振光膜镀膜装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110319846.1A CN113088888A (zh) 2021-03-25 2021-03-25 一种vcsel及vcsel表面偏振光膜镀膜装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN113088888A true CN113088888A (zh) 2021-07-09

Family

ID=76669536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110319846.1A Pending CN113088888A (zh) 2021-03-25 2021-03-25 一种vcsel及vcsel表面偏振光膜镀膜装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113088888A (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1043765A1 (en) * 1998-10-29 2000-10-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Thin film forming method, and semiconductor light emitting device manufacturing method
CN204228991U (zh) * 2014-11-25 2015-03-25 苏州鼎旺科技有限公司 超薄型滤光片镀膜装置
CN204224692U (zh) * 2014-11-25 2015-03-25 苏州鼎旺科技有限公司 用于滤光片镀膜的装置
CN204224693U (zh) * 2014-11-25 2015-03-25 苏州鼎旺科技有限公司 用于滤光片的镀膜结构
CN105891927A (zh) * 2014-11-25 2016-08-24 苏州鼎旺科技有限公司 超薄型滤光片生产工艺及其镀膜装置
CN109477204A (zh) * 2016-05-10 2019-03-15 应用材料公司 操作沉积设备的方法和沉积设备

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1043765A1 (en) * 1998-10-29 2000-10-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Thin film forming method, and semiconductor light emitting device manufacturing method
CN204228991U (zh) * 2014-11-25 2015-03-25 苏州鼎旺科技有限公司 超薄型滤光片镀膜装置
CN204224692U (zh) * 2014-11-25 2015-03-25 苏州鼎旺科技有限公司 用于滤光片镀膜的装置
CN204224693U (zh) * 2014-11-25 2015-03-25 苏州鼎旺科技有限公司 用于滤光片的镀膜结构
CN105891927A (zh) * 2014-11-25 2016-08-24 苏州鼎旺科技有限公司 超薄型滤光片生产工艺及其镀膜装置
CN109477204A (zh) * 2016-05-10 2019-03-15 应用材料公司 操作沉积设备的方法和沉积设备
US20190148642A1 (en) * 2016-05-10 2019-05-16 Applied Materials, Inc. Methods of operating a deposition apparatus, and deposition apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20170114253A1 (en) Adhesive for ultraviolet-light-emitting device, and ultraviolet-light-emitting device
CN113088888A (zh) 一种vcsel及vcsel表面偏振光膜镀膜装置
CN112015003B (zh) 显示装置
CN103633535A (zh) 一种碱金属蒸气室及其装配制作方法
CN108584522A (zh) 定位贴合上下料设备及其操作方法
CN216790980U (zh) 一种新型自动内红点瞄准镜
CN212649559U (zh) 一种吹气防翘边摄像装置
CN215551680U (zh) 一种高散射性超疏水量子点膜
CN215846353U (zh) 一种自动化半导体纳米电热膜除膜机
CN212695168U (zh) 蓝宝石衬底激光剥离设备
KR101075588B1 (ko) 디스플레이 모듈의 광 특성 검사장치
CN213985621U (zh) 一种镜头测试卡的固定装置
CN211652597U (zh) 塞孔缺陷自动光学检测装置
US20240035634A1 (en) Flame simulation device
JP4333215B2 (ja) 液滴吐出装置
CN208596860U (zh) 用于半导体激光器的镀膜夹具
CN113866909A (zh) 一种光模块光路耦合工装及光路耦合方法
CN108817686A (zh) 基板承载台及切割装置
CN215133830U (zh) 一种便携式紫外灯
KR101156744B1 (ko) 광촉매를 이용한 에틸렌 제거장치
CN218232560U (zh) 光学滤光片镀膜厚度监控装置
CN219689709U (zh) 一种用于微生物检验的微生物分离装置
CN216502958U (zh) 半自动共晶台
CN217436143U (zh) 电池供膜装置
CN214627152U (zh) 一种应用于克隆集落形成实验的图像记录装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20210709