CN112176310A - 一种便于清理的半导体镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种便于清理的半导体镀膜设备，属于半导体镀膜技术领域，包括设备主体，设备主体的外侧设置有保护罩，保护罩内部的底端活动连接有灰尘收集组件，保护罩内部两侧的中间位置处皆设置有固定杆，两组固定杆相邻的一侧皆活动连接有支撑组件，保护罩内部的顶端安装有第一电磁滑轨。本发明通过电机带动刷毛对固定杆和支撑组件进行清扫，同时刷毛能在保护罩的内部进行前后左右移动，实现对灰尘和碎屑的清扫并滑落至收集板，保证支撑杆表面的干净度，从而不需要人工即可实现对其的清理，降低了工作的难度，提高了镀膜的效率。并可对支撑杆和对支撑杆之间的间距进行调整，使半导体镀膜设备对半导体的支撑范围更为广泛，提高了使用率。
Description
技术领域
本发明涉及半导体镀膜技术领域，具体为一种便于清理的半导体镀膜设备。
背景技术
半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，且半导体在镀膜时，一般采用真空镀膜，从而出现相应的半导体镀膜设备。
然而现有的半导体在镀膜后，在半导体镀膜设备的表面会沾染部分灰尘和镀膜后产生的碎屑，从而使其在进行下次使用时，需要人工对其进行清理，在一定程度上增加了工作的难度，降低了镀膜的效率，且现有的半导体镀膜设备在对半导体进行支撑时，支撑位置处的空间大小很难根据半导体的大小进行调整，从而使半导体镀膜设备对半导体的支撑范围较为狭窄，在一定程度降低了使用率。
发明内容
本发明的目的在于：为了解决现有的半导体在镀膜后，在半导体镀膜设备的表面会沾染部分灰尘和镀膜后产生的碎屑，从而使其在进行下次使用时，需要人工对其进行清理，在一定程度上增加了工作的难度，降低了镀膜的效率，且现有的半导体镀膜设备在对半导体进行支撑时，支撑位置处的空间大小很难根据半导体的大小进行调整，从而使半导体镀膜设备对半导体的支撑范围较为狭窄，在一定程度降低了使用率的问题，提供一种便于清理的半导体镀膜设备。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种便于清理的半导体镀膜设备，包括设备主体，所述设备主体的外侧设置有保护罩，所述保护罩内部的底端活动连接有灰尘收集组件，所述保护罩内部两侧的中间位置处皆设置有固定杆，两组所述固定杆相邻的一侧皆活动连接有支撑组件，所述保护罩内部的顶端安装有第一电磁滑轨，所述第一电磁滑轨的底部滑动安装有第二电磁滑轨，所述第二电磁滑轨的底部活动安装有电机，所述电机的输出端安装有电动推杆，所述电动推杆的输出端设置有刷毛。
优选地，所述灰尘收集组件包括收集板，所述收集板的两侧皆设置有滑条，所述收集板的底部均匀设置有多组活动槽，所述活动槽的内部皆转动连接有滚球，所述活动槽的底部皆设置有缺口，且缺口的内直径大于滚球的外直径，所述收集板的顶部铺设有吸附棉。
优选地，两组所述支撑组件皆包括支撑板，所述支撑板靠近固定杆的一侧皆设置有滑杆，所述支撑板的顶部皆设置有铁条，所述支撑板的顶部均匀设置有多组支撑杆，所述支撑杆的底部均匀设置有多组软垫，每两组所述软垫相邻的一侧皆设置有与铁条相匹配的磁条。
优选地，两组所述固定杆相邻的一侧皆设置有与滑杆相匹配的固定槽，所述支撑板皆通过固定槽和滑杆的相互配合与固定杆滑动连接。
优选地，所述支撑杆皆通过磁条和铁条的相互配合与支撑板的顶部磁性连接，所述磁条的高度是软垫高度的三分之二。
优选地，所述第二电磁滑轨的顶部设置有与第一电磁滑轨相匹配的第一滑块，所述电机的顶部设置有与第二电磁滑轨相匹配的第二滑块。
优选地，所述保护罩内部底端的两侧皆设置有与滑条相匹配的滑槽，所述收集板通过滑条和滑槽的相互配合与保护罩滑动连接。
优选地，所述收集板顶部的两侧皆设置有斜面，两组所述斜面远离滑条的一侧皆向下倾斜，且斜面向下倾斜的角度为100°。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、本发明通过设置的第一电磁滑轨、第二电磁滑轨、第一滑块、第二滑块、电机、第二滑块、电动推杆和刷毛，从而使电机在电力作用下使其的输出端带动电动推杆转动，并带动刷毛对固定杆和支撑组件的表面进行清扫，同时在第一电磁滑轨和第二电磁滑轨的作用下使刷毛在保护罩的内部进行前后左右移动，实现对灰尘和碎屑的清扫，从而使灰尘和碎屑在清扫的作用下滑落至收集板的顶部，从而更好的保证了支撑杆表面的干净度，从而不需要人工即可实现对其的清理，在一定程度上降低了工作的难度，提高了镀膜的效率；
2、本发明通过设置的支撑板、滑杆、铁条、支撑杆、软垫和磁条，从而在需要安装支撑杆时，将支撑杆底部的磁条与支撑板顶部的铁条接触，从而使支撑杆在磁条和铁条的相互配合与支撑板磁性连接，从而可根据实际情况安装相应数量的支撑杆和对支撑杆之间的间距进行调整，从而使半导体镀膜设备对半导体的支撑范围更为广泛，在一定程度提高了使用率。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为本发明的局部立体图；
图3为本发明的局部结构示意图；
图4为本发明支撑板的结构示意图；
图5为图1中A处的放大图；
图6为图1中B处的放大图。
图中：1、设备主体；2、保护罩；3、灰尘收集组件；301、收集板；302、吸附棉；303、滑条；304、滑槽；305、活动槽；306、滚球；4、固定杆；5、支撑组件；501、支撑板；502、滑杆；503、铁条；504、支撑杆；505、软垫；506、磁条；6、固定槽；7、第一电磁滑轨；8、第一滑块；9、第二电磁滑轨；10、电机；11、第二滑块；12、电动推杆；13、刷毛。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。下面根据本发明的整体结构，对其实施例进行说明。
本发明中提到的电机(型号为90YYJJ)、第一电磁滑轨和第二电磁滑轨(型号为ECP-RN-SI-104W-09ZH-1600L-5B)和电动推杆(型号为GRA-LSO)均可在市场或者私人订购所得。
请参阅图1-6，一种便于清理的半导体镀膜设备，包括设备主体1，设备主体1的外侧设置有保护罩2，保护罩2内部的底端活动连接有灰尘收集组件3，保护罩2内部两侧的中间位置处皆设置有固定杆4，两组固定杆4相邻的一侧皆活动连接有支撑组件5，保护罩2内部的顶端安装有第一电磁滑轨7，第一电磁滑轨7的底部滑动安装有第二电磁滑轨9，第二电磁滑轨9的底部活动安装有电机10，电机10的输出端安装有电动推杆12，电动推杆12的输出端设置有刷毛13。
本发明通过设置的支撑板501、滑杆502、铁条503、支撑杆504、软垫505和磁条506，从而在需要安装支撑杆504时，将支撑杆504底部的磁条506与支撑板501顶部的铁条503接触，从而使支撑杆504在磁条506和铁条503的相互配合与支撑板501磁性连接，从而可根据实际情况安装相应数量的支撑杆504和对支撑杆504之间的间距进行调整，从而使半导体镀膜设备对半导体的支撑范围更为广泛，在一定程度提高了使用率。
请着重参阅图1、2和5，灰尘收集组件3包括收集板301，收集板301的两侧皆设置有滑条303，收集板301的底部均匀设置有多组活动槽305，活动槽305的内部皆转动连接有滚球306，活动槽305的底部皆设置有缺口，且缺口的内直径大于滚球306的外直径，收集板301的顶部铺设有吸附棉302，且通过设置的活动槽305和滚球306，从而使收集板301的底部与保护罩2之间的接触面积更少，从而使收集板301的滑动更为省力，从而减小了摩擦力对收集板301的影响，提高了收集板301的使用寿命。
请着重参阅图1、3、4和6，两组支撑组件5皆包括支撑板501，支撑板501靠近固定杆4的一侧皆设置有滑杆502，支撑板501的顶部皆设置有铁条503，支撑板501的顶部均匀设置有多组支撑杆504，支撑杆504的底部均匀设置有多组软垫505，每两组软垫505相邻的一侧皆设置有与铁条503相匹配的磁条506，两组固定杆4相邻的一侧皆设置有与滑杆502相匹配的固定槽6，支撑板501皆通过固定槽6和滑杆502的相互配合与固定杆4滑动连接，且通过设置的滑杆502使支撑板501与固定杆4之间的安装更为简单，从而使其的滑动更为省力，便于后期对其进行拆卸和安装，从而便于更换，提高了使用率，且通过设置的软垫505，从而使支撑杆504与支撑板501之间进行磁性吸附时，支撑杆504对软垫505产生向下的挤压力，从而使软垫505在挤压过程中变形，并产生弹性势能，从而实现对支撑杆504的缓冲，同时减小了磁性吸附的力度，便于后期将支撑杆504从支撑板501的顶部拆除，从而提高了使用率。
请着重参阅图1、3和6，支撑杆504皆通过磁条506和铁条503的相互配合与支撑板501的顶部磁性连接，磁条506的高度是软垫505高度的三分之二，第二电磁滑轨9的顶部设置有与第一电磁滑轨7相匹配的第一滑块8，电机10的顶部设置有与第二电磁滑轨9相匹配的第二滑块11，且通过磁条506和铁条503的相互配合，使支撑杆504与支撑板501的顶部磁性连接，从而使支撑杆504与支撑板501之间的拆卸和安装更为简单，降低了工作的难度，提高了工作效率，且通过使磁条506的高度是软垫505高度的三分之二，从而使软垫505的对磁条506与铁条503之间的缓冲效果更好，提高了使用率。
请着重参阅图1、2和5，保护罩2内部底端的两侧皆设置有与滑条303相匹配的滑槽304，收集板301通过滑条303和滑槽304的相互配合与保护罩2滑动连接，收集板301顶部的两侧皆设置有斜面，两组斜面远离滑条303的一侧皆向下倾斜，且斜面向下倾斜的角度为100°，且通过滑条303和滑槽304的相互配合，使收集板301与保护罩2滑动连接，从而使收集板301的拆卸和安装更为简单，便于后期对收集板301顶部的吸附棉302进行更换，从而实现对其顶部收集的灰尘和碎屑进行清理，提高了使用率，且通过设置的斜面使灰尘和碎屑的滑落更为简单。
工作原理：使用时，先将吸附棉302均匀铺设在收集板301的顶部，然后将收集板301上的滑条303与保护罩2内部的滑槽304接触，并沿着滑槽304将收集板301安装在保护罩2内部的底端位置处，然后将支撑板501上的滑杆502与固定杆4上的固定槽6接触，并沿着固定槽6将支撑板501滑入保护罩2的内部，从而实现对支撑板501的安装，然后将支撑杆504底部的磁条506与支撑板501顶部的铁条503接触，从而使支撑杆504在磁条506和铁条503的相互配合与支撑板501磁性连接，从而可根据实际情况安装相应数量的支撑杆504和对支撑杆504之间的间距进行调整，从而使半导体镀膜设备对半导体的支撑范围更为广泛，在一定程度提高了使用率，然后接通电源，第一电磁滑轨7和第二电磁滑轨9在电力作用下产生环绕型磁场，且电机10在电力作用下使其的输出端带动电动推杆12转动，并带动刷毛13对固定杆4和支撑组件5的表面进行清扫，同时在第一电磁滑轨7和第二电磁滑轨9的作用下使刷毛13在保护罩2的内部进行前后左右移动，同时延长或缩短电动推杆12输出端的长度，从而实现对灰尘和碎屑的清扫，并使清扫下的灰尘和碎屑在清扫的作用下滑落至收集板301的顶部，从而更好的保证了支撑杆504表面的干净度，从而不需要人工即可实现对其的清理，在一定程度上降低了工作的难度，提高了镀膜的效率。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及利要求而不是上的权利要求。
Claims (8)
1.一种便于清理的半导体镀膜设备，包括设备主体，其特征在于：所述设备主体的外侧设置有保护罩，所述保护罩内部的底端活动连接有灰尘收集组件，所述保护罩内部两侧的中间位置处皆设置有固定杆，两组所述固定杆相邻的一侧皆活动连接有支撑组件，所述保护罩内部的顶端安装有第一电磁滑轨，所述第一电磁滑轨的底部滑动安装有第二电磁滑轨，所述第二电磁滑轨的底部活动安装有电机，所述电机的输出端安装有电动推杆，所述电动推杆的输出端设置有刷毛。
2.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述灰尘收集组件包括收集板，所述收集板的两侧皆设置有滑条，所述收集板的底部均匀设置有多组活动槽，所述活动槽的内部皆转动连接有滚球，所述活动槽的底部皆设置有缺口，且缺口的内直径大于滚球的外直径，所述收集板的顶部铺设有吸附棉。
3.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：两组所述支撑组件皆包括支撑板，所述支撑板靠近固定杆的一侧皆设置有滑杆，所述支撑板的顶部皆设置有铁条，所述支撑板的顶部均匀设置有多组支撑杆，所述支撑杆的底部均匀设置有多组软垫，每两组所述软垫相邻的一侧皆设置有与铁条相匹配的磁条。
4.根据权利要求3所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：两组所述固定杆相邻的一侧皆设置有与滑杆相匹配的固定槽，所述支撑板皆通过固定槽和滑杆的相互配合与固定杆滑动连接。
5.根据权利要求3所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述支撑杆皆通过磁条和铁条的相互配合与支撑板的顶部磁性连接，所述磁条的高度是软垫高度的三分之二。
6.根据权利要求1所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述第二电磁滑轨的顶部设置有与第一电磁滑轨相匹配的第一滑块，所述电机的顶部设置有与第二电磁滑轨相匹配的第二滑块。
7.根据权利要求2所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述保护罩内部底端的两侧皆设置有与滑条相匹配的滑槽，所述收集板通过滑条和滑槽的相互配合与保护罩滑动连接。
8.根据权利要求2所述的一种便于清理的半导体镀膜设备，其特征在于：所述收集板顶部的两侧皆设置有斜面，两组所述斜面远离滑条的一侧皆向下倾斜，且斜面向下倾斜的角度为100°。
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