CN112963349A - 新型水环真空机组 - Google Patents

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CN112963349A CN202110090883.XA CN202110090883A CN112963349A CN 112963349 A CN112963349 A CN 112963349A CN 202110090883 A CN202110090883 A CN 202110090883A CN 112963349 A CN112963349 A CN 112963349A
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water
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vacuum pump
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曾志军
王文明
武泽法
杨德新
盖乐天
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Zibo Vacuum Pump Factory Co ltd
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Zibo Vacuum Pump Factory Co ltd
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    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C19/00—Rotary-piston pumps with fluid ring or the like, specially adapted for elastic fluids
    • F04C19/004—Details concerning the operating liquid, e.g. nature, separation, cooling, cleaning, control of the supply
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C25/00—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids
    • F04C25/02—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids for producing high vacuum
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
    • F04C28/28—Safety arrangements; Monitoring

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Abstract

本发明提供了新型水环真空机组，涉及水环泵技术领域。包括水环真空泵和汽水分离器，其特征在于，所述水环真空泵上部设置进气口，所述汽水分离器上部设置有排气口，所述汽水分离器设置有补水口和排水口并分别位于所述汽水分离器上、下两端，所述补水口设置有补水电磁阀，所述排水口设置有排水电磁阀，所述汽水分离器分别设置有液位计、温度计和温度变送器。本发明实现了水环真空泵在没有冷却液的情况下能保持稳定运行。

Description

新型水环真空机组
技术领域
本发明涉及水环泵领域，具体而言，涉及新型水环真空机组。
背景技术
介绍
为提高熔喷布产量增加真空抽气及真空干燥等设备，由于抽吸气体中含有 大量水及水蒸汽只能采用水环真空泵，且水环真空泵受水温影响较大(水温高 大大影响气量及真空度)，熔喷布生产场地较小无法提供冷却水，为此我公司 研发新型水环真空机组，满足水环真空泵正常运行的同时，无冷凝器，无冷却 水也可以保证真空泵工作液始终处在正常可控范围内，且设备紧凑，占地面积 小，自动控制，节省人力物力。
鉴于此，本申请发明人发明了新型水环真空机组。
发明内容
本发明提供了新型水环真空机组，旨在改善真空泵工作液无法在可控 范围内问题。
为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案:
包括水环真空泵和汽水分离器，其特征在于，所述水环真空泵上部设 置进气口，所述汽水分离器上部设置有排气口，所述汽水分离器设置有补 水口和排水口并分别位于所述汽水分离器上、下两端，所述补水口设置有 补水电磁阀，所述排水口设置有排水电磁阀，所述汽水分离器分别设置有 液位计、温度计和温度变送器。
进一步的，所述排气口设置有丝网除沫器。
进一步的，所述汽水分离器里设置反流挡板。
进一步的，所述液位计设置在所述汽水分离器的上部。
进一步的，所述温度计设置在汽水分离器的顶部一侧。
进一步的，所述温度变送器设置在汽水分离器的顶部与所述温度计同 侧。
进一步的，所述液位计设置在汽水分离器的顶部与所述温度计相对侧 与现有技术相比，本发明的有益效果是：
(1)具有无需冷凝器，无需外接冷凝水，占地面积小，自动化高等优 点，节省人力物力的同时大大提升了工作效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施方式的技术方案，下面将对实施方式中 所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的 某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员 来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关 的附图。
图1是本发明的结构示意图；
图2是本发明的汽水分离器结构示意图；
图3是本发明图1的俯视图。
主要元件符号说明
1、水环真空泵；2、汽水分离器；3、进气口；4、排气口；5、补水口； 6、排水口；7、补水电磁阀；8、排水电磁阀；9、液位计；10、温度计； 11、温度变送器。
具体实施方式
为使本发明实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合 本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完 整地描述，显然，所描述的实施方式是本发明一部分实施方式，而不是全 部的实施方式。基于本发明中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作 出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本发明保护的范 围。因此，以下对在附图中提供的本发明的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施方式。基 于本发明中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提 下所获得的所有其他实施方式，都属于本发明保护的范围。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连 接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可 拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相 连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元 件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况 理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上” 或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特 征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在 第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和 斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特 征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方， 或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
实施例1，如图1-3所示，设备由水环真空泵，侧置汽水分离器、自动 补水阀、自动排水阀、液位计+液位变送器、温度变送器、控制柜组成，真 空泵1开机时打开控制柜自动按键后，补水阀7打开自动补水至所需液位 后停止，真空泵1可以正常启动，抽吸熔喷布清洗阶段时由于含有大量水 分，会造成汽水分离器2液位持续增加，待液位增加到设定高度时排水阀8 自动打开，维持水位在合适区间，抽吸熔喷布干燥阶段时，含有水分较少， 真空泵1持续运行会造成水温急剧上升，造成抽气量减少，真空度降低等 不良状况，这时温度变送器11会控制排水阀8打开，排掉部分热水至液位 下限，此后打开补水阀7补充新鲜冷水至中间液位，使水环真空泵工作液 保持在可控范围内，不影响真空泵的抽气速率及真空度。
再具体应用时：启动设备前应先通过进水口补水，液位补至中线位置， 打开工作液循环管路球阀，即可启动真空泵1，由于水环真空泵工作时靠液 环实现容积变化及密封的，排气端会把水和气体同时排放到汽水分离器中， 经过汽水分离后，气体从上端排出，液体存在汽水分离器2中实现循环利 用。
由于循环利用，水温会逐渐升高，水温升高后由于真空泵1泵腔内为 负压，会造成水沸腾，不能实现液环的形成及水封。或真空泵1抽吸熔喷 布清洗过程中抽出较多水分，会造成汽水分离器液位持续上升，分离器达 不到分离效果。
新型真空机组增加了温度传感器、液位传感器、补、排水电磁阀。若 温度高于设定值后，机组会自动打开排水电磁阀8，把分离器液位降至最低 端，然后再补充新鲜冷水至中端。若抽吸水分过大，液位持续上升至高液 位后，排水电磁阀打开排至中端。正常运行中汽水分离器2分离不彻底， 我们在排气口4增加了丝网除沫器、汽水分离器2里设置了反流挡板，尽 量保证水分少随气体排出，若排出水分较多后，补水阀7会自动打开补水， 维持真空泵在合适的工作液位及工作液温度中工作。
以上所述仅为本发明的优选实施方式而已，并不用于限制本发明，对 于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的 精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发 明的保护范围之内。

Claims (7)

1.新型水环真空机组，包括水环真空泵(1)和汽水分离器(2)，其特征在于，所述水环真空泵(1)上部设置进气口(3)，所述汽水分离器(2)上部设置有排气口(4)，所述汽水分离器(2)设置有补水口(5)和排水口(6)并分别位于所述汽水分离器(2)上、下两端，所述补水口(5)设置有补水电磁阀(7)，所述排水口(6)设置有排水电磁阀(8)，所述汽水分离器(2)分别设置有液位计(9)、温度计(10)和温度变送器(11)。
2.根据权利要求1所述的新型水环真空机组，其特征在于，所述排气口(4)设置有丝网除沫器。
3.根据权利要求1所述的新型水环真空机组，其特征在于，所述汽水分离器(2)里设置反流挡板。
4.根据权利要求1所述的新型水环真空机组，其特征在于，所述液位计(9)设置在所述汽水分离器(2)的上部。
5.根据权利要求1所述的新型水环真空机组，其特征在于,所述温度计(10)设置在汽水分离器(2)的顶部一侧。
6.根据权利要求1所述的新型水环真空机组，其特征在于，所述温度变送器(11)设置在汽水分离器(2)的顶部与所述温度计(10)同侧。
7.根据权利要求1所述的新型水环真空机组，其特征在于，所述液位计(9)设置在汽水分离器(2)的顶部与所述温度计(10)相对侧。
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