CN112192032A - 一种高速激光均匀雕刻的方法 - Google Patents
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Abstract
一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:步骤1,确认雕刻路径;步骤2,正向激光雕刻;步骤3,反向激光雕刻;步骤4,雕刻完成,激光雕刻装置从下一条雕刻路径的首端开始,按照步骤2和步骤3中的正向激光雕刻和反向激光雕刻的激光雕刻方式,依次激光雕刻其余的雕刻路径,直至雕刻区域内所有的雕刻路径全部激光雕刻完成。在该激光雕刻的方法中,通过激光雕刻装置在雕刻路径上的匀速激光雕刻,使得激光雕刻过程中速度均匀,雕刻得线条均匀,使得激光雕刻效果更好。避免了现有技术的在雕刻过程中因速度不均匀所产生的雕刻效果差的问题。
Description
技术领域
本发明属于激光雕刻区域,特别涉及到了一种高速激光均匀雕刻的方法。
背景技术
伴随工业自动化水平的不断提高,传统雕刻工艺技术已经不能满足工业生产需求,新型的雕刻方法亟待提出。20世纪70年代初,激光开始被引入到工业制造领域,用于简单的平板印刷,到90年代初,国内成功利用激光在一般非金属材料上进行雕刻,并且研制出大功率激光切割器。与传统雕刻技术相比,激光雕刻的工作速度快,准确度高,污染程度小,更适合大规模的工业生产。受自身特性的影响,激光雕刻通常适合在陶瓷、木制品以及亚克力等非金属材料上进行工艺操作,同时广泛应用于广告装饰、模型制作和印刷包装等行业。由于我国加工产业正向创新方向转变,激光雕刻具有良好的发展前景,因此在市场经济指导下激光技术的改进应用呈现迅猛发展的趋势。
激光加工是指将激光束反射在物体表面而使其快速发生形变,以达到生产加工的目的。根据激光束对物体形状和性能改变的方式不同,将激光加工分为热加工和光化学反应加工两种方法。激光的热加工是将激光本身的热量传递到工件表面,通过高温使表面迅速发生外观上的改变,主要适用于金属焊接、表面改性、表面合金等。激光的光化学反应加工是利用激光束内的高能光子聚集在工件表面激发光化学反应,从而实现复杂程度加工,主要适用于光沉积效应、激光刻蚀和高温氧化等。
但是现有的激光雕刻方法,存在激光控制不均匀的情况和雕刻速度不均匀的情况。传统的激光雕刻一般采用如下雕刻方式,单向雕刻方式,双向来回雕刻方式,每次雕刻都会存在加减速过程,每次速度都会降到0,再启动加速,频繁的加减速对于雕刻效果是致命的,且不利于激光能量的均匀控制。
发明内容
为了解决上述问题,本发明的首要目的在于提供一种高速激光均匀雕刻的方法,该方法可使得激光雕刻过程中速度均匀,雕刻得线条均匀,使得激光雕刻效果更好。
本发明的另一个目的在于提供一种高速激光均匀雕刻的方法,该方法在进行激光雕刻的时候可以保持着一定的速率,避免频繁的加减速,降低功耗,节能环保,同时还可以延长激光雕刻结构的使用寿命。
为了实现上述目的,本发明的技术方案如下。
一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:
步骤1,确认雕刻路径,准备有雕刻载体,在载体上确认雕刻区域,并在雕刻区域内设置有复数条雕刻路径;
步骤2,正向激光雕刻,采用激光雕刻装置沿一条雕刻路径首端开始,进行匀速的激光雕刻至该雕刻路径尾端,激光雕刻装置至该雕刻路径的尾端的时候在载体的雕刻区域外继续运动至另一条雕刻路径的尾端;
步骤3,反向激光雕刻,激光雕刻装置沿另一条雕刻路径的尾端开始,进行匀速的激光雕刻至该雕刻路径首端,激光雕刻装置至该雕刻路径的首端的时候在载体的雕刻区域外继续运动至下一条雕刻路径的首端;
步骤4,雕刻完成,激光雕刻装置从下一条雕刻路径的首端开始,按照步骤2和步骤3中的正向激光雕刻和反向激光雕刻的激光雕刻方式,依次激光雕刻其余的雕刻路径,直至雕刻区域内所有的雕刻路径全部激光雕刻完成。具体的,复数条雕刻路径的雕刻过程,是通过正向激光雕刻和反向激光雕刻交替进行的,进而将所有的雕刻路径全部激光雕刻完成;而在步骤4中具体所指的是,至下一条雕刻路径的时候重新开始按照正向激光雕刻和反向激光雕刻交替进行的,也就是从下一条雕刻路径首端开始,包括下一条雕刻路径在内的剩余的雕刻路径的雕刻方式依次为正向激光雕刻、反向激光雕刻、正向激光雕刻、反向激光雕刻……,一直循环至雕刻完成。这里所说的正向激光雕刻和反向激光雕刻的雕刻方式即分别为步骤2和步骤3中的说描述的激光雕刻方式。激光雕刻装置为现有技术,为能够实现激光雕刻的装置。
在该激光雕刻的方法中,通过激光雕刻装置在雕刻路径上的匀速激光雕刻,使得激光雕刻过程中速度均匀,雕刻得线条均匀,使得激光雕刻效果更好。避免了现有技术的在雕刻过程中因速度不均匀所产生的雕刻效果差的问题。
进一步的,在步骤2中,激光雕刻装置至该雕刻路径的尾端的时候在载体的雕刻区域外做弧形运动至另一条雕刻路径的尾端。
进一步的,激光雕刻装置在载体的雕刻区域外做弧形运动时,为匀速运动。
进一步的,在步骤3中,激光雕刻装置至该雕刻路径的首端的时候在载体的雕刻区域外做弧形运动至下一条雕刻路径的首端。
进一步的,激光雕刻装置在载体的雕刻区域外做弧形运动时,为匀速运动。
进一步的,激光雕刻装置在雕刻复数条雕刻路径时,激光雕刻装置的整个运动过程为匀速运动。因为正向激光雕刻过程中和反向激光雕刻过程中,激光雕刻装置的雕刻过程为匀速运动(弧形轨迹的运动),而激光雕刻装置在雕刻区域外所做的运动为匀速的弧形轨迹的运动,可知道激光雕刻装置在整个雕刻过程速度为匀速的,且在整个雕刻过程中不需要进行多次停止和启动。可实现避免频繁的加减速,降低功耗,节能环保,同时还可以延长激光雕刻结构的使用寿命。
进一步的,在步骤1中,雕刻区域均分为上雕刻区域和下雕刻区域,复数条雕刻路径平均分布在上雕刻区域和下雕刻区域内;且所述雕刻区域在进行激光雕刻时,采用激光雕刻装置交替雕刻上雕刻区域内的雕刻路径和下雕刻区域的雕刻路径。该上雕刻区域和下雕刻区域的设置,以及交替雕刻上雕刻区域内的雕刻路径和下雕刻区域的雕刻路径的方法,使得激光雕刻装置在载体的雕刻区域外所做的运动的轨迹更好调控。交替雕刻上雕刻区域内的雕刻路径和下雕刻区域的雕刻路径的意思即为,按照上雕刻区域内的雕刻路径、下雕刻区域的雕刻路径、上雕刻区域内的雕刻路径、下雕刻区域的雕刻路径……的激光雕刻顺序进行雕刻。
进一步的,所述上雕刻区域的雕刻路径进行激光雕刻时,其顺序为由上至下依次雕刻;所述下雕刻区域的雕刻路径进行激光雕刻时,其顺序为由上至下依次雕刻。上述意思为:按照上雕刻区域内的第一条雕刻路径、下雕刻区域的第一条雕刻路径、上雕刻区域内的第二条雕刻路径、下雕刻区域的第二条雕刻路径……的激光雕刻顺序进行雕刻。
本发明的有益效果在于,与现有技术相比,在本发明中,在该激光雕刻的方法中,通过激光雕刻装置在雕刻路径上的匀速激光雕刻,使得激光雕刻过程中速度均匀,雕刻得线条均匀,使得激光雕刻效果更好。避免了现有技术的在雕刻过程中因速度不均匀所产生的雕刻效果差的问题。
附图说明
图1是本发明的激光雕刻装置在雕刻载体上的激光雕刻雕刻路径时的移动路径的示意图。
图2是现有技术的激光雕刻装置在雕刻载体上的激光雕刻雕刻路径时的移动路径的示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
为了实现上述目的,本发明的技术方案如下。
一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:
步骤1,确认雕刻路径,准备有雕刻载体,在载体上确认雕刻区域,并在雕刻区域内设置有复数条雕刻路径;
步骤2,正向激光雕刻,采用激光雕刻装置沿一条雕刻路径首端开始,进行匀速的激光雕刻至该雕刻路径尾端,激光雕刻装置至该雕刻路径的尾端的时候在载体的雕刻区域外继续运动至另一条雕刻路径的尾端;
步骤3,反向激光雕刻,激光雕刻装置沿另一条雕刻路径的尾端开始,进行匀速的激光雕刻至该雕刻路径首端,激光雕刻装置至该雕刻路径的首端的时候在载体的雕刻区域外继续运动至下一条雕刻路径的首端;
步骤4,雕刻完成,激光雕刻装置从下一条雕刻路径的首端开始,按照步骤2和步骤3中的正向激光雕刻和反向激光雕刻的激光雕刻方式,依次激光雕刻其余的雕刻路径,直至雕刻区域内所有的雕刻路径全部激光雕刻完成。
进一步的,在步骤2中,激光雕刻装置至该雕刻路径的尾端的时候在载体的雕刻区域外做弧形运动至另一条雕刻路径的尾端。
进一步的,激光雕刻装置在载体的雕刻区域外做弧形运动时,为匀速运动。
进一步的,在步骤3中,激光雕刻装置至该雕刻路径的首端的时候在载体的雕刻区域外做弧形运动至下一条雕刻路径的首端。
进一步的,激光雕刻装置在载体的雕刻区域外做弧形运动时,为匀速运动。
进一步的,激光雕刻装置在雕刻复数条雕刻路径时,激光雕刻装置的整个运动过程为匀速运动。
进一步的,在步骤1中,雕刻区域均分为上雕刻区域和下雕刻区域,复数条雕刻路径平均分布在上雕刻区域和下雕刻区域内;且所述雕刻区域在进行激光雕刻时,采用激光雕刻装置交替雕刻上雕刻区域内的雕刻路径和下雕刻区域的雕刻路径。
进一步的,所述上雕刻区域的雕刻路径进行激光雕刻时,其顺序为由上至下依次雕刻;所述下雕刻区域的雕刻路径进行激光雕刻时,其顺序为由上至下依次雕刻。
在说明书附图1中,激光雕刻是依次经过图中标号为1、2、3、4的路段。其中A为示意上雕刻区域和下雕刻区域分界的分界线。
本发明的有益效果在于,与现有技术相比,在本发明中,在该激光雕刻的方法中,通过激光雕刻装置在雕刻路径上的匀速激光雕刻,使得激光雕刻过程中速度均匀,雕刻得线条均匀,使得激光雕刻效果更好。避免了现有技术的在雕刻过程中因速度不均匀所产生的雕刻效果差的问题。
以上仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:
步骤1,确认雕刻路径,准备有雕刻载体,在载体上确认雕刻区域,并在雕刻区域内设置有复数条雕刻路径;
步骤2,正向激光雕刻,采用激光雕刻装置沿一条雕刻路径首端开始,进行匀速的激光雕刻至该雕刻路径尾端,激光雕刻装置至该雕刻路径的尾端的时候在载体的雕刻区域外继续运动至另一条雕刻路径的尾端;
步骤3,反向激光雕刻,激光雕刻装置沿另一条雕刻路径的尾端开始,进行匀速的激光雕刻至该雕刻路径首端,激光雕刻装置至该雕刻路径的首端的时候在载体的雕刻区域外继续运动至下一条雕刻路径的首端;
步骤4,雕刻完成,激光雕刻装置从下一条雕刻路径的首端开始,按照步骤2和步骤3中的正向激光雕刻和反向激光雕刻的激光雕刻方式,依次激光雕刻其余的雕刻路径,直至雕刻区域内所有的雕刻路径全部激光雕刻完成。
2.根据权利要求1所述的一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,在步骤2中,激光雕刻装置至该雕刻路径的尾端的时候在载体的雕刻区域外做弧形运动至另一条雕刻路径的尾端。
3.根据权利要求2所述的一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,激光雕刻装置在载体的雕刻区域外做弧形运动时,为匀速运动。
4.根据权利要求3所述的一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,在步骤3中,激光雕刻装置至该雕刻路径的首端的时候在载体的雕刻区域外做弧形运动至下一条雕刻路径的首端。
5.根据权利要求4所述的一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,激光雕刻装置在载体的雕刻区域外做弧形运动时,为匀速运动。
6.根据权利要求1所述的一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,在步骤1中,雕刻区域均分为上雕刻区域和下雕刻区域,复数条雕刻路径平均分布在上雕刻区域和下雕刻区域内;且所述雕刻区域在进行激光雕刻时,采用激光雕刻装置交替雕刻上雕刻区域内的雕刻路径和下雕刻区域的雕刻路径。
7.根据权利要求6所述的一种高速激光均匀雕刻的方法,其特征在于,所述上雕刻区域的雕刻路径进行激光雕刻时,其顺序为由上至下依次雕刻;所述下雕刻区域的雕刻路径进行激光雕刻时,其顺序为由上至下依次雕刻。
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