CN112611848A - 一种爆轰波拐角距离测量方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种爆轰波拐角距离测量方法，该方法用组合式电磁粒子速度计测量炸药的冲击波后粒子速度，通过对比不同深度及不同径向位置处的粒子速度来确定爆轰波拐角距离，所述的组合式电磁粒子速度计为多个单U形速度计组合封装而成，沿待测炸药径向位置布放在药片之间；待测炸药、组合式电磁粒子速度计、传爆药、雷管自下而上叠加，并用安装架进行固定定位。该方法适用于炸药药柱的爆轰波拐角距离测量，通过记录炸药内部不同深度以及不同径向位置处的粒子速度变化，确定药柱内不同径向位置处粒子速度达到一致所需的距离，评价炸药的爆轰波拐角效应。
Description
技术领域
本申请属于火炸药评估技术领域，具体涉及一种爆轰波拐角距离测量方法，用于对炸药的爆轰波拐角效应进行评价。
背景技术
拐角效应是爆轰学中的重要研究内容，对于了解炸药性能、合理设计弹体以及发散爆轰波传播理论的研究等有着十分重要的意义。爆轰波拐角过程中出现的波阵面滞后或局部区域不爆轰现象称为炸药爆轰波传播的拐角效应。爆轰波在炸药中的拐角能力同炸药的爆轰参数、临界直径一样作为衡量炸药爆轰性能的一个指标得到普遍的重视。美国Cox和Campbell利用多狭缝扫描技术观察了PBX-9502炸药爆轰波拐角现象，得到炸药装药中不爆轰区域的大小；Hill等建立了“蘑菇(Mushroom)试验”，研究了钝感高能炸药的传爆性能；黄毅民对TATB基炸药开展了蘑菇试验研究，结果表明，颗粒度及炸药半球直径对爆轰波输出端面波形有影响；Dick用脉冲X射线照相法研究了X-0219和X-0290两种炸药中的爆轰波拐角现象，观察了拐角距离、拐角半径和不爆区的面积；Held也利用高速摄影研究了起爆冲击波强度对拐角效应的影响。
综上所述，目前对于爆轰波拐角现象的研究，主要是通过以蘑菇试验为代表的高速摄影法，获取拐角距离、拐角半径、延迟时间等参数，对炸药的爆轰波拐角效应进行评价。
但是，现有技术存在一些问题：(1)对试验设备要求较高，需要通过高速扫描相机获取图像；(2)待测炸药为半球形等异形装药结构，成型难度较高；(3)试验结果需要通过显微镜及数据处理软件对底片进行处理计算，精度要求非常高，数据处理较为复杂，处理过程易引入随机误差，从而影响测量结果的准确性。
发明内容
针对上述现有技术的不足，本申请的目的在于提供一种爆轰波拐角距离测量方法，该方法利用组合式电磁粒子速度计记录炸药内部不同深度以及不同径向位置处的冲击波后粒子速度变化，确定药柱内不同径向位置处粒子速度达到一致所需的距离，即为爆轰波拐角距离，简便可靠的评价炸药的爆轰波拐角效应。
为了实现上述任务，本申请采取如下的技术解决方案：
一种爆轰波拐角距离测量方法，其特征在于，该方法将组合式电磁粒子速度计5放置在待测炸药4内部，对待测炸药4不同深度及径向位置处的粒子速度变化进行测量；组合式电磁粒子速度计5位于磁场发生装置8产生的恒定磁场中；雷管1起爆传爆药2，传爆药2爆炸所产生的冲击波起爆待测炸药4，组合式电磁粒子速度计5连接数据采集仪6记录待测炸药4不同位置的粒子速度变化；触发探针3位于传爆药2的底部；待测炸药4为多个1mm～3.2mm厚的圆形药片叠加而成，组合式电磁粒子速度计5放置在药片之间；待测炸药4、组合式电磁粒子速度计5、传爆药2自下而上叠加在一起，通过安装架7固定定位；
所述组合式电磁粒子速度计5为多个单U形速度计组合而成，采用特氟龙FEP薄膜绝缘封装，一个组合式电磁粒子速度计5包含3～6个单U形速度计，每两个单U形速度计之间间隔为1.7mm～3.8mm，其中第一个单U形速度计敏感单元位于待测炸药4中心时最后一个单U形速度计的敏感单元接近待测炸药4边缘位置，且所有敏感单元均位于待测炸药4表面；
安装架7材质为航空铝材，表面喷涂绝缘漆，其上端固定板中间留有圆形通孔用于安装雷管1；
磁场发生装置8产生的均匀磁场分布区域直径为56mm～122mm，磁场强度为50mT～145mT；
具体按下列步骤进行：
步骤1，将待测炸药4放置在安装架7底板中间，每两个药片之间放置组合式电磁粒子速度计5，使第一个单U形速度计的敏感单元位于药片中心位置，并保持所有药片同轴心；
步骤2，将传爆药2放置在待测炸药4上端，并与其保持同轴心；
步骤3，将触发探针3安装在传爆药2与待测炸药4之间；
步骤4，用安装架7对各组件固定定位；
步骤5，将安装好的试样放置于磁场发生装置8的磁场区域内，并使组合式电磁粒子速度计5位于均匀磁场范围内；
步骤6，组合式电磁粒子速度计5连接数据采集仪6；
步骤7，将雷管1安装在传爆药2的雷管孔中；
步骤8，接通电源，开启磁场发生装置8和数据采集仪6；
步骤9，起爆雷管1，数据采集仪6记录并存储待测炸药4不同位置的粒子速度变化；
步骤10，确定不同径向位置处粒子速度相对差小于3％时的药柱深度，即为爆轰波拐角距离。
关于待测炸药4的厚度、组合式电磁粒子速度计5中单U形速度计的数量和每两个单U形速度计之间的间隔距离、磁场发生装置8产生的均匀磁场分布区域直径和磁场强度，可以采取以下2种方式的任意一种：
实现方式1：
待测炸药4的厚度为1mm；
组合式电磁粒子速度计5为3个单U形速度计组合而成，每两个单计的间距为1.7mm；
磁场发生装置8产生的均匀磁场分布区域直径为56mm，磁场强度为50mT。
实现方式2：
待测炸药4的厚度为3.2mm；
组合式电磁粒子速度计5为6个单U形速度计组合而成，每两个单计的间距为3.8mm；
磁场发生装置8产生的均匀磁场分布区域直径为122mm，磁场强度为145mT。
本申请提供了一种爆轰波拐角距离测量方法，将组合式组合式电磁粒子速度计嵌入炸药内部，对比炸药内部不同深度及径向位置处的冲击波后粒子速度，当炸药内部同一深度不同径向位置处的冲击波后粒子速度达到一致时，说明爆轰波的拐角现象消失，此距离即为爆轰波拐角距离。
本申请的有益效果体现在以下几个方面：
(1)提供了一种新的爆轰波拐角距离测量方法，简便易行的实现爆轰波拐角效应的评价，便于不同炸药爆轰波拐角效应的量化对比，且无需昂贵复杂的仪器设备，操作简单，适用性较强，便于推广应用；
(2)待测炸药为圆柱形药柱，便于成型，降低试验成本；
(3)通过数据采集仪记录粒子速度变化过程，读取最大速度进行对比分析，数据处理较为简单，同时保证了测量结果的准确性。
附图说明
图1是一种爆轰波拐角距离测量方法的结构示意图。
图2是组合式电磁粒子速度计的安装位置示意图。
1-雷管，2-传爆药，3-触发探针，4-待测炸药，5-组合式电磁粒子速度计，6-数据采集仪，7-安装架，8-磁场发生装置。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明，需要说明的是本申请不局限于以下具体实施例，凡在本申请技术方案基础上进行的同等变换均在本申请的保护范围内。
实施例1
如图1所示，本实施例给出一种RDX基炸药的爆轰波拐角距离测量方法。其特征在于，该方法将组合式电磁粒子速度计5放置在待测炸药4内部，对待测炸药4不同深度及径向位置处的粒子速度变化进行测量；组合式电磁粒子速度计5位于磁场发生装置8产生的恒定磁场中；雷管1起爆传爆药2，传爆药2爆炸所产生的冲击波起爆待测炸药4，组合式电磁粒子速度计5连接数据采集仪6记录待测炸药4不同位置的粒子速度变化；触发探针3位于传爆药2的底部；待测炸药4为6个厚度为1mm的圆形药片叠加而成，组合式电磁粒子速度计5放置在药片之间；待测炸药4、组合式电磁粒子速度计5、传爆药2自下而上叠加在一起，通过安装架7固定定位；
所述组合式电磁粒子速度计5为3个单U形速度计组合而成，编号为1#～3#，采用特氟龙FEP薄膜绝缘封装，每两个单U形速度计之间间隔为1.7mm，其中1#单U形速度计敏感单元位于待测炸药4中心时3#单U形速度计的敏感单元接近待测炸药4边缘位置，且所有敏感单元均位于待测炸药4表面；
安装架7材质为航空铝材，表面喷涂绝缘漆，其上端固定板中间留有圆形通孔用于安装雷管1；
磁场发生装置8产生的均匀磁场分布区域直径为56mm，磁场强度为50mT；
具体按下列步骤进行：
步骤1，将待测炸药4放置在安装架7底板中间，每两个药片之间放置组合式电磁粒子速度计5，使1#单U形速度计的敏感单元位于药片中心位置，并保持所有药片同轴心；
步骤2，将传爆药2放置在待测炸药4上端，并与其保持同轴心；
步骤3，将触发探针3安装在传爆药2与待测炸药4之间；
步骤4，用安装架7对各组件固定定位；
步骤5，将安装好的试样放置于磁场发生装置8的磁场区域内，并使组合式电磁粒子速度计5位于均匀磁场范围内；
步骤6，组合式电磁粒子速度计5连接数据采集仪6；
步骤7，将雷管1安装在传爆药2的雷管孔中；
步骤8，接通电源，开启磁场发生装置8和数据采集仪6；
步骤9，起爆雷管1，数据采集仪6记录并存储待测炸药4不同位置的粒子速度变化；
步骤10，得到RDX基炸药不同位置处测得的粒子速度如表1所示，可以看出，深度为5mm时，不同径向位置处的粒子速度达到一致，说明RDX基炸药的爆轰波拐角距离为5mm。
表1RDX基炸药内部粒子速度
本申请的工作原理如下：
由于爆轰波拐角效应的存在，炸药在起爆过程中存在一个起爆距离，称之为拐角距离。在拐角距离之前，炸药会出现局部不爆轰的现象，此时同一深度不同径向位置处的冲击波后粒子速度是不一样的。拐角距离之后，炸药实现了完全爆轰，此时同一深度不同径向位置处的冲击波后粒子速度达到一致。因此，通过组合式电磁粒子速度计测量不同位置处的冲击波后粒子速度，便可以确定出炸药的爆轰波拐角距离。
测量爆轰波的拐角距离存在三个难点，一是确保不同深度处径向测点的一致性，二是保证稳定无干扰的测试磁场环境，三是实现粒子速度的准确测量。
本申请中需要对比不同径向位置处的粒子速度，测点位置非常重要，组合式电磁粒子速度计5中各个单U形速度计敏感单元即为测点，采用特氟龙FEP薄膜对单U形速度计进行组合封装，在保证绝缘的同时，也对敏感单元的位置进行了固定，保证了测点位置的一致性。此外，在试验装配过程中通过安装架7对各试验部件进行固定定位，避免组合式电磁粒子速度计5发生移位而影响测量结果。
由于磁场范围内存在的导磁材料会对磁场分布产生干扰，进而对磁场均匀性及磁场强度造成影响。本申请中的安装架7，需要具有一定强度的非导电导磁材料，通过大量的试验，筛选出了表面喷涂绝缘漆的航空铝材。
电磁粒子速度计的基本工作原理为法拉第电磁感应定律。当长度为L的导体以速度u在磁场强度为B的均匀稳定的磁场中运动时，会产生感应电动势，电动势ε＝B×L×u。磁场强度过小时，数据采集仪6获得的电压幅值变化不明显，基线漂移及地磁场对粒子速度测量结果会带来较大的影响。磁场强度过大时，虽然电压幅值变化明显，但对磁场发生装置8的要求就相应提高。尤其是要同时满足一定范围的均匀磁场，保证组合式电磁粒子速度计5的敏感单元完全位于均匀稳定的磁场范围内，磁场发生装置8的要求及成本会呈指数级增长。通过大量试验及计算发现，均匀磁场分布区域直径为56mm～122mm，磁场强度为50mT～145mT时，上述问题均可以避免，上述功能均得以实现，满足使用要求。
本实施例中，均匀磁场分布区域直径为56mm，磁场强度为50mT。
待测炸药4的厚度太大时，不易捕捉到冲击波后粒子速度在不同深度处的变化过程，测得的爆轰波拐角距离会偏大。待测炸药4的厚度太小时，太薄的药片制备难度过高，不易实现。在兼顾测试需求与样片制备难度的基础上，通过大量试验发现，待测炸药4的厚度为1mm～3.2mm时，上述问题均可以避免，上述功能均得以实现，满足使用要求。
本实施例中，待测炸药4的厚度为1mm。
组合式电磁粒子速度计5每两个单U形速度计间隔太小时，不同测点位置太近，冲击波后粒子速度变化不明显，且容易相互干扰，增加了测试难度。单U形速度计间隔太大时，不易捕捉到冲击波后粒子速度在不同径向位置处的变化过程，而且组合式电磁粒子速度计5尺寸太大，为了保证第一个单U形速度计敏感单元位于待测炸药4中心时最后一个单U形速度计的敏感单元接近待测炸药4边缘位置，待测炸药4的尺寸也要相应增大，制样难度及成本都增大。包含的单U形速度计太少时，获得的数据太少，难以观察爆轰波拐角效应的发展变化，无法准确测量拐角距离。单U形速度计太多时，也会导致组合式电磁粒子速度计5尺寸太大，使得样品制备难度增加。通过大量试验发现，一个组合式电磁粒子速度计5包含3～6个单U形速度计，每两个单U形速度计之间间隔为1.7mm～3.8mm时，上述问题均可以避免，上述功能均得以实现，满足使用要求。
本实施例中，组合式电磁粒子速度计5包含3个单U形速度计，每两个单U形速度计之间间隔为1.7mm。
本申请的一种爆轰波拐角距离测量方法，有益效果体现在以下几个方面：
(1)提供了一种新的爆轰波拐角距离测量方法，测得RDX基炸药的爆轰波拐角距离为5mm，便于同其它炸药的爆轰波拐角效应进行量化对比，且无需昂贵复杂的仪器设备，操作简单，适用性较强，便于推广应用；
(2)待测炸药为圆柱形药柱，便于成型，试验成本较低；
(3)通过数据采集仪记录粒子速度变化过程，读取最大速度进行对比分析，数据处理较为简单，同时保证了测量结果的准确性。
实施例2
如图1所示，本实施例给出一种HMX基炸药的爆轰波拐角距离测量方法。其特征在于，该方法将组合式电磁粒子速度计5放置在待测炸药4内部，对待测炸药4不同深度及径向位置处的粒子速度变化进行测量；组合式电磁粒子速度计5位于磁场发生装置8产生的恒定磁场中；雷管1起爆传爆药2，传爆药2爆炸所产生的冲击波起爆待测炸药4，组合式电磁粒子速度计5连接数据采集仪6记录待测炸药4不同位置的粒子速度变化；触发探针3位于传爆药2的底部；待测炸药4为5个厚度为3.2mm的圆形药片叠加而成，组合式电磁粒子速度计5放置在药片之间；待测炸药4、组合式电磁粒子速度计5、传爆药2自下而上叠加在一起，通过安装架7固定定位；
所述组合式电磁粒子速度计5为6个单U形速度计组合而成，编号为1#～6#，采用特氟龙FEP薄膜绝缘封装，每两个单U形速度计之间间隔为3.8mm，其中1#单U形速度计敏感单元位于待测炸药4中心时6#单U形速度计的敏感单元接近待测炸药4边缘位置，且所有敏感单元均位于待测炸药4表面；
安装架7材质为航空铝材，表面喷涂绝缘漆，其上端固定板中间留有圆形通孔用于安装雷管1；
磁场发生装置8产生的均匀磁场分布区域直径为122mm，磁场强度为145mT；
具体按下列步骤进行：
步骤1，将待测炸药4放置在安装架7底板中间，每两个药片之间放置组合式电磁粒子速度计5，使1#单U形速度计的敏感单元位于药片中心位置，并保持所有药片同轴心；
步骤2，将传爆药2放置在待测炸药4上端，并与其保持同轴心；
步骤3，将触发探针3安装在传爆药2与待测炸药4之间；
步骤4，用安装架7对各组件固定定位；
步骤5，将安装好的试样放置于磁场发生装置8的磁场区域内，并使组合式电磁粒子速度计5位于均匀磁场范围内；
步骤6，组合式电磁粒子速度计5连接数据采集仪6；
步骤7，将雷管1安装在传爆药2的雷管孔中；
步骤8，接通电源，开启磁场发生装置8和数据采集仪6；
步骤9，起爆雷管1，数据采集仪6记录并存储待测炸药4不同位置的粒子速度变化；
步骤10，得到HMX基炸药不同位置处测得的粒子速度如表2所示，可以看出，深度为9.6mm时，不同径向位置处的粒子速度达到一致，说明HMX基炸药的爆轰波拐角距离为9.6mm。
表2HMX基炸药内部粒子速度
本申请的工作原理如下：
由于爆轰波拐角效应的存在，炸药在起爆过程中存在一个起爆距离，称之为拐角距离。在拐角距离之前，炸药会出现局部不爆轰的现象，此时同一深度不同径向位置处的冲击波后粒子速度是不一样的。拐角距离之后，炸药实现了完全爆轰，此时同一深度不同径向位置处的冲击波后粒子速度达到一致。因此，通过组合式电磁粒子速度计测量不同位置处的冲击波后粒子速度，便可以确定出炸药的爆轰波拐角距离。
测量爆轰波的拐角距离存在三个难点，一是确保不同深度处径向测点的一致性，二是保证稳定无干扰的测试磁场环境，三是实现粒子速度的准确测量。
本申请中需要对比不同径向位置处的粒子速度，测点位置非常重要，组合式电磁粒子速度计5中各个单U形速度计敏感单元即为测点，采用特氟龙FEP薄膜对单U形速度计进行组合封装，在保证绝缘的同时，也对敏感单元的位置进行了固定，保证了测点位置的一致性。此外，在试验装配过程中通过安装架7对各试验部件进行固定定位，避免组合式电磁粒子速度计5发生移位而影响测量结果。
由于磁场范围内存在的导磁材料会对磁场分布产生干扰，进而对磁场均匀性及磁场强度造成影响。本申请中的安装架7，需要具有一定强度的非导电导磁材料，通过大量的试验，筛选出了表面喷涂绝缘漆的航空铝材。
电磁粒子速度计的基本工作原理为法拉第电磁感应定律。当长度为L的导体以速度u在磁场强度为B的均匀稳定的磁场中运动时，会产生感应电动势，电动势ε＝B×L×u。磁场强度过小时，数据采集仪6获得的电压幅值变化不明显，基线漂移及地磁场对粒子速度测量结果会带来较大的影响。磁场强度过大时，虽然电压幅值变化明显，但对磁场发生装置8的要求就相应提高。尤其是要同时满足一定范围的均匀磁场，保证组合式电磁粒子速度计5的敏感单元完全位于均匀稳定的磁场范围内，磁场发生装置8的要求及成本会呈指数级增长。通过大量试验及计算发现，均匀磁场分布区域直径为56mm～122mm，磁场强度为50mT～145mT时，上述问题均可以避免，上述功能均得以实现，满足使用要求。
本实施例中，均匀磁场分布区域直径为122mm，磁场强度为145mT。
待测炸药4的厚度太大时，不易捕捉到冲击波后粒子速度在不同深度处的变化过程，测得的爆轰波拐角距离会偏大。待测炸药4的厚度太小时，太薄的药片制备难度过高，不易实现。在兼顾测试需求与样片制备难度的基础上，通过大量试验发现，待测炸药4的厚度为1mm～3.2mm时，上述问题均可以避免，上述功能均得以实现，满足使用要求。
本实施例中，待测炸药4的厚度为3.2mm。
组合式电磁粒子速度计5每两个单U形速度计间隔太小时，不同测点位置太近，冲击波后粒子速度变化不明显，且容易相互干扰，增加了测试难度。单U形速度计间隔太大时，不易捕捉到冲击波后粒子速度在不同径向位置处的变化过程，而且组合式电磁粒子速度计5尺寸太大，为了保证第一个单U形速度计敏感单元位于待测炸药4中心时最后一个单U形速度计的敏感单元接近待测炸药4边缘位置，待测炸药4的尺寸也要相应增大，制样难度及成本都增大。包含的单U形速度计太少时，获得的数据太少，难以观察爆轰波拐角效应的发展变化，无法准确测量拐角距离。单U形速度计太多时，也会导致组合式电磁粒子速度计5尺寸太大，使得样品制备难度增加。通过大量试验发现，一个组合式电磁粒子速度计5包含3～6个单U形速度计，每两个单U形速度计之间间隔为1.7mm～3.8mm时，上述问题均可以避免，上述功能均得以实现，满足使用要求。
本实施例中，组合式电磁粒子速度计5包含6个单U形速度计，每两个单U形速度计之间间隔为3.8mm。
本申请的一种爆轰波拐角距离测量方法，有益效果体现在以下几个方面：
(1)提供了一种新的爆轰波拐角距离测量方法，测得HMX基炸药的爆轰波拐角距离为9.6mm，便于同其它炸药的爆轰波拐角效应进行量化对比，且无需昂贵复杂的仪器设备，操作简单，适用性较强，便于推广应用；
(2)待测炸药为圆柱形药柱，便于成型，试验成本较低；
(3)通过数据采集仪记录粒子速度变化过程，读取最大速度进行对比分析，数据处理较为简单，同时保证了测量结果的准确性。
Claims (3)
1.一种爆轰波拐角距离测量方法，其特征在于，所述方法将组合式电磁粒子速度计(5)放置在待测炸药(4)内部，对待测炸药(4)不同深度及径向位置处的粒子速度变化进行测量；组合式电磁粒子速度计(5)位于磁场发生装置(8)产生的恒定磁场中；雷管(1)起爆传爆药(2)，传爆药(2)爆炸所产生的冲击波起爆待测炸药(4)，组合式电磁粒子速度计(5)连接数据采集仪(6)记录待测炸药(4)不同位置的粒子速度变化；触发探针(3)位于传爆药(2)的底部；待测炸药(4)为多个1mm～3.2mm厚的圆形药片叠加而成，组合式电磁粒子速度计(5)放置在药片之间；待测炸药(4)、组合式电磁粒子速度计(5)、传爆药(2)自下而上叠加在一起，通过安装架(7)固定定位；
所述组合式电磁粒子速度计(5)为多个单U形速度计组合而成，采用特氟龙FEP薄膜绝缘封装，一个组合式电磁粒子速度计(5)包含3～6个单U形速度计，每两个单U形速度计之间间隔为1.7mm～3.8mm，其中第一个单U形速度计敏感单元位于待测炸药(4)中心时最后一个单U形速度计的敏感单元接近待测炸药(4)边缘位置，且所有敏感单元均位于待测炸药(4)表面；
安装架(7)材质为航空铝材，表面喷涂绝缘漆，其上端固定板中间留有圆形通孔用于安装雷管(1)；
磁场发生装置(8)产生的均匀磁场分布区域直径为56mm～122mm，磁场强度为50mT～145mT；
具体按下列步骤进行：
步骤1，将待测炸药(4)放置在安装架(7)底板中间，每两个药片之间放置组合式电磁粒子速度计(5)，使第一个单U形速度计的敏感单元位于药片中心位置，并保持所有药片同轴心；
步骤2，将传爆药(2)放置在待测炸药(4)上端，并与其保持同轴心；
步骤3，将触发探针(3)安装在传爆药(2)与待测炸药(4)之间；
步骤4，用安装架(7)对各组件固定定位；
步骤5，将安装好的试样放置于磁场发生装置(8)的磁场区域内，并使组合式电磁粒子速度计(5)位于均匀磁场范围内；
步骤6，组合式电磁粒子速度计(5)连接数据采集仪(6)；
步骤7，将雷管(1)安装在传爆药(2)的雷管孔中；
步骤8，接通电源，开启磁场发生装置(8)和数据采集仪(6)；
步骤9，起爆雷管(1)，数据采集仪(6)记录并存储待测炸药(4)不同位置的粒子速度变化；
步骤10，确定不同径向位置处粒子速度相对差小于3％时的药柱深度，即为爆轰波拐角距离。
2.如权利要求1所述一种爆轰波拐角距离测量方法，其特征在于，所用待测炸药(4)为6个厚度为1mm的药片叠加而成；
组合式电磁粒子速度计(5)为3个单U形速度计组合而成，每两个单计的间距为1.7mm；
磁场发生装置(8)产生的均匀磁场分布区域直径为56mm，磁场强度为50mT。
3.如权利要求1所述一种爆轰波拐角距离测量方法，其特征在于，所用待测炸药(4)为5个厚度为3.2mm的药片叠加而成；
组合式电磁粒子速度计(5)为6个单U形速度计组合而成，每两个单计的间距为3.8mm；
磁场发生装置(8)产生的均匀磁场分布区域直径为122mm，磁场强度为145mT。
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