CN112074071A - 一种多路微波源的大功率等离子体发生装置 - Google Patents

一种多路微波源的大功率等离子体发生装置 Download PDF

Info

Publication number
CN112074071A
CN112074071A CN202011067178.XA CN202011067178A CN112074071A CN 112074071 A CN112074071 A CN 112074071A CN 202011067178 A CN202011067178 A CN 202011067178A CN 112074071 A CN112074071 A CN 112074071A
Authority
CN
China
Prior art keywords
microwave
cavity
generating device
quartz tube
plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202011067178.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN112074071B (zh
Inventor
朱铧丞
杨阳
黄卡玛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sichuan University
Original Assignee
Sichuan University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sichuan University filed Critical Sichuan University
Priority to CN202011067178.XA priority Critical patent/CN112074071B/zh
Publication of CN112074071A publication Critical patent/CN112074071A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112074071B publication Critical patent/CN112074071B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F30/00Computer-aided design [CAD]
    • G06F30/20Design optimisation, verification or simulation
    • G06F30/23Design optimisation, verification or simulation using finite element methods [FEM] or finite difference methods [FDM]
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H05H1/461Microwave discharges
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H05H1/461Microwave discharges
    • H05H1/4622Microwave discharges using waveguides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Evolutionary Computation (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

本发明涉及等离子体设备领域,是指一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,解决了现有技术中等离子体尺寸小、功率低的问题。本发明包括等离子体点火装置、微波发生装置、波导和反应腔,入气口、微波腔;所述微波腔轴心位置与反应腔轴心重合;所述微波发生装置设置于微波腔周围;所述微波发生装置不少于三个;所述微波腔为空心圆柱形的多模腔;本发明公开的一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,通过不同距离、高低错落的设置多个微波发生装置,并将电磁波均匀集中的束缚在石英管中心位置,实现大功率、大尺寸的等离子体激发;本发明结构简单、激发效率高、成本低廉,满足工业化大规模的要求;本发明可级联,实现功率的有效叠加。

Description

一种多路微波源的大功率等离子体发生装置
技术领域
本发明涉及等离子体设备领域,特别是指一种多路微波源的大功率等离子体发生装置。
背景技术
等离子体又叫做电浆,是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,尺度大于德拜长度的宏观电中性电离气体,其运动主要受电磁力支配,并表现出显著的集体行为,可用于切割、焊接、喷涂等各个领域。微波等离子体相比于其他传统的等离子体具有基底温度低、微波发生器稳定易控、微波放电高效、安全性素高、等离子体安静等优点。
近年来,微波等离子体源的研究已经引起了很多学者的关注,其应用也十分广泛,例如污染物处理、原油成分测定、化学气相沉积制备石墨烯等。
但其存在如下不足:
1.大多数微波等离子体为波导压缩或波导的方式实现等离子体,等离子体直径小,在2450MHz下仅3-4cm直径,微波作用区域短,微波作用下最多5cm;
2.微波等离子体发生器由于在单模腔下形成等离子体,等离子区域面积小,能量利用率低;
3.微波等离子体发生器由于通气量也较低,无法通过自身气流给反应腔散热,因此需要较高的外部散热能力。该装置无法实现大规模气体处理,或大规模的等离子体处理应用。
亟待出现一种可解决上述问题的新型的等离子体发生装置。
发明内容
本发明提出一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,解决了现有技术中等离子体尺寸小、功率低的问题。
本发明的技术方案是这样实现的:一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,包括等离子体点火装置、微波发生装置、波导和用于气体激发为等离子体的反应腔,用于将被处理气体通入反应腔的入气口; 还包括套设于反应腔外的微波腔;所述微波腔轴心位置与反应腔轴心重合;所述微波发生装置通过波导不同距离、高低错落地设置于微波腔周围;所述微波发生装置不少于三个;所述微波腔为空心圆柱形的多模腔;所述点火装置和入气口设置于反应腔下端。
进一步地,所述反应腔中心位置电磁波均匀集中分布;所述微波腔和波导位置通过有限元法进行仿真和优化。
进一步地,所述微波腔是用于集中微波能量的金属微波腔。
进一步地,所述反应腔为电磁损耗小、耐高温材质。
进一步地,所述反应腔为石英管,所述石英管外还套设有圆柱形金属管,所述金属管直径大于石英管直径,其高度与石英管高度一致。
优选地,所述反应腔可级联,具体的是石英管上端与另一石英管下端联接。
进一步地,所述微波发生器在石英管纵向截面位置均匀分布。
进一步地,所述微波发生装置和波导可为三组、四组、五组。
本发明公开的一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,通过不同距离、高低错落的设置多个微波发生装置,并将电磁波均匀集中的束缚在石英管中心位置,实现大功率、大尺寸的等离子体激发;本发明结构简单、激发效率高、成本低廉,满足工业化大规模的要求;本发明可级联,实现功率的有效叠加。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1:本发明的结构示意图;
图2:四路微波源的仿真示意图;
图3:三路微波源的仿真示意图;
图4:五路微波源的仿真示意图;
图5:本发明的级联示意图;
其中:41、微波腔;42、波导;43、微波发生装置;44、入气口;45、反应腔;46、圆形金属管。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1本发明的结构示意图所示,本发明公开的一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,包括等离子体点火装置、微波发生装置43、波导42和用于气体激发为等离子体的反应腔45,用于将被处理气体通入反应腔45的入气口44; 还包括套设于反应腔45外的微波腔41;所述微波腔41轴心位置与反应腔45轴心重合;所述微波发生装置43通过波导42不同距离、高低错落地设置于微波腔41周围;所述微波发生装置43不少于三个;所述微波腔41为空心圆柱形的多模腔;所述点火装置和入气口44设置于反应腔45下端。
进一步地,所述反应腔45中心位置电磁波均匀集中分布;所述微波腔41和波导42位置通过有限元法进行仿真和优化。
仿真过程:
a.定义优化过程中的变量,如四个波导42Z轴坐标及金属圆柱腔体的半径,可通过改变这些数值优化电场分布;
b.构建几何模型 :四个金属矩形BJ26波导42、金属圆柱腔体,金属管及石英管;
c.创建定义 :赋予各个域和边界实际意义;
d.添加材料 :赋予各腔体和边界不同的材料属性;
e.定义物理场: 添加四个微波源馈入端口;
f.设置参数化扫描:写入可优化变量的变化范围,经过comsol计算出所有排列组合,选出最优化电场分布时的参数值;
g.划分网格,运行分析,据电场分布图及S11数值得出最优结果。
进一步地,所述微波腔41是用于集中微波能量的金属微波腔41。进一步地,所述反应腔45为电磁损耗小、耐高温材质。进一步地,所述反应腔45为石英管,所述石英管外还套设有圆柱形金属管,所述金属管直径大于石英管直径,其高度与石英管高度一致。
优选地,所述反应腔45可级联,具体的是石英管上端与另一石英管下端联接。等离子体发生装置由多个腔体组成,矩形波导42输入微波进入微波腔41,等离子体将被约束在石英管反应腔45内,由石英管与微波腔41隔离;圆形金属管46抑制电磁波从石英管处向外辐射,防止微波能流散,形成大功率等离子体火炬,集中微波能量,亦有利于等离子体炬的稳定,多模腔结构设计可实现微波能量高效率转化为微波等离子体,且实现了此装置的级联,利用石英管相接的方式级联两个装置,实现功率的有效叠加。
进一步地,所述微波发生器在石英管纵向截面位置均匀分布。
进一步地,所述微波发生装置43和波导42可为三组、四组、五组。
四路微波源:
本发明由四个BJ26波导42、一个金属圆柱腔体、一个金属管及一个石英管组成。四个矩形波导42镶嵌在金属圆柱体壁,石英管穿过圆柱腔体中心,金属管罩于石英管外层,隔开圆柱腔体与石英管;采用基于有限元法的多物理场仿真软件COMSOL5.4进行几何建模、创建定义,赋予各个域和边界实际意义、设置材料属性、定义相关物理场及划分网格,进行仿真和数值分析。
设计四路的等离子体结构,微波由四个波导42端口以一定的功率输入,有效增大了微波功率,等离子体电子密度、电子温度和气体温度都会随着微波输入功率的增大而增大,同时加快等离子体中碰撞反应的进行,从而导致电子密度生成速度加快,同时又为气体的加热提供了更多的热源。
设置微波由四个波导42端口以一定的功率输入后,观察圆柱腔体内电场分布,通过不断改变圆柱腔体的几何尺寸和四个波导42与圆柱腔体底部的相应位置:具体的是:
当四个微波源的坐标z=0,即四个并列时,四个微波源位于微波腔41中部馈入微波,此时微波腔41内电场分布无法集中于微波腔41内的石英管中,故对四个微波源进行错落分布,实现圆心集中电场的目的。
当四个微波源中,三个微波源位于同一z平面、两个微波源位于同一z平面及无一微波源位于同一z平面的情况,分别把四个微波源的z轴坐标设为Z1、Z2、Z3、Z4,加入参数化扫描列表,给出Z坐标错落范围,经过不同的排列组合选出最优的电场分布可知,当四个微波源无一并列,有利于将电场集中于圆心处。
增大功率,再通过仿真四个微波源不同错落的距离,确定出最佳电场分布;再进一步,当固定各微波源z轴坐标不变,仿真不同金属圆柱腔体半径下的电场可知能达到的最大电场强度及最好聚焦效果。
进而不断优化电场聚焦效果,形成大功率的微波等离子体火炬,最终确定圆柱腔体半径为115mm,四个金属矩形BJ26波导42宽为84.6mm、高为43.2mm、深度距圆柱腔体最外圈距离为205mm,四个金属矩形波导42旋转90度依次分布于离圆柱腔体壁,其距顶部的距离分别为:18.4mm、33.4mm、28.4mm、23.4mm,高低交错。
三路及五路微波源:
在四路微波源的基础上,分别为三路、五路微波源的等离子体发生器的结构体,除波导42数量和位置发生改变外,装置其余部分的设计及尺寸均不变;仿真优化过程与四路微波源的等离子体发生器的步骤相同,用comsol对这三路、五路微波源的等离子体发生器进行优化仿真分析,分别确定好最佳优化参量后,得到最佳电场分布;三路微波源的等离子体发生器的最大电场为2.12*103V/m,五路微波源的等离子体发生器难以把最高电场能量聚集于圆心,而四路微波源的等离子体发生器最大电场为2.49*103V/m,且较为完美的在一定范围内集中了电场能量。
等离子体电子密度、电子温度和气体温度都会随着微波输入功率的增大而增大。微波功率的增大可以加快等离子体中碰撞反应的进行,从而导致电子密度生成速度加快,同时又为气体的加热提供了更多的热源,多路输入大大提高了反应腔45内等离子体火炬的质量。
本发明公开的一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,通过不同距离、高低错落的设置多个微波发生装置43,并将电磁波均匀集中的束缚在石英管中心位置,实现大功率、大尺寸的等离子体激发;本发明结构简单、激发效率高、成本低廉,满足工业化大规模的要求;本发明可级联,实现功率的有效叠加。
当然,在不背离本发明精神及其实质的情况下,熟悉本领域的技术人员应该可以根据本发明作出各种相应的改变和变形,但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。

Claims (8)

1.一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,包括等离子体点火装置、微波发生装置、波导和用于气体激发为等离子体的反应腔,用于将被处理气体通入反应腔的入气口;其特征在于:
还包括套设于反应腔外的微波腔;所述微波腔轴心位置与反应腔轴心重合;所述微波发生装置通过波导不同距离、高低错落地设置于微波腔周围;
所述微波发生装置不少于三个;
所述微波腔为空心圆柱形的多模腔;
所述点火装置和入气口设置于反应腔下端。
2.根据权利要求1所述的一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,其特征在于:所述反应腔中心位置电磁波均匀集中分布;所述微波腔和波导位置通过有限元法进行仿真和优化。
3.根据权利要求2所述的一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,其特征在于:所述微波腔是用于集中微波能量的金属微波腔。
4.根据权利要求3所述的一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,其特征在于:所述反应腔为电磁损耗小、耐高温材质。
5.根据权利要求4所述的一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,其特征在于:所述反应腔为石英管,所述石英管外还套设有圆柱形金属管,所述金属管直径大于石英管直径,其高度与石英管高度一致。
6.根据权利要求5所述的一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,其特征在于:所述反应腔可级联,具体的是石英管上端与另一石英管下端联接。
7.根据权利要求1—6中任意一项所述的一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,其特征在于:所述微波发生器在石英管纵向截面位置均匀分布。
8.根据权利要求7所述的一种多路微波源的大功率等离子体发生装置,其特征在于:所述微波发生装置和波导可为三组、四组、五组。
CN202011067178.XA 2020-10-05 2020-10-05 一种多路微波源的大功率等离子体发生装置 Active CN112074071B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011067178.XA CN112074071B (zh) 2020-10-05 2020-10-05 一种多路微波源的大功率等离子体发生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011067178.XA CN112074071B (zh) 2020-10-05 2020-10-05 一种多路微波源的大功率等离子体发生装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112074071A true CN112074071A (zh) 2020-12-11
CN112074071B CN112074071B (zh) 2024-06-18

Family

ID=73683969

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011067178.XA Active CN112074071B (zh) 2020-10-05 2020-10-05 一种多路微波源的大功率等离子体发生装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112074071B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112863993A (zh) * 2021-01-18 2021-05-28 四川大学 一种大处理量微波等离子体反应腔
CN112888134A (zh) * 2021-01-19 2021-06-01 成都奋羽电子科技有限公司 一种微波等离子体产生装置
CN114423139A (zh) * 2022-01-24 2022-04-29 合肥综合性国家科学中心能源研究院(安徽省能源实验室) 一种级联放大磁增强高功率微波等离子体产生装置和方法

Citations (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA855841A (en) * 1970-11-10 L. Thorpe Merle Plasma generator
WO1993019571A1 (en) * 1992-03-19 1993-09-30 Advanced Energy Industries, Inc. System for characterizing ac properties of a processing plasma
US5273609A (en) * 1990-09-12 1993-12-28 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for time-division plasma chopping in a multi-channel plasma processing equipment
WO1995027998A1 (de) * 1994-04-11 1995-10-19 Wu Jeng Ming Plasmagerät
JPH08316198A (ja) * 1995-05-16 1996-11-29 Sumitomo Metal Ind Ltd プラズマ装置
EP0867964A1 (en) * 1997-03-24 1998-09-30 Raytheon Company Electrically switched multiport microwave launcher
US5975014A (en) * 1996-07-08 1999-11-02 Asm Japan K.K. Coaxial resonant multi-port microwave applicator for an ECR plasma source
US20030000823A1 (en) * 2001-06-15 2003-01-02 Uhm Han Sup Emission control for perfluorocompound gases by microwave plasma torch
KR20040077090A (ko) * 2003-02-27 2004-09-04 엄환섭 공기 중에 살포된 화학 독가스 및 세균 제거장치
US20070030090A1 (en) * 2005-08-03 2007-02-08 Farnworth Warren M Microwave routing element, methods of routing microwaves and systems including same
CN101468789A (zh) * 2008-08-03 2009-07-01 周开根 不用常规燃料助燃的生活垃圾转化工艺、系统及设备
WO2010047970A2 (en) * 2008-10-23 2010-04-29 Lam Research Corporation Method and apparatus for removing photoresist
WO2010134760A2 (ko) * 2009-05-22 2010-11-25 트리플코어스코리아 멀티 플라즈마를 이용한 열원 집중 장치, 폐기물 처리 장치 및 방법
CN101998747A (zh) * 2009-08-19 2011-03-30 中国科学院金属研究所 一种低温等离子体装置
CN102186303A (zh) * 2011-04-29 2011-09-14 四川大学 微波功率共焦合成装置
CN102363521A (zh) * 2011-11-03 2012-02-29 吉林大学 车载在线制氢的微波低温等离子体重整器系统
JP2013149513A (ja) * 2012-01-20 2013-08-01 Ulvac Japan Ltd プラズマ処理装置
CN103367852A (zh) * 2013-06-09 2013-10-23 西北核技术研究所 一种紧凑型两路高功率容量的微波功率合成器
CN203798907U (zh) * 2014-03-31 2014-08-27 核工业西南物理研究院 一种具有自标定功能的多道宽带微波辐射计
WO2014204559A2 (en) * 2013-04-03 2014-12-24 Lockheed Martin Corporation Heating plasma for fusion power using electromagnetic waves
US9767992B1 (en) * 2017-02-09 2017-09-19 Lyten, Inc. Microwave chemical processing reactor
CN107695085A (zh) * 2017-11-06 2018-02-16 清华大学 一种微波等离子体处理塑料垃圾装置
CN111511090A (zh) * 2020-04-13 2020-08-07 北京工业大学 微波等离子体反应器
CN215301000U (zh) * 2020-10-05 2021-12-24 四川大学 一种大功率微波等离子体煤粉裂解装置
CN215301001U (zh) * 2020-10-05 2021-12-24 四川大学 一种多路微波源的大功率等离子体发生装置
CN216501452U (zh) * 2020-10-05 2022-05-13 四川大学 一种大功率微波等离子体危险固废处理装置

Patent Citations (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA855841A (en) * 1970-11-10 L. Thorpe Merle Plasma generator
US5273609A (en) * 1990-09-12 1993-12-28 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for time-division plasma chopping in a multi-channel plasma processing equipment
WO1993019571A1 (en) * 1992-03-19 1993-09-30 Advanced Energy Industries, Inc. System for characterizing ac properties of a processing plasma
WO1995027998A1 (de) * 1994-04-11 1995-10-19 Wu Jeng Ming Plasmagerät
JPH08316198A (ja) * 1995-05-16 1996-11-29 Sumitomo Metal Ind Ltd プラズマ装置
US5975014A (en) * 1996-07-08 1999-11-02 Asm Japan K.K. Coaxial resonant multi-port microwave applicator for an ECR plasma source
EP0867964A1 (en) * 1997-03-24 1998-09-30 Raytheon Company Electrically switched multiport microwave launcher
US20030000823A1 (en) * 2001-06-15 2003-01-02 Uhm Han Sup Emission control for perfluorocompound gases by microwave plasma torch
KR20040077090A (ko) * 2003-02-27 2004-09-04 엄환섭 공기 중에 살포된 화학 독가스 및 세균 제거장치
US20070030090A1 (en) * 2005-08-03 2007-02-08 Farnworth Warren M Microwave routing element, methods of routing microwaves and systems including same
CN101468789A (zh) * 2008-08-03 2009-07-01 周开根 不用常规燃料助燃的生活垃圾转化工艺、系统及设备
WO2010047970A2 (en) * 2008-10-23 2010-04-29 Lam Research Corporation Method and apparatus for removing photoresist
WO2010134760A2 (ko) * 2009-05-22 2010-11-25 트리플코어스코리아 멀티 플라즈마를 이용한 열원 집중 장치, 폐기물 처리 장치 및 방법
CN101998747A (zh) * 2009-08-19 2011-03-30 中国科学院金属研究所 一种低温等离子体装置
CN102186303A (zh) * 2011-04-29 2011-09-14 四川大学 微波功率共焦合成装置
CN102363521A (zh) * 2011-11-03 2012-02-29 吉林大学 车载在线制氢的微波低温等离子体重整器系统
JP2013149513A (ja) * 2012-01-20 2013-08-01 Ulvac Japan Ltd プラズマ処理装置
WO2014204559A2 (en) * 2013-04-03 2014-12-24 Lockheed Martin Corporation Heating plasma for fusion power using electromagnetic waves
CN103367852A (zh) * 2013-06-09 2013-10-23 西北核技术研究所 一种紧凑型两路高功率容量的微波功率合成器
CN203798907U (zh) * 2014-03-31 2014-08-27 核工业西南物理研究院 一种具有自标定功能的多道宽带微波辐射计
US9767992B1 (en) * 2017-02-09 2017-09-19 Lyten, Inc. Microwave chemical processing reactor
CN107695085A (zh) * 2017-11-06 2018-02-16 清华大学 一种微波等离子体处理塑料垃圾装置
CN111511090A (zh) * 2020-04-13 2020-08-07 北京工业大学 微波等离子体反应器
CN215301000U (zh) * 2020-10-05 2021-12-24 四川大学 一种大功率微波等离子体煤粉裂解装置
CN215301001U (zh) * 2020-10-05 2021-12-24 四川大学 一种多路微波源的大功率等离子体发生装置
CN216501452U (zh) * 2020-10-05 2022-05-13 四川大学 一种大功率微波等离子体危险固废处理装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
周蓉;杨晓庆;: "一种用于激发微波等离子体的新型矩形压缩波导仿真设计", 真空电子技术, no. 03, 25 June 2016 (2016-06-25) *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112863993A (zh) * 2021-01-18 2021-05-28 四川大学 一种大处理量微波等离子体反应腔
CN112888134A (zh) * 2021-01-19 2021-06-01 成都奋羽电子科技有限公司 一种微波等离子体产生装置
CN112888134B (zh) * 2021-01-19 2024-03-08 成都奋羽电子科技有限公司 一种微波等离子体产生装置
CN114423139A (zh) * 2022-01-24 2022-04-29 合肥综合性国家科学中心能源研究院(安徽省能源实验室) 一种级联放大磁增强高功率微波等离子体产生装置和方法
CN114423139B (zh) * 2022-01-24 2023-06-30 合肥综合性国家科学中心能源研究院(安徽省能源实验室) 一种级联放大磁增强高功率微波等离子体产生装置和方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN112074071B (zh) 2024-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112074071A (zh) 一种多路微波源的大功率等离子体发生装置
KR100871475B1 (ko) 균일한 계층화 마이크로파 플라즈마 발생을 제공하기 위한 마이크로파 플라즈마 노즐 어레이 장치, 노즐 어레이의 형상화방법 및 마이크로파 플라즈마 시스템
CN215301001U (zh) 一种多路微波源的大功率等离子体发生装置
US7078862B2 (en) Beam source and beam processing apparatus
CN104507250B (zh) 一种等离子体光子晶体的产生装置
CN107093538A (zh) 基于两段矩形光栅的史密斯‑帕赛尔电磁辐射源
CN103945627A (zh) 一种手持式大面积低温等离子体发生装置
CN104357810A (zh) 一种同轴微波等离子体沉积薄膜的设备
Rebiai et al. 2-D simulation of dual frequency capacitively coupled helium plasma, using COMSOL multiphysics
CN103826379A (zh) 非平衡等离子体产生装置及颗粒状粉末表面改性处理系统
CN215301000U (zh) 一种大功率微波等离子体煤粉裂解装置
CN216501452U (zh) 一种大功率微波等离子体危险固废处理装置
Hrebtov et al. Numerical optimization of hydrogen microwave plasma reactor for diamond film deposition
CN104934280A (zh) 一种外置式栅控冷阴极阵列电子枪
WO1998044767A1 (fr) Accelerateur haute frequence et dispositif d'implantation ionique
KR102118604B1 (ko) 라인 형태의 이온빔 방출 장치
CN109195298B (zh) 一种负氢离子的生成装置及方法
CN112383997B (zh) 一种大功率微波等离子体煤粉裂解装置
CN103118478A (zh) 一种脉冲潘宁放电大口径等离子体发生装置
CN112383997A (zh) 一种大功率微波等离子体煤粉裂解装置
CN204185556U (zh) 一种同轴微波等离子体沉积薄膜的设备
CN106954332B (zh) 一种辉光放电等离子体生成装置
US20060254521A1 (en) Electron cyclotron resonance (ecr) plasma source having a linear plasma discharge opening
Kolpakov et al. Formation of an out-of-electrode plasma in a high-voltage gas discharge
CN205319119U (zh) 一种磁绝缘线振荡器

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant