CN112072001B - 显示基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种显示基板及显示装置，涉及显示技术领域，可以解决显示装置经紫外光照射后寿命下降的问题，该显示基板包括衬底、多个发光器件、像素界定层以及吸附层；所述多个发光器件设置于所述衬底上；所述发光器件包括有机发光层；所述像素界定层设置于所述衬底上；所述像素界定层包括多个开口部以及多个相连接的第一挡墙；一个所述第一挡墙绕一个所述开口部一周设置；一个所述开口部用于容纳一个所述发光器件的有机发光层；所述吸附层与所述第一挡墙相接触；所述吸附层用于吸附固化后的所述第一挡墙在紫外光照射下释放的气体。

Description

显示基板及显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及显示装置。

背景技术

有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode Display，简称OLED)显示装置由于具有自发光、低功耗、宽视角、响应速度快以及高对比度等优点，因而广泛应用于手机、电视、笔记本电脑等智能产品中。此外，OLED显示装置由于具有质量轻、厚度薄以及抗弯折性能的特点，因此成为目前国内外众多学者的研究重点。

对于OLED显示技术，信赖性问题是制约其全方面发展的关键问题之一。信赖性测试是指把OLED产品置于高温高湿或者紫外光(也可称为UV光)等恶劣环境下一段时间，然后确认产品是否还能正常使用。然而，在UV光的照射下，导致OLED产品的寿命极其低下，严重制约了OLED显示技术的发展。

发明内容

本申请的实施例提供一种显示基板及显示装置，可以解决显示装置经紫外光照射后寿命下降的问题。

为达到上述目的，本申请的实施例采用如下技术方案：

第一方面、提供一种显示基板，该显示基板包括衬底、多个发光器件、像素界定层以及吸附层；所述多个发光器件设置于所述衬底上；所述发光器件包括有机发光层；所述像素界定层设置于所述衬底上；所述像素界定层包括多个开口部以及多个相连接的第一挡墙；一个所述第一挡墙绕一个所述开口部一周设置；一个所述开口部用于容纳一个所述发光器件的有机发光层；所述吸附层与所述第一挡墙相接触；所述吸附层用于吸附固化后的所述第一挡墙在紫外光照射下释放的气体。

在一些实施例中，所述吸附层包括多个吸附块；所述第一挡墙远离所述衬底的表面以及靠近所述衬底的表面中的至少一个表面上设置有多个第一凹槽；一个所述吸附块填充于一个所述第一凹槽内。

在一些实施例中，所述吸附块远离所述衬底一侧的表面与所述第一挡墙远离所述衬底一侧的表面位于同一平面内；或者，所述吸附块靠近所述衬底一侧的表面与所述第一挡墙靠近所述衬底一侧的表面位于同一平面内。

在一些实施例中，所述吸附层位于所述第一挡墙远离所述衬底一侧的表面；所述第一挡墙远离所述衬底一侧的表面在所述衬底上的垂直投影，位于所述吸附层靠近所述衬底一侧的表面在所述衬底上的垂直投影的范围内。

在一些实施例中，所述像素界定层还包括第二挡墙；所述第二挡墙位于所述第一挡墙远离所述衬底的一侧；所述吸附层位于所述第一挡墙与所述第二挡墙之间，且与所述第二挡墙相接触；所述第一挡墙和第二挡墙材料相同。

在一些实施例中，所述像素界定层还包括第二挡墙；所述第二挡墙位于所述第一挡墙远离所述衬底的一侧；所述第二挡墙靠近所述衬底一侧的表面上设置有第二凹槽，所述吸附层填充于所述第二凹槽内，且与所述第一挡墙相接触；所述第一挡墙和第二挡墙材料相同。

在一些实施例中，构成固化后的所述第一挡墙的材料的化学式为：

所述吸附层的材料包括氧化钙、氢氧化钙、氢氧化钠或者硫酸钠中的至少一种。

第二方面、提供一种显示基板，该显示基板包括衬底、多个发光器件、以及像素界定层；所述发光器件设置于所述衬底上，所述发光器件包括有机发光层；所述像素界定层设置于所述衬底上，所述像素界定层包括多个开口部以及多个相连接的第一挡墙；一个所述第一挡墙绕一个所述开口部一周设置；一个所述开口部用于容纳一个所述发光器件的有机发光层；其中，所述第一挡墙的材料包括树脂材料以及混合于所述树脂材料中的吸附材料；所述吸附材料用于吸附固化后的所述第一挡墙在紫外光照射下释放的气体。

在一些实施例中，构成固化后的所述第一挡墙的材料的化学式为：

所述吸附材料包括氧化钙、氢氧化钙、氢氧化钠或者硫酸钠中的至少一种。

第三方面、提供一种显示装置，包括如上所述的第一方面的显示基板以及第二方面的显示基板。

本发明实施例提供一种显示基板及显示装置，在利用本发明实施例提供的显示基板时，由于显示基板还包括吸附层，吸附层与第一挡墙相接触，并且吸附层用于吸附固化后的第一挡墙在紫外光的照射下释放的气体，也就是说，吸附层可以吸附破坏有机发光层材料的二氧化硫气体，从而能够改善显示装置经紫外光照射后寿命下降的问题，提高了用户体验。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种显示面板的区域划分示意图；

图3为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的又一种显示基板的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的又一种显示基板的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种固化后的第一挡墙在紫外光的照射下发生释气现象的示意图；

图9为本发明实施例提供的一种聚酰亚胺经过化学反应后最终生成二氧化硫气体的化学式；

图10为本发明实施例提供的样品一部分被遮挡，一部分暴露于紫外灯下的示意图；

图11为本发明实施例提供的遮挡区域和未被遮挡区域的亮度随时间的变化曲线示意图；

图12a为本发明实施例提供的又一种显示基板的结构示意图；

图12b为本发明实施例提供的又一种显示基板的结构示意图；

图12c为本发明实施例提供的又一种显示基板的结构示意图；

图13为本发明实施例提供的又一种显示基板的结构示意图；

图14为本发明实施例提供的又一种显示基板的结构示意图；

图15为本发明实施例提供的再一种显示基板的结构示意图；

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

以下，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

此外，本申请中，“上”、“下”、“左”、“右”等方位术语可以包括但不限于相对附图中的部件示意置放的方位来定义的，应当理解到，这些方向性术语可以是相对的概念，它们用于相对于的描述和澄清，其可以根据附图中部件附图所放置的方位的变化而相应地发生变化。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。

本发明实施例提供一种显示装置，该显示装置为电致发光显示装置。电致发光显示装置可以是有机电致发光显示装置(Organic Light-Emitting Diode Display，简称OLED)；也可以是量子点电致发光显示装置(Quantum Dot Light Emitting DiodesDisplay，简称QLED)。

如图1所示，显示装置的主要结构包括框架1、盖板2、显示面板3、电路板4等其它配件。此处，显示面板3可以为柔性显示面板，也可以为刚性显示面板。在显示面板3为柔性显示面板的情况下，显示装置为柔性显示装置。

其中，框架1的纵截面呈U型，显示面板3、电路板4以及其它配件均设置于框架1内，电路板4置于显示面板3的下方(即背面，背离显示面板3的显示面的一面)，盖板2设置于显示面板3远离电路板4的一侧。

需要说明的是，电路板4与显示面板3电连接，电路板4一般包括柔性印刷电路板(Flexble Printed Circuit，简称FPC)、驱动芯片(Integrated Circuit，简称IC)以及印刷电路板(Printed Circuit Board，简称PCB)、接续基板等；电路板4的作用是通电后向显示面板3提供各种显示画面的信息。

本发明实施例提供一种显示面板3，可以应用于上述的显示装置中。如图2所示，显示面板3划分为显示区A1(Active Area，简称为AA区)和位于显示区A1至少一侧的周边区A2，附图2以周边区A2包围显示区A1为例进行示意，显示区A1包括多个亚像素P。周边区A2用于布线，此外，也可以将栅极驱动电路设置于周边区A2。

如图3所示，显示面板3包括显示基板31以及用于封装显示基板31的封装层32。此处，封装层32可以为封装薄膜；也可以为封装基板。在封装层32为封装薄膜的情况下，对于封装层32包括的封装薄膜的层数不进行限定，可以是封装层32包括一层封装薄膜，也可以是封装层32包括层叠设置的两层或两层以上的封装薄膜。在一些实施例中，封装层32包括依次层叠设置的三层封装薄膜。

在封装层32包括依次层叠设置的三层封装薄膜的情况下，可选的，位于中间层的封装薄膜的材料为有机材料，位于两侧的封装薄膜的材料为无机材料。

此处，对于有机材料不进行限定，有机材料例如可以为PMMA(Polymethylmethacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯)。对于无机材料不进行限定，示例的，无机材料可以为SiNx(氮化硅)、SiOx(氧化硅)或SiOxNy(氮氧化硅)中的一种或多种。

在此基础上，可以利用喷墨打印工艺(Ink Jet Printer，简称IJP)制作位于中间层的封装薄膜。此外，可以利用化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)分别制作位于两侧的封装薄膜。

本发明实施例提供一种显示基板，可以应用于上述的显示面板3中。如图4、图5以及图6所示，显示基板300包括衬底30、多个发光器件31、像素界定层32(Pixel DefinitionLayer，简称PDL)以及吸附层33。图4、图5以及图6均以显示基板300包括一个发光器件31为例进行示意。

其中，多个发光器件31设置于衬底30上，发光器件31包括有机发光层310(Emitting Layer，简称EL)。像素界定层32设置于衬底30上，像素界定层32包括多个开口部320以及多个相连接的第一挡墙321；一个第一挡墙321绕一个开口部320一周设置；一个开口部320用于容纳一个发光器件31的有机发光层310。吸附层33与第一挡墙321相接触，吸附层33用于吸附固化后的第一挡墙321在紫外光照射下释放的气体。

对于衬底30的材料不进行限定。在显示装置为刚性显示装置的情况下，衬底30为刚性衬底，刚性衬底的材料例如可以为玻璃、石英石等其它合适的材料。在显示装置为柔性显示装置的情况下，衬底30为柔性衬底，柔性衬底的材料例如可以为聚酰亚胺(Polyimide，简称PI)、PET(Polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯)或者为其它合适的材料。

对于吸附层33在显示基板300中的具体位置不进行限定，以能确保吸附层33与第一挡墙321相接触即可。在一些实施例中，如图4所示，吸附层33位于第一挡墙321远离衬底30一侧的表面。在另一些实施例中，如图5所示，吸附层33位于第一挡墙321靠近衬底30一侧的表面。在又一些实施例中，如图6所示，吸附层33位于第一挡墙321靠近开口部一侧的表面。

再次参考图4、图5以及图6所示，发光器件31还包括阳极311(Anode)和阴极312(Cathode)，阳极311和阴极312用于形成驱动有机发光层310发光的电场。

在一些实施例中，发光器件31除包括有机发光层310外，还包括电子传输层(election transporting layer，简称ETL)、电子注入层(election injection layer，简称EIL)、空穴传输层(hole transporting layer，简称HTL)以及空穴注入层(holeinjection layer，简称HIL)中的一层或多层。

在此基础上，电子注入层和电子传输层设置在阴极312和有机发光层310之间，空穴注入层和空穴传输层设置在阳极311和有机发光层310之间。

此外，可以是电子注入层、电子传输层、空穴注入层以及空穴传输层仅位于像素界定层32的开口部320内；也可以是电子注入层、电子传输层、空穴注入层以及空穴传输层不仅位于像素界定层32的开口部320内，而且覆盖像素界定层32远离衬底30的表面，即电子注入层、电子传输层、空穴注入层以及空穴传输层为一整层。

在一些实施例中，如图7所示，显示基板300还包括设置在衬底30上的多个驱动电路，一个驱动电路与阳极311电连接。驱动电路包括多个薄膜晶体管34(Thin FilmTransistor，简称TFT)，多个薄膜晶体管34中作为驱动晶体管的薄膜晶体管34的漏极与阳极311电连接。

在显示基板300还包括设置在衬底30上的多个驱动电路的情况下，显示基板300还包括设置在驱动电路和阳极311之间的平坦层35，阳极311通过平坦层35上的过孔与多个薄膜晶体管34中作为驱动晶体管的薄膜晶体管34的漏极电连接。

由于薄膜晶体管34的有源层的材料为半导体材料，而半导体材料在受到光照(例如环境光)后的性能会不稳定，导致薄膜晶体管34发生负飘，即薄膜晶体管34的阈值电压会发生变化，从而影响薄膜晶体管34的工作性能。基于此，在一些实施例中，显示基板300还包括设置在衬底30与薄膜晶体管34之间的遮光层(附图中未示意出)。薄膜晶体管34中的有源层在衬底30上的垂直投影位于遮光层在衬底上的正投影内；也就是说，遮光层覆盖了薄膜晶体管34的有源层，因此可以避免有源层免受光照的影响，从而可以提升薄膜晶体管34的稳定性，改善薄膜晶体管34的工作性能。

需要说明的是，遮光层包括多个金属图案。在一些实施例中，一个金属图案覆盖一个亚像素P内的薄膜晶体管34中的有源层。在另一些实施例中，一个金属图案覆盖一个像素(一个像素包括多个不同颜色的亚像素P，例如包括红色亚像素R、绿色亚像素G以及蓝色亚像素B)内的薄膜晶体管34中的有源层。这种情况下，为了对遮光层(多个金属图案)进行平坦化，在一些实施例中，显示基板300还包括设置在遮光层上的缓冲层36，即缓冲层36位于遮光层与多个薄膜晶体管34之间。

在一些实施例中，将衬底30、缓冲层36、平坦层35、驱动电路(多个薄膜晶体管34)、阳极311以及像素界定层32统称为背板(Back Plate，简称BP)。在完成背板的制作后，背板将进行清洗、烘烤(在N₂环境中烘干水分)、以及冷却等工艺，然后进行有机发光材料的蒸镀工艺，以形成有机发光层310。

示例性的，可以通过磁控溅射的方法在平坦层35上形成阳极311，通过涂胶的方式在平坦层35上形成像素界定层32，然后曝光显影形成多个开口部320以及多个第一挡墙321，最后再通过蒸镀工艺，将有机发光层310的材料和阴极312材料沉积在背板上。其中，像素界定层32的作用是定义像素区域。

示例性的，阳极311的材料例如可以包括依次层叠设置的ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)层、Ag(银)层以及ITO层。

基于上述，由于背板包括的像素界定层32的材料一般包括化合物A，该化合物A的化学式为：

化合物A在高温烘烤后会产生一种新的有机材料，该新的有机材料的化学式为：

也就是说，构成固化后的第一挡墙321的材料的化学式如上所示。如图8所示，该新的有机材料在紫外光的照射下会产生二氧化硫(SO₂)等气体，即发生释气(outgassing)现象。而释放出来的二氧化硫气体会破坏有机发光层310的材料，导致发光器件31的寿命下降。

如图9所示，图9为化合物A在高温条件下生成新的有机材料，该新的有机材料在紫外光的照射下产生二氧化硫气体的化学式。

这里需要说明的是，发光器件31的寿命一般指显示装置的亮度由100％降至95％所需要的时间，常用LT95表示。例如显示装置在紫外光照射后的寿命被称为UVLT(UV Lifetime)。如图10所示，目前评价显示装置UVLT的方法一般是：将样品放置于紫外灯下，样品的一部分被遮挡，一部分暴露在紫外光照下，一定时间(例如150hours)照射后，测试遮挡区域B1和未被遮挡区域B2的亮度随时间的变化曲线，也就是说，可以通过测试遮挡区域B1和未被遮挡区域B2的亮度随时间的变化曲线的结果得到遮挡区域B1和未被遮挡区域B2的发光器件31的寿命。

如图11所示，图11为遮挡区域B1和未被遮挡区域B2亮度随时间的变化曲线示意图。由图11可以明显看出，未被遮挡区域B2的显示装置的亮度由100％降至95％所需要的时间为450hours；遮挡区域B1的显示装置的亮度由100％降至95％所需要的时间为1100hours。也就是说，在经过紫外光照射以后，显示装置的LT95的寿命从1100hours降至450hours，降幅大约为60％左右，因而严重影响了用户的体验。

综上所述，在利用本发明实施例提供的显示基板300时，由于显示基板300还包括吸附层33，吸附层33与第一挡墙321相接触，并且吸附层33用于吸附固化后的第一挡墙321在紫外光的照射下释放的气体，也就是说，吸附层33可以吸附破坏有机发光层310材料的二氧化硫气体，从而能够改善显示装置经紫外光照射后寿命下降的问题，提高了用户体验。

在固化后的第一挡墙321在紫外光照射下释放的气体为二氧化硫的情况下，由于二氧化硫为酸性气体，因此可以采用碱性化合物或者中性化合物来吸附二氧化硫气体。在此基础上，吸附层33的材料例如可以包括氧化钙(CaO)、氢氧化钙(Ca(OH)₂)、氢氧化钠(NaOH)或者硫酸钠(Na₂SO₄)中的至少一种，或者还可以包括其它合适的材料，本发明实施例对此不做限定。

在一些实施例中，吸附层33的材料可以包括氧化钙、氢氧化钙、氢氧化钠或者硫酸钠中的一种。在另一些实施例中，吸附层33的材料可以包括氧化钙、氢氧化钙、氢氧化钠或者硫酸钠中的两种或两种以上的混合物。

示例性的，可以采用化学气相沉积法、或者采用溶胶凝胶法制备吸附层33。

再次参考图9所示，该新的有机材料在紫外光的照射下的产物还包括水(H₂O)。这种情况下，使吸附层33的材料包括硫酸钠，这样硫酸钠不仅可以吸附二氧化硫，还可以吸附水，从而能够进一步改善显示装置经紫外光照射后寿命下降的问题，以进一步提高用户体验。

在一些实施例中，如图12a、图12b、以及图12c所示，吸附层33包括多个吸附块330，第一挡墙321远离衬底30的表面以及靠近衬底30的表面中的至少一个表面上设置有第一凹槽3210；一个吸附块330填充于一个第一凹槽3210内。

此处，对于第一凹槽3210的纵向截面的形状不进行限定。示例性的，第一凹槽3210的纵向截面的形状可以为任意的规则形状或者不规则形状。规则形状例如可以为矩阵、正方形、梯形、半圆形等。当然，第一凹槽3210的纵向截面的形状包括但不限于上述的矩阵、正方形、梯形、半圆形等，此处不再一一列举，其它合适的形状均应在本发明实施例的保护范围内。

此外，对于第一凹槽3210的数量不进行限定，可以根据需要进行设置。由于一个吸附块330填充于一个第一凹槽3210内，因此吸附块330的数量与第一凹槽3210相等，并且吸附块330的纵向截面的形状与第一凹槽3210的纵向截面的形状相同。

需要说明的是，纵向截面为垂直于衬底30方向上的截面。

在一些实施例中，如图12a所示，第一挡墙321远离衬底30的表面上设置有第一凹槽3210。在另一些实施例中，如图12b所示，第一挡墙321靠近衬底30的表面上设置有第一凹槽3210。在又一些实施例中，如图12c所示，第一挡墙321远离衬底30的表面以及靠近衬底30的表面上均设置有第一凹槽3210。与此同时，一个吸附块330填充于一个第一凹槽3210内。

在第一挡墙321远离衬底30的表面上设置有第一凹槽3210的情况下，对于第一凹槽3210的定义为：第一挡墙321中的一部分由远离衬底30一侧的表面向靠近衬底30一侧的表面凹陷。在第一挡墙321靠近衬底30的表面上设置有第一凹槽3210的情况下，对于第一凹槽3210的定义为：第一挡墙321中的一部分由靠近衬底30一侧的表面向远离衬底30一侧的表面凹陷。

在上述实施例中，通过设置吸附层33包括多个吸附块330，并且在第一挡墙321远离衬底30的表面以及靠近衬底30的表面中的至少一个表面上设置第一凹槽3210，一个吸附块330填充于一个第一凹槽3210内，这样所形成的第一挡墙321的结构为吸附块330嵌入第一挡墙321内，因此一方面吸附块330可以吸附固化后的第一挡墙321经紫外光照射后产生的二氧化硫气体，以改善显示装置经紫外光照射后寿命下降的问题；另一方面还可以解决由于增加了吸附层33后导致显示基板300的整体厚度增加的问题。

在一些实施例中，使吸附块330远离衬底30一侧的表面与第一挡墙321远离衬底30一侧的表面位于同一平面内；或者，使吸附块330靠近衬底30一侧的表面与第一挡墙321靠近衬底30一侧的表面位于同一平面内，这样使得吸附块330可以填满整个第一凹槽3210，确保第一挡墙321的表面为一平面，有助于后续形成的膜层的平坦度。

在一些实施例中，请参见图4所示，吸附层33位于第一挡墙321远离衬底30一侧的表面；第一挡墙321远离衬底30一侧的表面在衬底30上的垂直投影，位于吸附层33靠近衬底30一侧的表面在衬底30上的垂直投影的范围内。

在一些可能的设计中，第一挡墙321远离衬底30一侧的表面在衬底30上的垂直投影的面积小于吸附层33靠近衬底30一侧的表面在衬底30上的垂直投影的面积，这种情况下，吸附层33不仅覆盖第一挡墙321远离衬底30一侧的表面，而且至少部分的覆盖第一挡墙321靠近开口部一侧的表面。

在一些可能的设计中，第一挡墙321远离衬底30一侧的表面在衬底30上的垂直投影的面积等于吸附层33靠近衬底30一侧的表面在衬底30上的垂直投影的面积，这种情况下，第一挡墙321远离衬底30一侧的表面在衬底30上的垂直投影的边界与吸附层33靠近衬底30一侧的表面在衬底30上的垂直投影的边界完全重合。

在上述的实施例中，通过将吸附层33设置在第一挡墙321远离衬底30一侧的表面；并且第一挡墙321远离衬底30一侧的表面在衬底30上的垂直投影，位于吸附层33靠近衬底30一侧的表面在衬底30上的垂直投影的范围内，也就是说，将吸附层33的面积设计的较大，这样一来，使吸附层33可以吸收更多的由固化后的第一挡墙321经紫外光照射后释放的二氧化硫气体，进一步改善显示装置经紫外光照射后寿命下降的问题，从而进一步提高用户的体验。

在一些实施例中，如图13所示，像素界定层32还包括第二挡墙322。

其中，第二挡墙322位于第一挡墙321远离衬底30的一侧，吸附层33位于第一挡墙321与第二挡墙322之间，且与第二挡墙322相接触；第一挡墙321和第二挡墙322的材料相同。

需要说明的是，吸附层33的具体结构可以参见上述实施例中的举例说明，此处不再赘述。

需要说明的是，由于第一挡墙321和第二挡墙322材料相同，因此，第二挡墙322在紫外光的照射下也会释放出二氧化硫气体。

在第二挡墙322位于第一挡墙321远离衬底30的一侧时，通过设置吸附层33位于第一挡墙321与第二挡墙322之间，并且与第二挡墙322相接触，换句话说，第一挡墙321和第二挡墙322形成封闭的膜层，将吸附层33包围住，这样在吸附层33吸附二氧化硫气体的过程中，第二挡墙322可以保护吸附层33免受损伤；此外，吸附层33还可以吸附第二挡墙322在紫外光的照射下释放出的二氧化硫气体。

在另一些实施例中，如图14所示，像素界定层32还包括第二挡墙322。

其中，第二挡墙322位于第一挡墙321远离衬底30的一侧，第二挡墙322靠近衬底30一侧的表面上设置有第二凹槽3220，吸附层33填充于第二凹槽3220内，且与第一挡墙321相接触；第一挡墙321和第二挡墙322材料相同。

在第二挡墙322靠近衬底30一侧的表面上设置第二凹槽3220的情况下，对于第二凹槽3220的定义为：第二挡墙322中的一部分由靠近衬底30一侧的表面向远离衬底30一侧的表面凹陷。

在上述实施例中，通过设置第二挡墙322位于第一挡墙321远离衬底30的一侧，使第二挡墙322靠近衬底30一侧的表面上设置有第二凹槽3220，并且使吸附层33填充于第二凹槽3220内，即吸附层33位于第一挡墙321和第二挡墙322之间，并设置吸附层33与第一挡墙321相接触，这样一来，第一挡墙321和第二挡墙322可以形成封闭膜层，将吸附层33包围住，从而在吸附层33吸附二氧化硫气体的过程中，第一挡墙321和第二挡墙322可以保护吸附层33免受损伤；此外，吸附层33还可以吸附第二挡墙322在紫外光的照射下释放出的二氧化硫气体。

本发明实施例还提供一种显示基板，可以应用于上述的显示面板3中。如图15所示，显示基板300包括衬底30，多个发光器件31以及像素界定层32。

多个发光器件31设置于衬底30上，发光器件31包括有机发光层310。像素界定层32设置于衬底30上，像素界定层32包括多个开口部320以及多个相连接的第一挡墙321；一个第一挡墙321绕一个开口部320一周设置；一个开口部320用于容纳一个发光器件31的有机发光层310。其中，第一挡墙321的材料包括树脂材料以及混合于树脂材料中的吸附材料；吸附材料用于吸附固化后的第一挡墙321在紫外光照射下释放的气体。

示例性的，树脂材料例如可以为聚酰亚胺；吸附材料例如可以包括氧化钙、氢氧化钙、氢氧化钠或者硫酸钠中的至少一种。

在一种可能的设计中，在第一挡墙321的材料包括树脂材料以及混合于树脂材料中的吸附材料时，也就是说，将吸附材料掺杂在树脂材料中，然后涂覆在衬底30上形成像素界定层32；最后经过掩膜、曝光显影、以及刻蚀工艺最终形成多个开口部320以及多个第一挡墙321。这种情况下，所形成的第一挡墙321即为掺杂吸附材料后的第一挡墙321。

由上述实施例可知，构成固化后的第一挡墙321的材料的化学式为：

在此基础上，固化后的第一挡墙321的材料在紫外光照射下释放的气体为二氧化硫气体。

需要说明的是，该实施例中的显示基板300的其它结构的设置方式以及其它结构所带来的技术效果均可以参考上述实施例，此处不再一一赘述。

此外，对于固化后的第一挡墙321在紫外光照射下释放气体的机理以及所释放的气体对影响显示装置寿命的原因可以参考上述实施例，此处不再一一赘述。

在利用本发明实施例提供的显示基板300时，通过将吸附材料掺杂在树脂材料中，使第一挡墙321的材料包括树脂材料以及混合于树脂材料中的吸附材料；并且吸附材料用于吸附固化后的第一挡墙321在紫外光照射下释放的气体，也就是说，吸附材料可以吸附掉固化后的第一挡墙321的材料在紫外光照射下释放的二氧化硫气体，因而能够改善显示装置经紫外光照射后寿命下降的问题，提高了用户体验。

以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

衬底；

多个发光器件，设置于所述衬底上；所述发光器件包括有机发光层；

像素界定层，设置于所述衬底上；所述像素界定层包括多个开口部以及多个相连接的第一挡墙；一个所述第一挡墙绕一个所述开口部一周设置；一个所述开口部用于容纳一个所述发光器件的有机发光层；

吸附层，与所述第一挡墙相接触；所述吸附层用于吸附固化后的所述第一挡墙在紫外光照射下释放的气体；

构成固化后的所述第一挡墙的材料的化学式为：

所述吸附层的材料包括氧化钙、氢氧化钙、氢氧化钠或者硫酸钠中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述吸附层包括多个吸附块；所述第一挡墙远离所述衬底的表面以及靠近所述衬底的表面中的至少一个表面上设置有多个第一凹槽；

一个所述吸附块填充于一个所述第一凹槽内。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，

所述吸附块远离所述衬底一侧的表面与所述第一挡墙远离所述衬底一侧的表面位于同一平面内；

或者，所述吸附块靠近所述衬底一侧的表面与所述第一挡墙靠近所述衬底一侧的表面位于同一平面内。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述吸附层位于所述第一挡墙远离所述衬底一侧的表面；

所述第一挡墙远离所述衬底一侧的表面在所述衬底上的垂直投影，位于所述吸附层靠近所述衬底一侧的表面在所述衬底上的垂直投影的范围内。

5.根据权利要求1-4任一项所述的显示基板，其特征在于，

所述像素界定层还包括第二挡墙；所述第二挡墙位于所述第一挡墙远离所述衬底的一侧；所述吸附层位于所述第一挡墙与所述第二挡墙之间，且与所述第二挡墙相接触；

所述第一挡墙和所述第二挡墙材料相同。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层还包括第二挡墙；所述第二挡墙位于所述第一挡墙远离所述衬底的一侧；

所述第二挡墙靠近所述衬底一侧的表面上设置有第二凹槽，所述吸附层填充于所述第二凹槽内，且与所述第一挡墙相接触；

所述第一挡墙和所述第二挡墙材料相同。

7.一种显示基板，其特征在于，包括：

衬底；

多个发光器件，设置于所述衬底上；所述发光器件包括有机发光层；

像素界定层，设置于所述衬底上；所述像素界定层包括多个开口部以及多个相连接的第一挡墙；一个所述第一挡墙绕一个所述开口部一周设置；一个所述开口部用于容纳一个所述发光器件的有机发光层；

其中，所述第一挡墙的材料包括树脂材料以及混合于所述树脂材料中的吸附材料；所述吸附材料用于吸附固化后的所述第一挡墙在紫外光照射下释放的气体；

构成固化后的所述第一挡墙的材料的化学式为：

所述吸附材料包括氧化钙、氢氧化钙、氢氧化钠或者硫酸钠中的至少一种。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的显示基板、以及权利要求7所述的显示基板。

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