CN112964838B - 用于研究光胁迫对光系统ii结构和功能影响的装置及方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法，装置包括装置主体、分段光照装置、叶片处理装置、光系统II处理装置和内周天线处理装置，分段光照装置包括竖直将装置主体平均分为三部分的隔板槽一、二、三，隔板槽一、二、三的夹角处分别设有可调节光源，隔板槽一、二、三连接处设有圆柱型光照控制槽，叶片处理装置包括弧形槽体一、叶片存储装置和密封遮盖，光系统II处理装置包括弧形槽体二和试管架一，内周天线处理装置包括弧形槽体三和试管架二。总之，本发明具有结构新颖、操作方便、研究效率高等优点。

Description

用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法

技术领域

本发明属于植物研究技术领域，具体是涉及用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法。

背景技术

强光对高等植物的光合作用具有抑制和破坏作用，植物光合机构接受的光能超过光合作用所能利用的数量时,光合功能便降低,表现为量子效率和光能转换效率的降低,这就是所谓的光合作用的光抑制。光抑制的作用机理十分复杂，光胁迫下叶片、叶绿体、类囊体膜、光系统II颗粒或放氧颗粒均能观察到光破坏现象。20世纪80年代中期,对光抑制的原初部位及主要部位在PSII已经达成共识。植物体在自然环境中经常会遭受强光胁迫，产生光抑制现象，进而影响到包括光合作用在内的各种生理活动。

在PSII中，光能首先由外周天线吸收，然后由内周天线(CP43和CP47)传递给反应中心，在反应中心中发生光化学反应。对CP43和CP47的研究是当今光合作用研究的热点之一，其结构与功能的阐述对于剖析PSII的空间结构，揭示PSII内激发能吸收、分配和传递的机理，以及PSII放氧的机理均有重要作用。在产生光抑制效应时，内周天线CP43和CP47会发生那些变化？如何减小光胁迫对CP43和CP47的破坏作用？这些问题的解决对于提高植物抵抗强光胁迫的能力，尤其在农业上提高农作物的产量就具有重要意义。另外，由于现在还没有得到衍射性较好的CP43和CP47的三维晶体，所以通过研究CP43和CP47在各种胁迫处理下的变化来推断它们的结构也具有重要意义。总之，本研究结果可为阐明植物光抑制的机理、CP43和CP47的结构与传能机理提供依据，进而为提高植物的光能转化效率和抗逆性奠定基础。一种用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置。

研究光胁迫对CP43和CP47结构与功能的影响及其机理，从而进一步揭示CP43和CP47的结构及其传能机理，探索减小光胁迫对CP43和CP47影响的方法，这是目前值得研究的问题，所以，本发明设计了用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法。

发明内容

针对上述存在的问题，本发明提供了用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法。

本发明的技术方案是：用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，主要包括装置主体、分段光照装置、叶片处理装置、光系统II处理装置和内周天线处理装置，

所述装置主体为固定在水平台面上的圆柱型筒体，装置主体从上到下均为上、中、下三部分，

所述分段光照装置包括竖直将装置主体平均分为三部分的隔板槽一、隔板槽二、隔板槽三，所述隔板槽一与隔板槽二的夹角处、隔板槽二与隔板槽三的夹角处、隔板槽三与隔板槽一的夹角处分别设有可调节光源，

所述隔板槽一、隔板槽二、隔板槽三连接处设有圆柱型光照控制槽，所述光照控制槽内部设有与三个所述可调节光源分别连接用于控制可调节光源亮度的亮度调节器，所述亮度调节器与可调节光源连接处设有用于转换亮度调节器调节区域的转换控制器，

所述叶片处理装置设置在所述装置主体的上部，叶片处理装置包括环绕设置在装置主体上部外侧的三个弧形槽体一、分别设置在所述弧形槽体一内部的叶片存储装置和分别设置在所述弧形槽体一上部的密封遮盖，

所述光系统II处理装置设置在所述装置主体的中部，光系统II处理装置包括分别通过转轴活动安装在所述隔板槽一、隔板槽二、隔板槽三侧部的三个弧形槽体二和分别设置在三个所述弧形槽体二内部的试管架一，

所述内周天线处理装置设置在所述装置主体的下部，内周天线处理装置包括包括分别通过转轴活动安装在所述隔板槽一、隔板槽二、隔板槽三侧部的三个弧形槽体三和分别设置在三个所述弧形槽体三内部的试管架二。

进一步地，所述隔板槽一、隔板槽二、隔板槽三侧面分别设有用于防止光线折射和热量聚集的吸光吸热板，避免光源照射在隔板槽侧面上形成反光，影响光源强度，并且可以避免吸光产生的热量造成装置主体内温度过高。

进一步地，所述隔板槽一、隔板槽二、隔板槽三内部分别设有用于装置主体内热量散发的散热器，散热器可以避免装置主体内部温度过高而破坏研究材料。

进一步地，三个所述弧形槽体一与光照控制槽上端面之间分别连接设有用于遮挡外部光源进入装置主体内的遮光感应板，避免外部光源影响装置主体内设定光源强度。

进一步地，所述遮光感应板上分别设有光照强度显色卡，用于感应所述可调节光源的光照强度并通过不同程度的颜色进行显示，操作人员可以直观看到装置主体内实时的光照强度，从而进行调节。

进一步地，所述光照控制槽上端设有与光亮调节器连接的亮度调节旋钮和与所述转换控制器连接的区域转换旋钮，方便操作。

进一步地，所述叶片存储装置包括由两块透明玻璃组成且中间有中空夹层的存储盒、设置在所述存储盒左右两侧的转轴和设置在弧形槽体一内部且与所述任意一个转轴连接的驱动电机，保证叶片在光照情况下各面均被光照。

进一步地，所述试管架一包括多个放置试管的试管槽一，所述试管槽一底部均设有用于转动试管的旋转托座一，所述旋转托座一分别通过设置在试管架一底部的多个旋转电机一驱动；

所述试管架二包括多个放置试管的试管槽二，所述试管槽二底部均设有用于转动试管的旋转托座二，所述旋转托座二分别通过设置在试管架二底部的多个旋转电机二驱动，可以使试管中材料保持充分光照。

上述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响装置的使用方法，包括以下步骤：

S1：在叶片水平上研究光胁迫对CP43和CP47的影响

将一叶片分为三份，打开叶片处理装置的密封遮盖将三份叶片分别放入叶片存储装置的存储盒中，转动区域转换旋钮和亮度调节旋钮分别对三份叶片进行强光胁迫、弱光胁迫和正常光照射，在处理过程中存储盒在驱动电机的带动下旋转，使叶片光照均匀，处理结束后将叶片取出，研究叶片中CP43和CP47的结构和色素变化，保持了CP43和CP47的天然状态和其天然的环境，其变化过程能反映自然状态下，叶片在遭受强光胁迫时，其CP43和CP47的变化情况；

S2：在光系统II水平上研究光胁迫对CP43和CP47的影响

从一叶片上提取光系统II颗粒，将提取到的光系统II颗粒分为三份分别装入玻璃试管中，分别打开光系统II处理装置的三个弧形槽体二，将三个玻璃试管分别放入试管架一的试管槽一中，关闭弧形槽体二，转动区域转换旋钮和亮度调节旋钮分别对三个玻璃试管中的光系统II颗粒进行强光胁迫、弱光胁迫和正常光照射，处理过程中旋转托座一在旋转电机一的驱动下带着玻璃试管旋转，使光系统II颗粒受光照均匀，处理结束后将玻璃试管取出，研究光系统II颗粒中CP43和CP47的结构和色素变化，光系统II是光合膜上进行光能的吸收和转化的膜蛋白复合体，在光系统II水平上研究光胁迫对CP43和CP47的影响，能排除其它因素带来的影响；

S3：研究光胁迫对分离纯化后CP43和CP47的影响

从同一叶片上分离纯化提取CP43和CP47，将提取到的CP43和CP47分为三份分别装入玻璃试管中，分别打开内周天线处理装置的三个弧形槽体三，将三个玻璃试管分别放入试管架二的试管槽二中，关闭弧形槽体三，转动区域转换旋钮和亮度调节旋钮分别对三个玻璃试管中的CP43和CP47进行强光胁迫、弱光胁迫和正常光照射，处理过程中旋转托座二在旋转电机二的驱动下带着玻璃试管旋转，使CP43和CP47受光照均匀，处理结束后将玻璃试管取出，研究CP43和CP47的结构和色素变化。

进一步地，上述步骤S1、S2、S3可同时进行，可以只调节一次光照强度，使同一区域的叶片、光系统II颗粒、CP43和CP47在同一光照强度下进行处理，方便研究过程中的定量对比。

本发明的有益效果是：本发明提供的用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法，通过设置由三个隔板槽组成的分段光照装置，可以同时进行强光胁迫、弱光胁迫和正常光照射处理，并且将叶片处理装置、光系统II处理装置和内周天线处理装置从上到下依次设置在分段光照装置的外侧，可以在同一光照强度下分别对叶片、光系统II颗粒、CP43和CP47进行光胁迫处理，避免了因光照强度不同而导致研究结果偏差，在叶片处理装置中设置可以转动的存储盒，使叶片在光胁迫处理过程中转到，并且在光系统II处理装置和内周天线处理装置中设置可以旋转试管的旋转托座一、二，使叶片、光系统II颗粒、CP43和CP47在光胁迫处理过程中达到受光均匀的目的。总之，本发明具有结构新颖、操作方便、研究效率高等优点。

附图说明

图1是本发明的整体结构示意图；

图2是本发明的分段光照装置结构示意图；

图3是本发明的弧形槽体一结构示意图；

图4是本发明的弧形槽体二结构示意图；

图5是本发明的弧形槽体三结构示意图；

图6是本发明的遮光感应板结构示意图；

图7是本发明试管槽一结构示意图；

图8是本发明试管槽二结构示意图。

其中，1-装置主体、2-分段光照装置、21-隔板槽一、22-隔板槽二、23-隔板槽三、24-可调节光源、25-光照控制槽、251-亮度调节器、252-转换控制器、253-亮度调节旋钮、254-区域转换旋钮、3-叶片处理装置、31-弧形槽体一、32-叶片存储装置、321-存储盒、322-转轴、323-驱动电机、33-密封遮盖、4-光系统II处理装置、41-弧形槽体二、42-试管架一、421-试管槽一、422-旋转托座一、423-旋转电机一、5-内周天线处理装置、51-弧形槽体三、52-试管架二、521-试管槽二、522-旋转托座二、523-旋转电机二、6-吸光吸热板、7-散热器、8-遮光感应板、81-光照强度显色卡。

具体实施方式

为便于对本发明技术方案的理解，下面结合附图1-8和具体实施例对本发明做进一步的解释说明，实施例并不构成对发明保护范围的限定。

实施例1：如图1所示，用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，主要包括装置主体1、分段光照装置2、叶片处理装置3、光系统II处理装置4和内周天线处理装置5，

装置主体1为固定在水平台面上的圆柱型筒体，装置主体1从上到下均为上、中、下三部分，

结合图2所示，分段光照装置2包括竖直将装置主体1平均分为三部分的隔板槽一21、隔板槽二22、隔板槽三23，隔板槽一21与隔板槽二22的夹角处、隔板槽二22与隔板槽三23的夹角处、隔板槽三23与隔板槽一21的夹角处分别设有可调节光源24，

隔板槽一21、隔板槽二22、隔板槽三23连接处设有圆柱型光照控制槽25，光照控制槽25内部设有与三个可调节光源24分别连接用于控制可调节光源24亮度的亮度调节器251，亮度调节器251与可调节光源24连接处设有用于转换亮度调节器251调节区域的转换控制器252，光照控制槽25上端设有与光亮调节器251连接的亮度调节旋钮253和与转换控制器252连接的区域转换旋钮254，

叶片处理装置3设置在装置主体1的上部，叶片处理装置3包括环绕设置在装置主体1上部外侧的三个弧形槽体一31、分别设置在弧形槽体一31内部的叶片存储装置32和分别设置在弧形槽体一31上部的密封遮盖33，

光系统II处理装置4设置在装置主体1的中部，光系统II处理装置4包括分别通过转轴活动安装在隔板槽一21、隔板槽二22、隔板槽三23侧部的三个弧形槽体二41和分别设置在三个弧形槽体二41内部的试管架一42，如图4所示，试管架一42包括多个放置试管的试管槽一421，如图7所示，试管槽一421底部均设有用于转动试管的旋转托座一422，旋转托座一422分别通过设置在试管架一42底部的多个旋转电机一423驱动，

内周天线处理装置5设置在装置主体1的下部，内周天线处理装置5包括包括分别通过转轴活动安装在隔板槽一21、隔板槽二22、隔板槽三23侧部的三个弧形槽体三51和分别设置在三个弧形槽体三51内部的试管架二52，如图5所示，试管架二52包括多个放置试管的试管槽二521，如图8所示，试管槽二521底部均设有用于转动试管的旋转托座二522，旋转托座二522分别通过设置在试管架二52底部的多个旋转电机二523驱动。

实施例2：如图1所示，用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，主要包括装置主体1、分段光照装置2、叶片处理装置3、光系统II处理装置4和内周天线处理装置5，

装置主体1为固定在水平台面上的圆柱型筒体，装置主体1从上到下均为上、中、下三部分，

结合图2所示，分段光照装置2包括竖直将装置主体1平均分为三部分的隔板槽一21、隔板槽二22、隔板槽三23，隔板槽一21与隔板槽二22的夹角处、隔板槽二22与隔板槽三23的夹角处、隔板槽三23与隔板槽一21的夹角处分别设有可调节光源24，

隔板槽一21、隔板槽二22、隔板槽三23连接处设有圆柱型光照控制槽25，光照控制槽25内部设有与三个可调节光源24分别连接用于控制可调节光源24亮度的亮度调节器251，亮度调节器251与可调节光源24连接处设有用于转换亮度调节器251调节区域的转换控制器252，光照控制槽25上端设有与光亮调节器251连接的亮度调节旋钮253和与转换控制器252连接的区域转换旋钮254，

隔板槽一21、隔板槽二22、隔板槽三23侧面分别设有用于防止光线折射和热量聚集的吸光吸热板6，隔板槽一21、隔板槽二22、隔板槽三23内部分别设有用于装置主体1内热量散发的散热器7，

叶片处理装置3设置在装置主体1的上部，叶片处理装置3包括环绕设置在装置主体1上部外侧的三个弧形槽体一31、分别设置在弧形槽体一31内部的叶片存储装置32和分别设置在弧形槽体一31上部的密封遮盖33，

结合图3所示，叶片存储装置32包括由两块透明玻璃组成且中间有中空夹层的存储盒321、设置在存储盒321左右两侧的转轴322和设置在弧形槽体一31内部且与任意一个转轴322连接的驱动电机323，

三个弧形槽体一31与光照控制槽25上端面之间分别连接设有用于遮挡外部光源进入装置主体1内的遮光感应板8，如图6所示，遮光感应板8上分别设有光照强度显色卡81，用于感应可调节光源24的光照强度并通过不同程度的颜色进行显示，

光系统II处理装置4设置在装置主体1的中部，光系统II处理装置4包括分别通过转轴活动安装在隔板槽一21、隔板槽二22、隔板槽三23侧部的三个弧形槽体二41和分别设置在三个弧形槽体二41内部的试管架一42，如图4所示，试管架一42包括多个放置试管的试管槽一421，如图7所示，试管槽一421底部均设有用于转动试管的旋转托座一422，旋转托座一422分别通过设置在试管架一42底部的多个旋转电机一423驱动，

内周天线处理装置5设置在装置主体1的下部，内周天线处理装置5包括包括分别通过转轴活动安装在隔板槽一21、隔板槽二22、隔板槽三23侧部的三个弧形槽体三51和分别设置在三个弧形槽体三51内部的试管架二52，如图5所示，试管架二52包括多个放置试管的试管槽二521，如图8所示，试管槽二521底部均设有用于转动试管的旋转托座二522，旋转托座二522分别通过设置在试管架二52底部的多个旋转电机二523驱动。

上述电子元件的具体型号未做特殊指定，均可选用市售的普通产品，只要能够满足本发明的使用需求即可。

应用例1：利用上述实施例中装置研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的方法，包括以下步骤：

S1：在叶片水平上研究光胁迫对CP43和CP47的影响

将一菠菜叶片分为三份，打开叶片处理装置3的密封遮盖33将三份菠菜叶片分别放入叶片存储装置32的存储盒321中，转动区域转换旋钮254和亮度调节旋钮253分别对三份菠菜叶片进行强光胁迫、弱光胁迫和正常光照射，在处理过程中存储盒321在驱动电机323的带动下旋转，使菠菜叶片光照均匀，处理结束后将菠菜叶片取出，研究菠菜叶片中CP43和CP47的结构和色素变化；

S2：在光系统II水平上研究光胁迫对CP43和CP47的影响

从一菠菜叶片上提取光系统II颗粒，将提取到的光系统II颗粒分为三份分别装入玻璃试管中，分别打开光系统II处理装置4的三个弧形槽体二41，将三个玻璃试管分别放入试管架一42的试管槽一421中，关闭弧形槽体二41，转动区域转换旋钮254和亮度调节旋钮253分别对三个玻璃试管中的光系统II颗粒进行强光胁迫、弱光胁迫和正常光照射，处理过程中旋转托座一422在旋转电机一423的驱动下带着玻璃试管旋转，使光系统II颗粒受光照均匀，处理结束后将玻璃试管取出，研究光系统II颗粒中CP43和CP47的结构和色素变化；

S3：研究光胁迫对分离纯化后CP43和CP47的影响

从同一菠菜叶片上分离纯化提取CP43和CP47，将提取到的CP43和CP47分为三份分别装入玻璃试管中，分别打开内周天线处理装置5的三个弧形槽体三51，将三个玻璃试管分别放入试管架二52的试管槽二521中，关闭弧形槽体三51，转动区域转换旋钮254和亮度调节旋钮253分别对三个玻璃试管中的CP43和CP47进行强光胁迫、弱光胁迫和正常光照射，处理过程中旋转托座二522在旋转电机二523的驱动下带着玻璃试管旋转，使CP43和CP47受光照均匀，处理结束后将玻璃试管取出，研究CP43和CP47的结构和色素变化。

应用例2：利用上述实施例中装置研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的方法，包括以下步骤：

S1：研究材料准备

将一菠菜叶片分为三份，打开叶片处理装置3的密封遮盖33将三份菠菜叶片分别放入叶片存储装置32的存储盒321中；

从一菠菜叶片上提取光系统II颗粒，将提取到的光系统II颗粒分为三份分别装入玻璃试管中，分别打开光系统II处理装置4的三个弧形槽体二41，将三个玻璃试管分别放入试管架一42的试管槽一421中，关闭弧形槽体二41；

从同一菠菜叶片上分离纯化提取CP43和CP47，将提取到的CP43和CP47分为三份分别装入玻璃试管中，分别打开内周天线处理装置5的三个弧形槽体三51，将三个玻璃试管分别放入试管架二52的试管槽二521中，关闭弧形槽体三51；

S2：光照强度调节

转动区域转换旋钮254和亮度调节旋钮253分别对三个区域内的菠菜叶片、光系统II颗粒、CP43和CP47进行强光胁迫、弱光胁迫和正常光照射，

S3：光照过程中材料调整

在处理过程中存储盒321在驱动电机323的带动下旋转，使菠菜叶片光照均匀，处理过程中旋转托座一422在旋转电机一423的驱动下带着玻璃试管旋转，使光系统II颗粒受光照均匀，处理过程中旋转托座二522在旋转电机二523的驱动下带着玻璃试管旋转，使CP43和CP47受光照均匀，

S4：分析研究

处理结束后分别将菠菜叶片个玻璃试管中的光系统II颗粒、CP43和CP47取出，研究菠菜叶片中CP43和CP47、光系统II颗粒中CP43和CP47、分离纯化后CP43和CP47的结构和色素变化。

Claims (10)

1.用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，主要包括装置主体（1）、分段光照装置（2）、叶片处理装置（3）、光系统II处理装置（4）和内周天线处理装置（5），

所述装置主体（1）为固定在水平台面上的圆柱型筒体，装置主体（1）从上到下均分为上、中、下三部分，

所述分段光照装置（2）包括竖直将装置主体（1）平均分为三部分的隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23），所述隔板槽一（21）与隔板槽二（22）的夹角处、隔板槽二（22）与隔板槽三（23）的夹角处、隔板槽三（23）与隔板槽一（21）的夹角处分别设有可调节光源（24），

所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）连接处设有圆柱型光照控制槽（25），所述光照控制槽（25）内部设有与三个所述可调节光源（24）分别连接用于控制可调节光源（24）亮度的亮度调节器（251），所述亮度调节器（251）与可调节光源（24）连接处设有用于转换亮度调节器（251）调节区域的转换控制器（252），

所述叶片处理装置（3）设置在所述装置主体（1）的上部，叶片处理装置（3）包括环绕设置在装置主体（1）上部外侧的三个弧形槽体一（31）、分别设置在所述弧形槽体一（31）内部的叶片存储装置（32）和分别设置在所述弧形槽体一（31）上部的密封遮盖（33），

所述光系统II处理装置（4）设置在所述装置主体（1）的中部，光系统II处理装置（4）包括分别通过转轴活动安装在所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）侧部的三个弧形槽体二（41）和分别设置在三个所述弧形槽体二（41）内部的试管架一（42），

所述内周天线处理装置（5）设置在所述装置主体（1）的下部，内周天线处理装置（5）包括分别通过转轴活动安装在所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）侧部的三个弧形槽体三（51）和分别设置在三个所述弧形槽体三（51）内部的试管架二（52）。

2.根据权利要求1所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）侧面分别设有用于防止光线折射和热量聚集的吸光吸热板（6）。

3.根据权利要求1所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，所述隔板槽一（21）、隔板槽二（22）、隔板槽三（23）内部分别设有用于装置主体（1）内热量散发的散热器（7）。

4.根据权利要求1所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，三个所述弧形槽体一（31）与光照控制槽（25）上端面之间分别连接设有用于遮挡外部光源进入装置主体（1）内的遮光感应板（8）。

5.根据权利要求4所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，所述遮光感应板（8）上分别设有光照强度显色卡（81），用于感应所述可调节光源（24）的光照强度并通过不同程度的颜色进行显示。

6.根据权利要求1所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，所述光照控制槽（25）上端设有与光亮调节器（251）连接的亮度调节旋钮（253）和与所述转换控制器（252）连接的区域转换旋钮（254）。

7.根据权利要求1所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，所述试管架一（42）包括多个放置试管的试管槽一（421），所述试管槽一（421）底部均设有用于转动试管的旋转托座一（422），所述旋转托座一（422）分别通过设置在试管架一（42）底部的多个旋转电机一（423）驱动；

所述试管架二（52）包括多个放置试管的试管槽二（521），所述试管槽二（521）底部均设有用于转动试管的旋转托座二（522），所述旋转托座二（522）分别通过设置在试管架二（52）底部的多个旋转电机二（523）驱动。

8.根据权利要求1所述用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置，其特征在于，所述试管架二（52）包括多个放置试管的试管槽二（521），所述试管槽二（521）底部均设有用于转动试管的旋转托座二（522），所述旋转托座二（522）分别通过设置在试管架二（52）底部的多个旋转电机二（523）驱动。

9.利用权利要求1-8任意一项所述装置研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：在叶片水平上研究光胁迫对CP43和CP47的影响

将一叶片分为三份，打开叶片处理装置（3）的密封遮盖（33）将三份叶片分别放入叶片存储装置（32）的存储盒（321）中，转动区域转换旋钮（254）和亮度调节旋钮（253）分别对三份叶片进行强光胁迫、弱光胁迫和正常光照射，在处理过程中存储盒（321）在驱动电机（323）的带动下旋转，使叶片光照均匀，处理结束后将叶片取出，研究叶片中CP43和CP47的结构和色素变化；

S2：在光系统II水平上研究光胁迫对CP43和CP47的影响

从一叶片上提取光系统II颗粒，将提取到的光系统II颗粒分为三份分别装入玻璃试管中，分别打开光系统II处理装置（4）的三个弧形槽体二（41），将三个玻璃试管分别放入试管架一（42）的试管槽一（421）中，关闭弧形槽体二（41），转动区域转换旋钮（254）和亮度调节旋钮（253）分别对三个玻璃试管中的光系统II颗粒进行强光胁迫、弱光胁迫和正常光照射，处理过程中旋转托座一（422）在旋转电机一（423）的驱动下带着玻璃试管旋转，使光系统II颗粒受光照均匀，处理结束后将玻璃试管取出，研究光系统II颗粒中CP43和CP47的结构和色素变化；

S3：研究光胁迫对分离纯化后CP43和CP47的影响

从同一叶片上分离纯化提取CP43和CP47，将提取到的CP43和CP47分为三份分别装入玻璃试管中，分别打开内周天线处理装置（5）的三个弧形槽体三（51），将三个玻璃试管分别放入试管架二（52）的试管槽二（521）中，关闭弧形槽体三（51），转动区域转换旋钮（254）和亮度调节旋钮（253）分别对三个玻璃试管中的CP43和CP47进行强光胁迫、弱光胁迫和正常光照射，处理过程中旋转托座二（522）在旋转电机二（523）的驱动下带着玻璃试管旋转，使CP43和CP47受光照均匀，处理结束后将玻璃试管取出，研究CP43和CP47的结构和色素变化。

10.根据权利要求9所述研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的方法，其特征在于，所述步骤S1、S2、S3同时进行。

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