CN112458453B - 一种高结合强度陶瓷绝缘涂层及其制备方法 - Google Patents

一种高结合强度陶瓷绝缘涂层及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112458453B
CN112458453B CN202011344903.3A CN202011344903A CN112458453B CN 112458453 B CN112458453 B CN 112458453B CN 202011344903 A CN202011344903 A CN 202011344903A CN 112458453 B CN112458453 B CN 112458453B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
pure aluminum
insulating coating
micro
arc oxidation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202011344903.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112458453A (zh
Inventor
李朝雄
黄新春
王卫泽
黄新谊
杨现猛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anhui Yingrui Youcai Technology Co ltd
Original Assignee
Anhui Yingrui Youcai Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anhui Yingrui Youcai Technology Co ltd filed Critical Anhui Yingrui Youcai Technology Co ltd
Priority to CN202011344903.3A priority Critical patent/CN112458453B/zh
Publication of CN112458453A publication Critical patent/CN112458453A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112458453B publication Critical patent/CN112458453B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C24/00Coating starting from inorganic powder
    • C23C24/02Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
    • C23C24/04Impact or kinetic deposition of particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/04Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
    • C23C4/10Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
    • C23C4/11Oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/134Plasma spraying
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/18After-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/026Anodisation with spark discharge
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

本发明公开了一种高结合强度陶瓷绝缘涂层,其特征在于:所述高结合强度陶瓷绝缘涂层包括冷喷涂纯铝底层、微弧氧化中间层和氧化铝面层;所述冷喷涂纯铝底层采用冷喷涂工艺喷涂纯铝形成;所述微弧氧化中间层采用对底层纯铝进行微弧氧化工艺形成;所述氧化铝面层氧化铝粉经等离子喷涂工艺形成。本发明通过将冷喷涂形成的纯铝层直接进行微弧氧化,使其表面形成厚度为20‑30μm微弧氧化中间层,可显著提高涂层韧性;本发明提供的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法,结合强度高,绝缘性能佳,经测试:其绝缘性能为:陶瓷绝缘涂层耐电压>1500V/0.1mm,电阻值>500ΩM,并且该制备方法还具有工艺简单、生产成本低、产品质量好等优点。

Description

一种高结合强度陶瓷绝缘涂层及其制备方法
技术领域
本发明属于绝缘涂层领域,更具体地说,尤其涉及一种高结合强度陶瓷绝缘涂层。同时,本发明还涉及一种高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法。
背景技术
电动机是把电能转换成机械能的一种设备,它是利用通电线圈产生旋转磁场并作用于转子形成磁电动力旋转扭矩,电动机的种类很多,以基本结构来说,其组成主要由定子和转子所构成,绝缘轴承是电机中最为重要的组件之一,在电机运行中,定、转子磁路中或围绕轴的相电流中的任何不平衡都能产生旋转系统磁链,当轴旋转时,这些磁链能在轴两端产生电位差,这一电位差称为轴电压,轴电压能通过两端轴承在轴和机壳所形成的环路(闭合电路)中激励出循环电流,该电流称为轴电流,轴承电流的大小与电机的结构、电机的功率、驱动电压的幅度、脉冲上升时间、电缆长度等因素有关,电机的功率越大、驱动电压越高、驱动电压的上升沿越陡、电缆越短,则轴承电流越大,绝缘轴承可避免电腐蚀所造成的损害,因此与普通的轴承相比应用在电机中绝缘轴承可保障运行更可靠,绝缘轴承的外形尺寸和基本技术特点与非绝缘轴承相同,因此可以百分之百互换。适用于电机、发电机,特别是变频电机应用更广泛,在绝缘轴承的生产制造过程中,需要在其表面设置绝缘涂层。
现有的技术,大多采用等离子喷涂工艺在表面熔射氧化铝涂层,存在结合强度差,耐电压强度低,难以承受高速载荷等问题,因此,我们提出了一种一种高结合强度陶瓷绝缘涂层及其制备方法。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层,本高结合强度陶瓷绝缘涂层结合强度高、耐磨性好、绝缘性能优异以解决上述提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种高结合强度陶瓷绝缘涂层,所述高结合强度陶瓷绝缘涂层包括冷喷涂纯铝底层、微弧氧化中间层和氧化铝面层;
所述冷喷涂纯铝底层采用冷喷涂工艺喷涂纯铝形成,且其厚度为50-100μm;
所述微弧氧化中间层采用对底层纯铝进行微弧氧化工艺形成,且其厚度为20-30μm;
所述氧化铝面层氧化铝粉经等离子喷涂工艺形成,且其厚度为200-1000μm,所述氧化铝面层的孔隙内还包括有聚硅氧烷类封孔剂。
优选的,所述冷喷涂纯铝底层的材料为纯度不低于99.5%的铝粉。
一种高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法,包括如下步骤:
S1、基体预处理:采用有机溶剂超声清洗去除油渍,采用锆刚玉砂对涂层部位进行表面喷砂处理,使表面粗糙度达到Ra=8-12μm;
S2、冷喷涂纯铝底层:采用高压冷喷涂设备,喷涂纯度不低于99.5%的纯铝粉,形成厚度50-100μm的粘结底层;
S3、微弧氧化层:将冷喷涂形成的纯铝层直接进行微弧氧化,使其表面形成厚度为20-30μm微弧氧化中间层;
S4、等离子喷涂:采用等离子喷涂设备,在中间层上喷涂厚度为200-1000μm氧化铝面层,其中,氧化铝面层设置为氧化铝粉末纯度不低度99.5%的氧化铝面层;
S5、孔隙封闭:采用聚硅氧烷类涂层封孔剂对绝缘涂层进行渗透封孔
S6、磨削:将绝缘涂层磨削至成品尺寸。
优选的,步骤S1所述的有机溶剂超声清洗采用超声波清洗机配合有机溶剂进行清洗,所述有机溶剂采用丙酮、甲基丁酮、甲基异丁酮中的一种。
优选的,所述超声波清洗机包括下壳总成、电池、电路板、上壳和振能片,所述下壳总成内部有容纳腔,所述电池、所述电路板和所述振能片均密封于所述容纳腔中,所述电路板用于控制所述振能片振动,所述电池电连接所述电路板进而为所述振能片提供电能,所述上壳呈容器状,固定于所述下壳总成上,所述振能片带动所述上壳振动。
优选的,步骤S6所述的磨削采用电动打磨机进行磨削,所述电动打磨机高功率电机在整个作业范围内均可实现强大磨削性能,可达到150%的负载,所述电动打磨机采用触摸式启动、自动停止、无磨损电子刹停系统EBS、快速夹紧系统QUICKin、断电重启锁定以及软起动。
优选的,所述电动打磨机的具体参数为,电源:220V;功率:800W;空载转速:10000r/min;配件固定方式:快速免匙更换系统。
本发明的技术效果和优点:本发明提供的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层,与传统的绝缘涂层相比,本发明通过将冷喷涂形成的纯铝层直接进行微弧氧化,使其表面形成厚度为20-30μm微弧氧化中间层,可显著提高涂层韧性;本发明提供的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法,结合强度高,绝缘性能佳,经测试:其绝缘性能为:陶瓷绝缘涂层耐电压>1500V/0.1mm,电阻值>500ΩM,并且该制备方法还具有工艺简单、生产成本低、产品质量好等优点。
附图说明
图1为本发明高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法流程图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明提供了如图1的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层,所述高结合强度陶瓷绝缘涂层包括冷喷涂纯铝底层、微弧氧化中间层和氧化铝面层;
所述冷喷涂纯铝底层采用冷喷涂工艺喷涂纯铝形成,且其厚度为50μm;
所述微弧氧化中间层采用对底层纯铝进行微弧氧化工艺形成,且其厚度为20μm;
所述氧化铝面层氧化铝粉经等离子喷涂工艺形成,且氧化铝面层由10-38μm的氧化铝粉末喷涂而成,厚度为200μm。
其中,所述氧化铝面层的孔隙内还包括有聚硅氧烷类封孔剂。
其中,所述冷喷涂纯铝底层的材料为纯度不低于99.5%的铝粉。
一种高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法,包括如下步骤:
S1、基体预处理:采用有机溶剂超声清洗去除油渍,采用锆刚玉砂对涂层部位进行表面喷砂处理,使表面粗糙度达到Ra=8;
S2、冷喷涂纯铝底层:采用高压冷喷涂设备,喷涂纯度不低于99.5%的纯铝粉,形成厚度50-100μm的粘结底层;
S3、微弧氧化层:将冷喷涂形成的纯铝层直接进行微弧氧化,使其表面形成厚度为20-30μm微弧氧化中间层;
S4、等离子喷涂:采用等离子喷涂设备,在中间层上喷涂厚度为200-1000μm氧化铝面层,其中,氧化铝面层设置为氧化铝粉末纯度不低度99.5%的氧化铝面层;
S5、孔隙封闭:采用聚硅氧烷类涂层封孔剂对绝缘涂层进行渗透封孔
S6、磨削:将绝缘涂层磨削至成品尺寸。
其中,步骤S1所述的有机溶剂超声清洗采用超声波清洗机配合有机溶剂进行清洗,所述有机溶剂采用丙酮、甲基丁酮、甲基异丁酮中的一种。
其中,所述超声波清洗机包括下壳总成、电池、电路板、上壳和振能片,所述下壳总成内部有容纳腔,所述电池、所述电路板和所述振能片均密封于所述容纳腔中,所述电路板用于控制所述振能片振动,所述电池电连接所述电路板进而为所述振能片提供电能,所述上壳呈容器状,固定于所述下壳总成上,所述振能片带动所述上壳振动。
其中,步骤S6所述的磨削采用电动打磨机进行磨削,所述电动打磨机高功率电机在整个作业范围内均可实现强大磨削性能,可达到150%的负载,所述电动打磨机采用触摸式启动、自动停止、无磨损电子刹停系统EBS、快速夹紧系统QUICKin、断电重启锁定以及软起动。
其中,所述电动打磨机的具体参数为,电源:220V;功率:800W;空载转速:10000r/min;配件固定方式:快速免匙更换系统,电动打磨机打在使用前必须要开机试转,看打磨片运行是否平稳正常,检查对碳刷的磨损程度,由专业人员适时更换,确认无误后方可正常使用;工作时间较长而机体温度大于50℃以上并有烫手的感觉时,请立即停机待自然冷却后再使用;使用电动打磨机时要切记不可用力过猛,要慢慢均匀用力,以免发生打磨片撞碎的现象,如出现打磨片卡阻现象,应立即将打磨机提起,以免烧坏打磨机或因打磨片破碎,造成不安全隐患;更换砂轮片时必须关闭电源,确认无误后方可进行砂轮片的更换,务必使用专用的拆装切割V带,严禁乱敲乱打;操作打磨机前必须佩带防护眼镜及防尘口罩,防护措施不到位不准作业。
通过上述材料以及制备方法制备出的高结合强度陶瓷绝缘涂层,其绝缘性能为:耐电压3100V,电阻值>500ΩM;结合强度75MPa。
实施例2
与实施例1的不同之处在于:粗化至表面粗糙度为Ra=10μm;冷喷涂纯铝底层厚度为75μm;微弧氧化中间层,厚度为25μm;氧化铝面层由15-45μm的氧化铝粉末喷涂而成,厚度为500μm。
绝缘性能为:耐电压7600V,电阻值>500ΩM;结合强度71MPa。
实施例3
与实施例1的不同之处在于:粗化至表面粗糙度为Ra=12μm;冷喷涂纯铝底层厚度为100μm;微弧氧化中间层,厚度为25μm;氧化铝面层由15-45μm的氧化铝粉末喷涂而成,厚度为1000μm。
绝缘性能为:耐电压15500V,电阻值>500ΩM;结合强度68MPa。
综上所述:本发明提供的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层,与传统的绝缘涂层相比,本发明通过将冷喷涂形成的纯铝层直接进行微弧氧化,使其表面形成厚度为20-30μm微弧氧化中间层,可显著提高涂层韧性;本发明提供的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法,结合强度高,绝缘性能佳,经测试:其绝缘性能为:陶瓷绝缘涂层耐电压>1500V/0.1mm,电阻值>500ΩM,并且该制备方法还具有工艺简单、生产成本低、产品质量好等优点。
最后应说明的是:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种高结合强度陶瓷绝缘涂层,其特征在于:所述高结合强度陶瓷绝缘涂层包括冷喷涂纯铝底层、微弧氧化中间层和氧化铝面层;
所述冷喷涂纯铝底层采用冷喷涂工艺喷涂纯铝形成,且其厚度为50-100μm;
所述微弧氧化中间层采用对底层纯铝进行微弧氧化工艺形成,且其厚度为20-30μm;
所述氧化铝面层氧化铝粉经等离子喷涂工艺形成,且其厚度为200-1000μm,所述氧化铝面层的孔隙内还包括有聚硅氧烷类封孔剂。
2.根据权利要求1所述的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层,其特征在于:所述冷喷涂纯铝底层的材料为纯度不低于99.5%的铝粉。
3.一种权利要求1所述的高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:
S1、基体预处理:采用有机溶剂超声清洗去除油渍,采用锆刚玉砂对涂层部位进行表面喷砂处理,使表面粗糙度达到Ra=8-12μm;
S2、冷喷涂纯铝底层:采用高压冷喷涂设备,喷涂纯度不低于99.5%的纯铝粉,形成厚度50-100μm的粘结底层;
S3、微弧氧化层:将冷喷涂形成的纯铝层直接进行微弧氧化,使其表面形成厚度为20-30μm微弧氧化中间层;
S4、等离子喷涂:采用等离子喷涂设备,在中间层上喷涂厚度为200-1000μm氧化铝面层,其中,氧化铝面层设置为氧化铝粉末纯度不低度99.5%的氧化铝面层;
S5、孔隙封闭:采用聚硅氧烷类涂层封孔剂对绝缘涂层进行渗透封孔
S6、磨削:将绝缘涂层磨削至成品尺寸。
4.根据权利要求3所述的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法,其特征在于:步骤S1所述的有机溶剂超声清洗采用超声波清洗机配合有机溶剂进行清洗,所述有机溶剂采用丙酮、甲基丁酮、甲基异丁酮中的一种。
5.根据权利要求4所述的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法,其特征在于:所述超声波清洗机包括下壳总成、电池、电路板、上壳和振能片,所述下壳总成内部有容纳腔,所述电池、所述电路板和所述振能片均密封于所述容纳腔中,所述电路板用于控制所述振能片振动,所述电池电连接所述电路板进而为所述振能片提供电能,所述上壳呈容器状,固定于所述下壳总成上,所述振能片带动所述上壳振动。
6.根据权利要求3所述的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法,其特征在于:步骤S6所述的磨削采用电动打磨机进行磨削,所述电动打磨机高功率电机在整个作业范围内均可实现强大磨削性能,可达到150%的负载,所述电动打磨机采用触摸式启动、自动停止、无磨损电子刹停系统EBS、快速夹紧系统QUICKin、断电重启锁定以及软起动。
7.根据权利要求6所述的一种高结合强度陶瓷绝缘涂层的制备方法,其特征在于:所述电动打磨机的具体参数为,电源:220V;功率:800W;空载转速:10000r/min;配件固定方式:快速免匙更换系统。
CN202011344903.3A 2020-11-24 2020-11-24 一种高结合强度陶瓷绝缘涂层及其制备方法 Active CN112458453B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011344903.3A CN112458453B (zh) 2020-11-24 2020-11-24 一种高结合强度陶瓷绝缘涂层及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011344903.3A CN112458453B (zh) 2020-11-24 2020-11-24 一种高结合强度陶瓷绝缘涂层及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112458453A CN112458453A (zh) 2021-03-09
CN112458453B true CN112458453B (zh) 2023-09-15

Family

ID=74807919

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011344903.3A Active CN112458453B (zh) 2020-11-24 2020-11-24 一种高结合强度陶瓷绝缘涂层及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112458453B (zh)

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103203915A (zh) * 2013-03-27 2013-07-17 成都阳光铝制品有限公司 铝合金微弧电泳复合膜层及其制备工艺
CN104249876A (zh) * 2013-06-28 2014-12-31 比亚迪股份有限公司 一种阻隔防爆材料及其制备方法
CN108300959A (zh) * 2018-04-26 2018-07-20 东莞市华鑫激光科技有限公司 一种喷涂于金属表面的绝缘陶瓷涂层的制备方法
CN108715989A (zh) * 2018-05-29 2018-10-30 欧瑞康美科表面技术(上海)有限公司 一种等离子喷涂绝缘涂层的制备方法
CN108754401A (zh) * 2018-09-07 2018-11-06 德清创智科技股份有限公司 防止轴电流产生的热喷涂绝缘涂层及其制备方法
CN109267132A (zh) * 2018-11-23 2019-01-25 西安工业大学 一种适于铝基板表面高性能导热绝缘陶瓷层的制备方法
WO2019132525A1 (ko) * 2017-12-26 2019-07-04 주식회사 포스코 알루미늄합금 도금강판의 표면처리방법 및 이에 따라 제조된 알루미늄합금 도금강판
CN110158134A (zh) * 2019-06-10 2019-08-23 陕西天元智能再制造股份有限公司 一种冷喷涂与微弧氧化相结合的工件表面处理方法
CN110306181A (zh) * 2019-08-21 2019-10-08 辽宁科技大学 镁合金表面复合涂层及其制备方法
CN209598907U (zh) * 2019-01-16 2019-11-08 贵州优瑞特橡胶工业有限公司 一种实心轮胎翻新打磨一体机
CN110699628A (zh) * 2019-10-14 2020-01-17 洛阳轴承研究所有限公司 一种等离子喷涂涂层的封孔方法、绝缘轴承
CN211563888U (zh) * 2019-12-19 2020-09-25 深圳市声益智能科技有限公司 超声波清洗机

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103203915A (zh) * 2013-03-27 2013-07-17 成都阳光铝制品有限公司 铝合金微弧电泳复合膜层及其制备工艺
CN104249876A (zh) * 2013-06-28 2014-12-31 比亚迪股份有限公司 一种阻隔防爆材料及其制备方法
WO2019132525A1 (ko) * 2017-12-26 2019-07-04 주식회사 포스코 알루미늄합금 도금강판의 표면처리방법 및 이에 따라 제조된 알루미늄합금 도금강판
CN108300959A (zh) * 2018-04-26 2018-07-20 东莞市华鑫激光科技有限公司 一种喷涂于金属表面的绝缘陶瓷涂层的制备方法
CN108715989A (zh) * 2018-05-29 2018-10-30 欧瑞康美科表面技术(上海)有限公司 一种等离子喷涂绝缘涂层的制备方法
CN108754401A (zh) * 2018-09-07 2018-11-06 德清创智科技股份有限公司 防止轴电流产生的热喷涂绝缘涂层及其制备方法
CN109267132A (zh) * 2018-11-23 2019-01-25 西安工业大学 一种适于铝基板表面高性能导热绝缘陶瓷层的制备方法
CN209598907U (zh) * 2019-01-16 2019-11-08 贵州优瑞特橡胶工业有限公司 一种实心轮胎翻新打磨一体机
CN110158134A (zh) * 2019-06-10 2019-08-23 陕西天元智能再制造股份有限公司 一种冷喷涂与微弧氧化相结合的工件表面处理方法
CN110306181A (zh) * 2019-08-21 2019-10-08 辽宁科技大学 镁合金表面复合涂层及其制备方法
CN110699628A (zh) * 2019-10-14 2020-01-17 洛阳轴承研究所有限公司 一种等离子喷涂涂层的封孔方法、绝缘轴承
CN211563888U (zh) * 2019-12-19 2020-09-25 深圳市声益智能科技有限公司 超声波清洗机

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"聚硅氧烷封孔处理对Cf/SiC复合材料抗氧化性能的影响";索相波等;《航空材料学报》;20041215;第34-38页 *
1Cr18Ni9Ti不锈钢表面Al_2O_3阻氚涂层磁控溅射-微弧氧化法制备技术研究;吴艳萍等;《功能材料》;20160930(第09期);第9187-9191页 *
方世京等."喷后涂层处理".《热喷涂焊接技术 下》.湖南省钢铁研究所,1982,第45-46页. *
铝合金微弧氧化陶瓷膜的形貌及相组成分析;薛文彬,邓志威,汪新福,陈如意,来永春;《北京师范大学学报(自然科学版)》;19960330(第01期);第1-4页 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN112458453A (zh) 2021-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112458394A (zh) 一种热喷涂陶瓷绝缘涂层及其制备方法
US20070079497A1 (en) Rotatable assemblies having chemically bonded lamination stacks
CN108754401A (zh) 防止轴电流产生的热喷涂绝缘涂层及其制备方法
CN101782106A (zh) 陶瓷涂层绝缘轴承及其制备方法
CN112481579A (zh) 一种陶瓷绝缘涂层及其制备方法
CN109848765A (zh) 一种磁流体抛光机及抛光方法
JP2004256903A (ja) ロータの補修方法及びロータ補修装置
TW201633664A (zh) 旋轉電機之轉子及旋轉電機之轉子之製造方法
CN112458453B (zh) 一种高结合强度陶瓷绝缘涂层及其制备方法
US6121709A (en) Rotor assembly having bonded lamination stack
CN109227233A (zh) 声电耦合磁力研磨非导磁金属管内表面的装置及方法
CN112553558A (zh) 轴承表面绝缘涂层的制备方法
CN103556099A (zh) 一种滚动轴承表面电绝缘层加工方法
Ma et al. Electrolytic in-process dressing grinding of ceramic balls
CN109637863A (zh) 一种电触头的表面处理方法
CN208841052U (zh) 一种磁流变抛光设备
CN112719776A (zh) 一种转子轴颈刷镀镍后表面加工修复方法
CN208949378U (zh) 防止轴电流产生的热喷涂绝缘涂层
CN101373651A (zh) 湿法喷砂式钕铁硼永磁材料的表面前处理方法
CN111978863A (zh) 一种超疏油有机涂层及其制备方法
JP2004002911A (ja) 希土類磁石の表面処理方法
CN110511680B (zh) 用于铅化学机械抛光的粗抛抛光液及抗氧化工艺
CN110517842A (zh) 电磁耦合装置及具有其的抛光装置、电磁流变性能测量装置
JP4471197B2 (ja) 加工圧制御が不要な研磨方法
CN113851318A (zh) 一种高性能粘接磁钢组件的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant