CN113047392A - 用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施 - Google Patents

用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施，用于考古遗址的排水配电系统，包括：遗址保护层，设置在所述考古遗址本体上方；模拟展示装置结构层，所述模拟展示装置结构层内设置有排水装置以及配电装置；遗址模拟面层设置在所述模拟展示装置结构层上方。通过上述模拟展示装置结构层与遗址保护层和遗址模拟面层其二者的布置方式可以有效地解决现有技术中的考古遗址模拟展示设施其配电系统和排水系统需要裸露在展示区域，严重影响考古遗址模拟展示设施其展示效果，导致展示建筑传达历史信息效果差的问题。

Description

用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施
技术领域
本发明涉及土木建筑工程技术领域，具体涉及一种用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施。
背景技术
考古遗址模拟展示设施是为解决土遗址露天模拟展示而设计的一种复合建筑系统，该建筑系统在满足遗址保护的前提下并真实传达遗址的信息，在有限的埋深空间范围内，尽可能将排水、配电等多种设施集合一体，减少与遗址历史信息无关的展示设备裸露于展示界面，避免带来干扰历史信息传递的问题。
现有技术中只是简单地在考古遗址本体上方搭建保护建筑，从而实现对考古遗址进行保护的功能。考虑到考古遗址本体的保护要求，防止直接展示考古遗址本体可能对遗址本体造成破坏，往往通过在考古遗址本体上方搭建考古模拟层从而实现对考古遗址的展示。但是，现有的考古遗址模拟展示设施其配电系统和排水系统需要裸露在展示区域，严重影响考古遗址模拟展示设施其展示效果，导致展示建筑传达历史信息效果差的问题。
发明内容
因此，本发明旨在提供一种用于考古遗址的排水配电系统及考古遗址模拟展示设施，以解决现有技术中的考古遗址模拟展示设施其配电系统和排水系统需要裸露在展示区域，严重影响考古遗址模拟展示设施其展示效果，导致展示建筑传达历史信息效果差的问题。本申请提供一种用于考古遗址的排水配电系统，包括：
遗址保护层，设置在所述考古遗址本体上方；
模拟展示装置结构层，设置在所述遗址保护层上方；所述模拟展示装置结构层内设置有排水装置以及配电装置；遗址模拟面层设置在所述模拟展示装置结构层上方。
可选的，所述配电装置设置在所述排水装置侧部；且，所述排水装置包括：垂直高度位置低于所述配电装置的局部下沉式集水坑。
可选的，所述排水装置还包括：
支撑框架，所述支撑框架为凹槽状，且设置在所述考古遗址本体上方；
导水面层，设置在所述支撑框架内且表面具有排水孔，所述导水面层将所述支撑框架分隔成上下两层，所述导水面层和所述支撑框架围成与所述局部下沉式集水坑相连通的排水空间；所述局部下沉式集水坑位于所述排水空间下方。
可选的，所述排水空间通过排水沟与所述局部下沉式集水坑相连通。
可选的，所述局部下沉式集水坑内还设置有用于容置潜水泵的局部下沉式泵坑，所述潜水泵的排水管延伸至所述排水空间内并与排水系统相连通。
可选的，所述导水面层为GRC面层；所述排水孔设置在所述导水面层其凹陷位置，所述排水孔设置在所述支撑框架其中间位置和/或内腔侧壁位置。
可选的，所述局部下沉式集水坑内还具有用于容置所述潜水泵的凹陷区。
可选的，用于考古遗址的排水配电系统，还包括：
骨架层，设置在所述模拟展示装置结构层上方，用于支撑所述遗址模拟面层；且所述骨架层为透水结构。
可选的，所述骨架层为钢结构骨架。
一种考古遗址模拟展示设施，包括：
用于考古遗址的排水配电系统；以及，
考古遗址本体，所述考古遗址本体搭建在所述模拟展示装置结构层下方。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的排水装置其内部结构示意图；
图2为本发明提供的局部下沉式集水坑其内部结构示意图；
图3为本发明提供的考古遗址模拟展示设施组成结构示意图；
图4为本发明提供的考古遗址模拟展示设施其排水装置和配电装置的相对位置示意图。
附图标记说明：
1-遗址保护层；2-考古遗址本体；3-模拟展示装置结构层；4-排水装置；5-配电装置；6-遗址模拟面层；7-局部下沉式集水坑；8-支撑框架；9-导水面层；10-排水孔；11-排水空间；12-排水沟；13-潜水泵；14-排水管；15-骨架层；16-局部下沉式泵坑。
本发明的技术方案，具有如下优点：
1.本发明提供的用于考古遗址的排水配电系统，包括：遗址保护层，设置在所述考古遗址本体上方；模拟展示装置结构层，设置在所述遗址保护层上方；所述模拟展示装置结构层内设置有排水装置以及配电装置；遗址模拟面层设置在所述模拟展示装置结构层上方。
本发明通过在考古遗址本体上方设置遗址保护层，并在遗址保护层上方设置模拟展示装置结构层，之后将遗址模拟面层设置在所述模拟展示装置结构层上方。通过上述结构有效地在满足遗址保护的前提下，真实传达遗址信息。而且，更为重要的是本发明将排水装置以及配电装置设置在模拟展示装置结构层内，从而在有限的埋深空间范围内，尽可能将排水、配电等多种设施集合一体，减少与遗址历史信息无关的展示设备裸露于展示界面，避免设施干扰历史信息传递的问题发生。并且，将排水、配电等多种设施集合一体后，还有效地避免将考古遗址模拟展示设施其配电系统和排水系统需要裸露在展示区域，严重影响考古遗址模拟展示设施其展示效果，导致展示建筑传达历史信息效果差的问题。
2.本发明提供的用于考古遗址的排水配电系统，所述配电装置设置在所述排水装置侧部；且，所述排水装置包括：垂直高度位置低于所述配电装置的局部下沉式集水坑。
通过将排水装置设置为均匀垂直高度位置低于所述配电装置的局部下沉式集水坑，再将配电装置设置在所述排水装置侧部不仅可以有效地优化模拟展示装置结构层的空间布局。而且，还有效地保证配电装置的高度高于局部下沉式集水坑并使排水装置与配电装置完全分隔开，实现干湿分区，避免水渗入配电装置造成安全隐患。上述局部下沉式集水坑同时还实现了泵坑局部下沉，从而尽可能地减少了排水装置对土层的扰动，减少扰动土层的深度值和范围，从而避免对考古遗址本体造成破坏，保护考古遗址本体。
3.本发明提供的用于考古遗址的排水配电系统，所述排水装置还包括：支撑框架，所述支撑框架为凹槽状，且设置在所述考古遗址本体上方；导水面层，设置在所述支撑框架内且表面具有排水孔，所述导水面层将所述支撑框架分隔成上下两层，所述导水面层和所述支撑框架围成与所述局部下沉式集水坑相连通的排水空间；所述局部下沉式集水坑位于所述排水空间下方。
通过设置凹槽状的支撑框架，并在上述支撑框架内设置具有排水孔的导水面层，从而将水引导至排水空间。上述结构可以有效地保证支撑框架其排水空间上方是相对干燥的，从而实现干湿分区。
4.本发明提供的用于考古遗址的排水配电系统，所述排水空间通过排水沟与所述局部下沉式集水坑相连通。上述排水沟可以有效地将水引导至局部下沉式集水坑内，从而快捷有效地将排水空间内的水排出，保证排水空间的排水能力。
5.本发明提供的用于考古遗址的排水配电系统，所述局部下沉式集水坑内还设置有用于容置潜水泵的局部下沉式泵坑，所述潜水泵的排水管延伸至所述排水空间内并与排水系统相连通。
通过在局部下沉式集水坑内还设置有用于容置潜水泵的局部下沉式泵坑，通过上述局部下沉式泵坑可以减少泵坑的下沉范围，从而更及时的将积水排入城市排水系统进而有效地实现排水循环，并减少泵坑下沉范围避免对考古遗址的干扰和影响。
6.本发明提供的用于考古遗址的排水配电系统，所述导水面层为GRC面层；所述排水孔设置在所述导水面层其凹陷位置，所述排水孔设置在所述支撑框架其中间位置和/或内腔侧壁位置。
通过分别在支撑框架其中间位置和内腔侧壁的凹陷位置从而可以快速有效地将水导入排水空间内，保证排水配电系统的排水能力。
7.本发明提供的用于考古遗址的排水配电系统，还包括：骨架层，设置在所述模拟展示装置结构层上方，用于支撑所述遗址模拟面层；且所述骨架层为透水结构。
上述骨架层不但可以有效地对模拟展示装置结构层进行支撑，保证整体结构的稳定性。而且，骨架层还可以起到对考古遗址本体保护的作用。
8.本发明提供的考古遗址模拟展示设施，包括：用于考古遗址的排水配电系统；以及，考古遗址本体，所述考古遗址本体搭建在所述模拟展示装置结构层下方。模拟展示装置结构层上还设置有嵌装在模拟展示装置结构层其面层的盖板。上述嵌入式盖板可以有效地减少与暴露与遗址不相关的信息。上述考古遗址模拟展示设施还具有排水配电系统的所述的所有优点。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
实施例1
本实施例提供一种用于考古遗址的排水配电系统，如图3和图4所示，其包括：
遗址保护层1，设置在所述考古遗址本体2上方；
模拟展示装置结构层3，设置在所述遗址保护层1上方；所述模拟展示装置结构层3内设置有排水装置4以及配电装置5；在本实施例中，如图3所示，所述配电装置5设置在所述排水装置4侧部；且，如图1和图2所示，所述排水装置4包括：垂直高度位置低于所述配电装置5的局部下沉式集水坑7；如图1所示，所述排水装置还包括：支撑框架8，所述支撑框架8为凹槽状，且设置在所述考古遗址本体2上方；导水面层9，设置在所述支撑框架8内且表面具有排水孔10，所述导水面层9将所述支撑框架8分隔成上下两层，所述导水面层9和所述支撑框架8围成与所述局部下沉式集水坑7相连通的排水空间11；所述局部下沉式集水坑7位于所述排水空间11下方；上述排水空间11通过排水沟12与所述局部下沉式集水坑7相连通。所述局部下沉式集水坑7内还设置有用于容置潜水泵13的局部下沉式泵坑16，所述潜水泵13的排水管14延伸至所述排水空间11内并与排水系统相连通；同时，所述局部下沉式集水坑7内还具有用于容置该潜水泵13的凹陷区；
遗址模拟面层6设置在所述模拟展示装置结构层3上方；
考古遗址本体2，所述考古遗址本体2搭建在所述模拟展示装置结构层3下方；
骨架层15，设置在所述模拟展示装置结构层3上方，用于支撑所述遗址模拟面层6；且所述骨架层15为透水结构。所述骨架层15为钢结构骨架。
在本实施例中，如图1所示，所述导水面层9为GRC面层；所述排水孔10设置在所述导水面层9其凹陷位置，所述排水孔10设置在所述支撑框架8其中间位置和内腔侧壁位置。
当然，本发明申请对配电装置5和排水装置4的相对位置布置方式不做具体限制，在其它实施例中，所述配电装置5设置在所述排水装置4上侧；且，所述排水装置4包括：垂直高度位置低于所述配电装置5的局部下沉式集水坑7。
实施例2
本实施例提供一种考古遗址模拟展示设施，如图1所示，其包括：
遗址保护层1，设置在所述考古遗址本体2上方；
模拟展示装置结构层3，设置在所述遗址保护层1上方；所述模拟展示装置结构层3内设置有排水装置4以及配电装置5；在本实施例中，如图3所示，所述配电装置5设置在所述排水装置4侧部；且，如图1和图2所示，所述排水装置4包括：垂直高度位置低于所述配电装置5的局部下沉式集水坑7；如图1所示，所述排水装置还包括：支撑框架8，所述支撑框架8为凹槽状，且设置在所述考古遗址本体2上方；导水面层9，设置在所述支撑框架8内且表面具有排水孔10，所述导水面层9将所述支撑框架8分隔成上下两层，所述导水面层9和所述支撑框架8围成与所述局部下沉式集水坑7相连通的排水空间11；所述局部下沉式集水坑7位于所述排水空间11下方；上述排水空间11通过排水沟12与所述局部下沉式集水坑7相连通。所述局部下沉式集水坑7内还设置有用于容置潜水泵13的局部下沉式泵坑16，所述潜水泵13的排水管14延伸至所述排水空间11内并与排水系统相连通；同时，所述局部下沉式集水坑7内还具有用于容置该潜水泵13的凹陷区；
骨架层15，设置在所述模拟展示装置结构层3上方，用于支撑所述遗址模拟面层6；且所述骨架层15为透水结构。所述骨架层15为钢结构骨架。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，包括：
遗址保护层(1)，设置在考古遗址本体(2)上方；
模拟展示装置结构层(3)，设置在所述遗址保护层(1)上方；所述模拟展示装置结构层(3)内设置有排水装置(4)以及配电装置(5)；遗址模拟面层(6)设置在所述模拟展示装置结构层(3)上方。
2.根据权利要求1所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述配电装置(5)设置在所述排水装置(4)侧部；且，所述排水装置(4)包括：垂直高度位置低于所述配电装置(5)的局部下沉式集水坑(7)。
3.根据权利要求2所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述排水装置还包括：
支撑框架(8)，所述支撑框架(8)为凹槽状，且设置在所述考古遗址本体(2)上方；
导水面层(9)，设置在所述支撑框架(8)内且表面具有排水孔(10)，所述导水面层(9)将所述支撑框架(8)分隔成上下两层，所述导水面层(9)和所述支撑框架(8)围成与所述局部下沉式集水坑(7)相连通的排水空间(11)；所述局部下沉式集水坑(7)位于所述排水空间(11)下方。
4.根据权利要求3所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述排水空间(11)通过排水沟(12)与所述局部下沉式集水坑(7)相连通。
5.根据权利要求3或4所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，
所述局部下沉式集水坑(7)内还设置有用于容置潜水泵(13)的局部下沉式泵坑(16)，所述潜水泵(13)的排水管(14)延伸至所述排水空间(11)内并与排水系统相连通。
6.根据权利要求3所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述导水面层(9)为GRC面层；所述排水孔(10)设置在所述导水面层(9)其凹陷位置，所述排水孔(10)设置在所述支撑框架(8)其中间位置和/或内腔侧壁位置。
7.根据权利要求5所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述局部下沉式集水坑(7)内还具有用于容置所述潜水泵(13)的凹陷区。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，还包括：
骨架层(15)，设置在所述模拟展示装置结构层(3)上方，用于支撑所述遗址模拟面层(6)；且所述骨架层(15)为透水结构。
9.根据权利要求8所述的用于考古遗址的排水配电系统，其特征在于，所述骨架层(15)为钢结构骨架。
10.一种考古遗址模拟展示设施，其特征在于，包括：
权利要求1至9中任一项所述的用于考古遗址的排水配电系统；以及，
考古遗址本体(2)，所述考古遗址本体(2)搭建在所述模拟展示装置结构层(3)下方。
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