CN111875021A - 一种回流加药装置及污水处理反应池 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种回流加药装置及污水处理反应池,包括污水沉淀池,污水沉淀池的底端设有底座,污水沉淀池一端的顶壁上固定安装有混合搅拌罐,混合搅拌罐靠近污水沉淀池的一端设有开口,混合搅拌罐远离污水沉淀池的一端固定安装有第一驱动电机,第一驱动电机的输出端固定安装有螺旋搅拌杆,且螺旋搅拌杆位于混合搅拌罐内,混合搅拌罐靠近第一驱动电机一端的顶壁上插设有进水管,进水管上连接有加药管。本发明中将污水和药物一同注入混合搅拌罐内,混合有的药物的污水流入污水沉淀池内后就可以开始沉淀,沉淀后的清水会从回流口排出进行收集,沉淀后的污垢可以从污水沉淀池底端的排污口排出,操作方便、快捷,实用效果好。
Description
技术领域
本发明涉及污水处理技术领域,尤其涉及一种回流加药装置及污水处理反应池。
背景技术
污水处理是为使污水达到排入某一水体或再次使用的水质要求对其进行净化的过程,污水处理被广泛应用于建筑、农业、交通、能源、石化、环保、城市景观、医疗、餐饮等各个领域,也越来越多地走进寻常百姓的日常生活。
污水处理过程中需要向污水内加药并对加药后的污水进行沉淀,目前大都是直接向污水混合池内投入药物并进行搅拌,待药物混合充分后再将混合有药物的污水注入污水沉淀池内进行沉淀,沉淀后再人工将沉淀池内的污垢排出,不仅操作麻烦,而且人工劳动强度大,因此需要对此做出改进。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中污水处理操作麻烦和人工劳动强度大的问题,而提出的一种回流加药装置及污水处理反应池。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:
一种回流加药装置及污水处理反应池,包括污水沉淀池,所述污水沉淀池的底端设有底座,所述污水沉淀池一端的顶壁上固定安装有混合搅拌罐,所述混合搅拌罐靠近污水沉淀池的一端设有开口,所述混合搅拌罐远离污水沉淀池的一端固定安装有第一驱动电机,所述第一驱动电机的输出端固定安装有螺旋搅拌杆,且螺旋搅拌杆位于混合搅拌罐内,所述混合搅拌罐靠近第一驱动电机一端的顶壁上插设有进水管,所述进水管上连接有加药管,所述污水沉淀池远离混合搅拌罐一端的顶壁上开设有回流口,所述污水沉淀池两端的底壁上均开设有排污口,所述底座上对称开设有两个通孔,且两个通孔分别位于两个排污口的下侧,两个所述排污口内均设有辅助密封装置,两个所述排污口的底端均设有密封装置,所述密封装置包括拆卸安装在排污口底端的密封底板,所述污水沉淀池的底端设有污垢清理装置。
优选地,所述污水沉淀池靠近混合搅拌罐的一端固定安装有导水板,且导水板倾斜设置,且导水板的底端位于混合搅拌罐的下侧。
优选地,所述辅助密封装置包括转动安装在排污口内的闸板,且闸板与排污口的内侧壁相互接触,所述污水沉淀池的外侧壁上固定安装有第二驱动电机,且闸板与第二驱动电机的输出端相互连接。
优选地,两个所述密封底板的底壁上均插设有多个紧固螺栓,且紧固螺栓均贯穿密封底板并螺纹连接在污水沉淀池的底壁上。
优选地,两个所述密封底板的顶壁上均固定安装有环形连接块,所述污水沉淀池的底壁上开设有与环形连接块相互配合的环形连接槽,两个所述环形连接槽的内侧壁上均固定安装有密封垫圈,且密封垫圈与环形连接块紧密接触。
优选地,所述污垢清理装置包括活动安装在污水沉淀池内的刮板,且刮板与污水沉淀池的内侧壁相互接触,所述污水沉淀池内转动安装有丝杆,所述丝杆贯穿刮板设置,且丝杆与刮板相互螺纹啮合,所述污水沉淀池内固定安装有与刮板相互配合的导向杆,且导向杆贯穿刮板设置,所述污水沉淀池的外侧壁上固定安装有伺服电机,且丝杆的一端连接在伺服电机上。
优选地,所述刮板的顶壁上固定安装有顶板,所述顶板一侧的外侧壁为斜面。
优选地,所述污水沉淀池底端的外侧壁上安装有排水管,所述排水管上安装有控制阀。
与现有技术相比,本发明有如下有益效果:
1、将污水和药物一同注入混合搅拌罐内,混合有的药物的污水流入污水沉淀池内后就可以开始沉淀,沉淀后的清水会从回流口排出进行收集,沉淀后的污垢可以从污水沉淀池底端的排污口排出,操作方便、快捷,实用效果好;
2、污水沉淀池的底端设有污垢清理装置,启动伺服电机驱动丝杆转动就可以带动刮板水平方向往复移动,从而可以方便的将沉淀在污水沉淀池内的污垢经排污口排出,无需人工进行清理,从而极大地降低了工人的劳动强度;
3、结构简单,可以方便的打开排污口或将排污口密封,从而便于将沉淀的污垢从排污口排出,操作方便、快捷,使用效果好。
附图说明
图1为本发明提出的一种回流加药装置及污水处理反应池的正面结构剖视图;
图2为本发明提出的一种回流加药装置及污水处理反应池的正面结构示意图;
图3为本发明提出的一种回流加药装置及污水处理反应池的A部分结构的放大图;
图4为本发明提出的一种回流加药装置及污水处理反应池的B部分结构的放大图。
图中:1污水沉淀池、2底座、3混合搅拌罐、4第一驱动电机、5螺旋搅拌杆、6进水管、7加药管、8回流口、9导水板、10排污口、11通孔、12闸板、13第二驱动电机、14密封底板、15紧固螺栓、16环形连接块、17环形连接槽、18密封垫圈、19刮板、20丝杆、21伺服电机、22顶板、23排水管、24控制阀。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
参照图1-4,一种回流加药装置及污水处理反应池,包括污水沉淀池1,污水沉淀池1的底端设有底座2,污水沉淀池1一端的顶壁上固定安装有混合搅拌罐3,混合搅拌罐3靠近污水沉淀池1的一端设有开口,混合搅拌罐3远离污水沉淀池1的一端固定安装有第一驱动电机4,第一驱动电机4的输出端固定安装有螺旋搅拌杆5,且螺旋搅拌杆5位于混合搅拌罐3内,混合搅拌罐3靠近第一驱动电机4一端的顶壁上插设有进水管6,进水管6上连接有加药管7,将污水和药物分别经进水管6和加药管7一同注入混合搅拌罐3内,启动第一驱动电机4驱动螺旋搅拌杆5转动,混合搅拌罐3内的污水和药物混合充分后会从混合搅拌罐3的一端排出并流入污水沉淀池1内。
污水沉淀池1远离混合搅拌罐3一端的顶壁上开设有回流口8,污水沉淀池1靠近混合搅拌罐3的一端固定安装有导水板9,且导水板9倾斜设置,且导水板9的底端位于混合搅拌罐3的下侧,可以防止污水流入污水沉淀池1内后激起较大的涟漪。
污水沉淀池1两端的底壁上均开设有排污口10,底座2上对称开设有两个通孔11,且两个通孔11分别位于两个排污口10的下侧,两个排污口10内均设有辅助密封装置,辅助密封装置包括转动安装在排污口10内的闸板12,且闸板12与排污口10的内侧壁相互接触,污水沉淀池1的外侧壁上固定安装有第二驱动电机13,且闸板12与第二驱动电机13的输出端相互连接,启动第二驱动电机13驱动闸板12转动至水平状态就可以将排污口10辅助密封,启动第二驱动电机13驱动闸板12转动至竖直状态就可以将排污口10完全打开。
两个排污口10的底端均设有密封装置,密封装置包括拆卸安装在排污口10底端的密封底板14,两个密封底板14的底壁上均插设有多个紧固螺栓15,且紧固螺栓15均贯穿密封底板14并螺纹连接在污水沉淀池1的底壁上,可以方便的对密封底板14进行安装拆卸。
两个密封底板14的顶壁上均固定安装有环形连接块16,污水沉淀池1的底壁上开设有与环形连接块16相互配合的环形连接槽17,两个环形连接槽17的内侧壁上均固定安装有密封垫圈18,且密封垫圈18与环形连接块16紧密接触,不仅便于精准的将密封底板14连接至污水沉淀池1的底端,也提升了密封底板14与污水沉淀池1连接的密封性。
污水沉淀池1的底端设有污垢清理装置,污垢清理装置包括活动安装在污水沉淀池1内的刮板19,且刮板19与污水沉淀池1的内侧壁相互接触,污水沉淀池1内转动安装有丝杆20,丝杆20贯穿刮板19设置,且丝杆20与刮板19相互螺纹啮合,污水沉淀池1内固定安装有与刮板19相互配合的导向杆,且导向杆贯穿刮板19设置,污水沉淀池1的外侧壁上固定安装有伺服电机21,且丝杆20的一端连接在伺服电机21上,启动伺服电机21驱动丝杆20周期性转动,丝杆20与刮板19相互螺纹啮合,因此丝杆20周期性转动就可以带动刮板19水平方向往复移动,从而可以方便的将沉淀在污水沉淀池1内的污垢经两端的排污口10排出,无需人工进行清理。
刮板19的顶壁上固定安装有顶板22,顶板22一侧的外侧壁为斜面,可以防止污垢大面积聚积在刮板19的顶端。
污水沉淀池1底端的外侧壁上安装有排水管23,排水管23上安装有控制阀24,在对污水沉淀池1内的污垢进行清理前可以先将污水沉淀池1内大部分的水排出并重新进行处理,从而避免水都经排污口10排出后导致水资源浪费。
本发明中,将污水和药物分别经进水管6和加药管7一同注入混合搅拌罐3内,启动第一驱动电机4驱动螺旋搅拌杆5转动,混合搅拌罐3内的污水和药物混合充分后会从混合搅拌罐3的一端排出,排出的污水与导水板9接触后会流动至污水沉淀池1内开始沉淀,沉淀后的清水会从回流口8排出进行收集,沉淀后的污垢会聚集在污水沉淀池1的底端,定期对污水沉淀池1内的污垢进行清理,清理污垢时先打开控制阀24并经排水管23将污水沉淀池1内的水排出进行收集,然后再分别将两个密封底板14从两个排污口10的底端拆出,再启动第二驱动电机13驱动闸板12转动至竖直状态,然后再启动伺服电机21驱动丝杆20周期性转动,丝杆20与刮板19相互螺纹啮合,因此丝杆20周期性转动就可以带动刮板19水平方向往复移动,从而可以方便的将沉淀在污水沉淀池1内的污垢经两端的排污口10排出,无需人工进行清理。
进一步说明,上述固定连接,除非另有明确的规定和限定,否则应做广义理解,例如,可以是焊接,也可以是胶合,或者一体成型设置等本领域技术人员熟知的惯用手段。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种回流加药装置及污水处理反应池,包括污水沉淀池(1),其特征在于:所述污水沉淀池(1)的底端设有底座(2),所述污水沉淀池(1)一端的顶壁上固定安装有混合搅拌罐(3),所述混合搅拌罐(3)靠近污水沉淀池(1)的一端设有开口,所述混合搅拌罐(3)远离污水沉淀池(1)的一端固定安装有第一驱动电机(4),所述第一驱动电机(4)的输出端固定安装有螺旋搅拌杆(5),且螺旋搅拌杆(5)位于混合搅拌罐(3)内,所述混合搅拌罐(3)靠近第一驱动电机(4)一端的顶壁上插设有进水管(6),所述进水管(6)上连接有加药管(7),所述污水沉淀池(1)远离混合搅拌罐(3)一端的顶壁上开设有回流口(8),所述污水沉淀池(1)两端的底壁上均开设有排污口(10),所述底座(2)上对称开设有两个通孔(11),且两个通孔(11)分别位于两个排污口(10)的下侧,两个所述排污口(10)内均设有辅助密封装置,两个所述排污口(10)的底端均设有密封装置,所述密封装置包括拆卸安装在排污口(10)底端的密封底板(14),所述污水沉淀池(1)的底端设有污垢清理装置。
2.根据权利要求1所述的一种回流加药装置及污水处理反应池,其特征在于:所述污水沉淀池(1)靠近混合搅拌罐(3)的一端固定安装有导水板(9),且导水板(9)倾斜设置,且导水板(9)的底端位于混合搅拌罐(3)的下侧。
3.根据权利要求1所述的一种回流加药装置及污水处理反应池,其特征在于:所述辅助密封装置包括转动安装在排污口(10)内的闸板(12),且闸板(12)与排污口(10)的内侧壁相互接触,所述污水沉淀池(1)的外侧壁上固定安装有第二驱动电机(13),且闸板(12)与第二驱动电机(13)的输出端相互连接。
4.根据权利要求1所述的一种回流加药装置及污水处理反应池,其特征在于:两个所述密封底板(14)的底壁上均插设有多个紧固螺栓(15),且紧固螺栓(15)均贯穿密封底板(14)并螺纹连接在污水沉淀池(1)的底壁上。
5.根据权利要求1所述的一种回流加药装置及污水处理反应池,其特征在于:两个所述密封底板(14)的顶壁上均固定安装有环形连接块(16),所述污水沉淀池(1)的底壁上开设有与环形连接块(16)相互配合的环形连接槽(17),两个所述环形连接槽(17)的内侧壁上均固定安装有密封垫圈(18),且密封垫圈(18)与环形连接块(16)紧密接触。
6.根据权利要求1所述的一种回流加药装置及污水处理反应池,其特征在于:所述污垢清理装置包括活动安装在污水沉淀池(1)内的刮板(19),且刮板(19)与污水沉淀池(1)的内侧壁相互接触,所述污水沉淀池(1)内转动安装有丝杆(20),所述丝杆(20)贯穿刮板(19)设置,且丝杆(20)与刮板(19)相互螺纹啮合,所述污水沉淀池(1)内固定安装有与刮板(19)相互配合的导向杆,且导向杆贯穿刮板(19)设置,所述污水沉淀池(1)的外侧壁上固定安装有伺服电机(21),且丝杆(20)的一端连接在伺服电机(21)上。
7.根据权利要求6所述的一种回流加药装置及污水处理反应池,其特征在于:所述刮板(19)的顶壁上固定安装有顶板(22),所述顶板(22)一侧的外侧壁为斜面。
8.根据权利要求1所述的一种回流加药装置及污水处理反应池,其特征在于:所述污水沉淀池(1)底端的外侧壁上安装有排水管(23),所述排水管(23)上安装有控制阀(24)。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20201103 |