CN111780871A - 光学装置 - Google Patents

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Abstract

本公开涉及一种光学装置，包括：探测器；光学组件，用于接收来自光源或目标场景的光束；改变部件，其包括具有相应的光谱透过率的多个半导体纳米晶体和对应地配置的多个能够转动的微镜，其中所述光学组件将所述光束入射至所述多个半导体纳米晶体，并且所述多个半导体纳米晶体将来自所述光学组件的光束透射至所述多个微镜；以及控制部件，用于对所述多个微镜的转动进行控制，以使得所述多个微镜将来自所述多个半导体纳米晶体的光束入射至所述探测器。由此，不仅能够更灵活地实现更多波段和/或可定制的光谱检测，而且能够降低光学装置的体积。

Description

光学装置
技术领域
本公开涉及光谱检测和光谱成像技术领域，尤其涉及一种光学装置。
背景技术
相关技术中，每种光谱检测装置通常仅能够用于检测一种特定波段，如果需要实现多波段的光谱检测，例如需要实现紫外光至红外光的多波段光谱检测，则需要购买各波段所对应的所有光谱检测装置，因此，实现多波段的光谱检测的成本高昂。
发明内容
有鉴于此，本公开提出了一种光学装置。
根据本公开的一方面，提供了一种光学装置，包括：
探测器；
光学组件，用于接收来自光源或目标场景的光束；
改变部件，其包括具有相应的光谱透过率的多个半导体纳米晶体和对应地配置的多个能够转动的微镜，其中所述光学组件将所述光束入射至所述多个半导体纳米晶体，并且所述多个半导体纳米晶体将来自所述光学组件的光束透射至所述多个微镜；以及
控制部件，用于对所述多个微镜的转动进行控制，以使得所述多个微镜将来自所述多个半导体纳米晶体的光束入射至所述探测器。
相比于通过诸如滤光片、光栅等传统的滤波分光，本公开的光学装置通过改变部件所包括的多个半导体纳米晶体来实现滤波分光，由于半导体纳米晶体能够更灵活地调整光谱范围和分辨率，因此本公开的光学装置不仅能够更灵活地实现更多波段和/或可定制的光谱检测，而且能够降低光学装置的体积。
相比于现有技术中针对每种特定波段制作对应的光学装置，如果需要对多种波段进行光谱成像和/或光谱检测，则需要分别购买与各波段相对应的多个光学装置，光谱成像和/或光谱检测所需的成本高昂。本公开的光学装置，可根据需求定制不同波段范围和/或不同精细分辨率的半导体纳米晶体，并将定制的半导体纳米晶体安装至相应的微镜上，由此，在需要对多种波段进行光谱成像和/或光谱检测并且当前的半导体纳米晶体不满足所需的波段的情况下，仅需要更换半导体纳米晶体和/或微镜以及与所需的波段相对应的探测器即可，或者，在需要对多种波段进行光谱成像和/或光谱检测并且当前的半导体纳米晶体能够满足所需的波段的情况下，仅需要更换与所需的波段相对应的探测器即可，而至少无需更换光学装置的光学组件和/或改变部件所包括的多个微镜，因此能够有效降低光谱成像和/或光谱检测的成本。
相比于通过位于光学装置外部的平移装置来实现扫描成像，由于本公开的光学装置通过位于光学装置内部的改变部件所包括的多个微镜的转动来实现扫描成像，因此不仅能够进一步降低光学装置的体积，而且能够更快速地实现扫描成像，还能够降低光谱成像的功耗。
根据下面参考附图对示例性实施例的详细说明，本公开的其它特征及方面将变得清楚。
附图说明
包含在说明书中并且构成说明书的一部分的附图与说明书一起示出了本公开的示例性实施例、特征和方面，并且用于解释本公开的原理。
图1是根据一示例性实施例示出的一种光学装置的框图。
图2是根据一示例性实施例示出的一种半导体纳米晶体与微镜布置的示意图。
图3是根据一示例性实施例示出的一种半导体纳米晶体与微镜布置的示意图。
图4是根据一示例性实施例示出的一种半导体纳米晶体与微镜布置的示意图。
图5是根据一示例性实施例示出的一种光学装置的框图。
图6是根据一示例性实施例示出的一种光学装置的框图。
具体实施方式
以下将参考附图详细说明本公开的各种示例性实施例、特征和方面。附图中相同的附图标记表示功能相同或相似的元件。尽管在附图中示出了实施例的各种方面，但是除非特别指出，不必按比例绘制附图。
在这里专用的词“示例性”意为“用作例子、实施例或说明性”。这里作为“示例性”所说明的任何实施例不必解释为优于或好于其它实施例。
另外，为了更好的说明本公开，在下文的具体实施方式中给出了众多的具体细节。本领域技术人员应当理解，没有某些具体细节，本公开同样可以实施。在一些实例中，对于本领域技术人员熟知的方法、手段、元件和电路未作详细描述，以便于凸显本公开的主旨。
图1是根据一示例性实施例示出的一种光学装置的框图。如图1所示，该光学装置100可以包括光学组件110、改变部件130、探测器150和控制部件170。
光学组件110用于接收来自光源或目标场景的光束并且将所接收到的光束入射至改变部件130。本实施例中，光学组件110采集从光源或目标场景反射的光束并且将该光束投射到改变部件130上。示例性的，光学组件110可为镜头。
改变部件130可包括具有相应的光谱透过率的多个半导体纳米晶体和对应地配置的多个能够转动的微镜，其中所述光学组件将所述光束入射至所述多个半导体纳米晶体，并且所述多个半导体纳米晶体将来自所述光学组件的光束透射至所述多个微镜。
本实施例中，改变部件130包括多个微镜和多个半导体纳米晶体，在一层结构上以阵列方式布置多个微镜，并且在多个微镜所处的层结构的上一层结构上布置多个半导体纳米晶体。多个半导体纳米晶体的种类可以相同，也可以不同，即，改变部件130可包括同一种类的多个半导体纳米晶体，也可包括不同种类的多个半导体纳米晶体。
在一种可能的实现方式中，一个微镜与一种半导体纳米晶体对应地配置，即，一个微镜上配置有一种半导体纳米晶体。在一种可能的实现方式中，多个微镜与一种半导体纳米晶体对应地配置，即，多个微镜上配置有一种半导体纳米晶体。图2和3是根据一示例性实施例示出的一种半导体纳米晶体与微镜布置的示意图。如图2所示，一个微镜上配置有一种半导体纳米晶体，并且如图3所示，2行×2列共4个微镜上配置有一种半导体纳米晶体。
在一种可能的实现方式中，改变部件130所包括的所有微镜上均覆盖有半导体纳米晶体，即，所有微镜均被半导体纳米晶体覆盖。在一种可能的实现方式中，改变部件130所包括的所有微镜的一部分微镜上覆盖有半导体纳米晶体并且其它部分微镜上没有覆盖半导体纳米晶体，即，不是所有微镜均被半导体纳米晶体覆盖。应能够理解，本公开不限制微镜和半导体纳米晶体的配置方式，可以根据需求任意选择微镜和半导体纳米晶体的配置方式。
示例性的，假设需要对400nm～689nm的波段进行光谱检测，并且需要每间隔1am获得一个光谱数据，则需要289个光谱数据，因此微镜和半导体纳米晶体的配置方式可包括但不限于图2-3所示出的半导体纳米晶体与微镜布置的示意图。其中，如图2所示，改变部件130包括17行×17列共289个微镜以及289种半导体纳米晶体，并且如图2中的放大图所示出的，每个微镜上覆盖一种半导体纳米晶体；如图3所示，改变部件130包括34行×34列共1156个微镜以及289种半导体纳米晶体，并且如图3中的放大图所示出的，每2行×2列共4个微镜上覆盖一种半导体纳米晶体。
示例性的，假设需要以9个波段进行多光谱成像，则需要9种半导体纳米晶体，因此微镜和半导体纳米晶体的配置方式可包括但不限于图4所示出的半导体纳米晶体与微镜布置的示意图。其中，如图4所示，改变部件130包括18行×18列共324个微镜以及QD11至QD33共9种半导体纳米晶体，将324个微镜分割为36个阵列单元，每个阵列单元是3行×3列共9个微镜组成的阵列。针对每个阵列单元，该阵列单元中的9个微镜上分别覆盖一种半导体纳米晶体，即，第1行第1列的微镜上覆盖半导体纳米晶体QD11，第1行第2列的微镜上覆盖半导体纳米晶体QD12，第1行第3列的微镜上覆盖半导体纳米晶体QD13，第2行第1列的微镜上覆盖半导体纳米晶体QD21，第2行第2列的微镜上覆盖半导体纳米晶体QD22，第2行第3列的微镜上覆盖半导体纳米晶体QD23，第3行第1列的微镜上覆盖半导体纳米晶体QD31，第3行第2列的微镜上覆盖半导体纳米晶体QD32，第3行第3列的微镜上覆盖半导体纳米晶体QD33。
本实施例中，改变部件130包括多个能够独立转动的微镜。如图2所示，改变部件130可包括17行×17列共289个微镜，如图3所示，改变部件130可包括34行×34列共1156个微镜，如图4所示，改变部件130可包括18行×18列共324个微镜。改变部件130中的所有微镜均可在一定的角度范围内进行转动。
在一种可能的实现方式中，改变部件130可包括数字微镜器件(英文：DigitalMicro-mirror Device，简称：DMD)微镜阵列，DMD微镜阵列包括所述多个微镜。
本实施例中，改变部件130可包括DMD微镜阵列和相应地配置的多种半导体纳米晶体。DMD微镜阵列是由多个高速数字式光反射开关组成的阵列，其中通过旋转反射镜来实现光开关的开合。也就是说，DMD微镜阵列包括多个微反射镜(即，微镜)。可根据分辨率设置微反射镜的数量，分辨率越大，则微反射镜的数量越多。每个微反射镜对应一个像素。每个微反射镜可通过转动而处于0°、-12°和+12°。
具有相应的光谱透过率的半导体纳米晶体能够吸收预定波长的光且能够过滤预定波长的光，使得入射光的光谱的不同部分被吸收和过滤。与半导体纳米晶体对应地配置的微镜能够将从半导体纳米晶体透射出的光束反射至探测器，再由探测器150来检测从半导体纳米晶体透射出的光束的强度，因此探测器150所输出的数据是探测器150检测到的半导体纳米晶体透射出的光的强度数据。应能够理解，本公开不限制探测器150的结构，探测器150包括但不限于CCD探测器、CMOS探测器等。
控制部件170用于对多个微镜的转动进行控制，以使得多个微镜将来自多个半导体纳米晶体的光束入射至探测器150。
本实施例中，多个微镜在控制部件170的控制下可通过多个微镜的转动将来自相应的半导体纳米晶体的光束反射到探测器150，控制部件170可根据探测器150所输出的数据进行光谱成像和/或光谱检测。
本实施例中，光学组件110将来自光源或目标场景的光束入射至改变部件130的多个半导体纳米晶体；多个半导体纳米晶体将光束透射至对应的多个微镜；多个微镜将从相应的半导体纳米晶体透射出的光束反射至探测器150，控制部件170对从探测器150输出的数据进行相应处理，即可得到光谱或光谱数据立方体。
相比于通过诸如滤光片、光栅等传统的滤波分光，本实施例的光学装置通过改变部件所包括的多个半导体纳米晶体来实现滤波分光，由于半导体纳米晶体能够更灵活地调整光谱范围和分辨率，因此本实施例的光学装置不仅能够更灵活地实现更多波段和/或可定制的光谱检测，而且能够降低光学装置的体积。
相比于现有技术中针对每种特定波段制作对应的光学装置，如果需要对多种波段进行光谱成像和/或光谱检测，则需要分别购买与各波段相对应的多个光学装置，光谱成像和/或光谱检测所需的成本高昂。本实施例的光学装置，可根据需求定制不同波段范围和/或不同精细分辨率的半导体纳米晶体，并将定制的半导体纳米晶体安装至相应的微镜上，由此，在需要对多种波段进行光谱成像和/或光谱检测并且当前的半导体纳米晶体不满足所需的波段的情况下，仅需要更换半导体纳米晶体和/或微镜以及与所需的波段相对应的探测器即可，或者，在需要对多种波段进行光谱成像和/或光谱检测并且当前的半导体纳米晶体能够满足所需的波段的情况下，仅需要更换与所需的波段相对应的探测器即可，而至少无需更换光学装置的光学组件和/或改变部件所包括的多个微镜，因此能够有效降低光谱成像和/或光谱检测的成本。
相比于通过位于光学装置外部的平移装置来实现扫描成像，由于本实施例的光学装置通过位于光学装置内部的改变部件所包括的多个微镜的转动来实现扫描成像，因此不仅能够进一步降低光学装置的体积，而且能够更快速地实现扫描成像，还能够降低光谱成像的功耗。
图5是根据一示例性实施例示出的一种光学装置的框图。如图5所示，光学装置400可以包括光学组件110、匀光部件410、改变部件130、探测器150和控制部件170。光学组件110、改变部件130、探测器150和控制部件170的具体说明可以参见前文关于图1的光学装置100的相关描述，在此不再赘述。
本实施例中，在光学装置进行光谱检测时，需要将光束进行匀光处理并且将匀光后的光束出射至改变部件130，因此光学装置还可包括用于对来自光学组件110的光束进行匀光处理的匀光部件410，其中，匀光处理后的光束被入射至多个半导体纳米晶体，并且多个半导体纳米晶体将该匀光处理后的光束透射至多个微镜。应能够理解，匀光部件410包括但不限于诸如匀光透镜、导光板、微透镜阵列/复眼透镜等的能够将来自光学组件110的光束匀光后出射的光学元件。
本实施例中，若光学组件110无法向改变部件130出射匀光，则光学装置可能需要设置额外的匀光部件410来实现将光束匀光后出射至改变部件130，相应地，若光学组件110本身能够将来自光源的光束均匀化并且将均匀化后的光束出射至改变部件130，则光学装置应无需设置额外的匀光部件410。
图6是根据一示例性实施例示出的一种光学装置的框图。如图6所示，光学装置500可以包括光学组件110、改变部件130、聚焦准直部件510、单像素探测器530和控制部件170。光学组件110、改变部件130和控制部件170的具体说明可以参见前文关于图1的光学装置100的相关描述，在此不再赘述。
也就是说，在探测器150为单像素探测器的情况下，光学装置还包括聚焦准直部件510，其中，控制部件170对多个微镜的转动进行控制，以使得多个微镜顺次将来自多个半导体纳米晶体的光束入射至聚焦准直部件510，其中，聚焦准直部件510将来自多个半导体纳米晶体的光束会聚至单像素探测器530。应能够理解，聚焦准直部件510包括但不限于棱镜等光学元件。
本实施例中，探测器150可为低成本的单像素探测器150，其仅包括一个像素，多个微镜可按照预定顺序依次将从相应的半导体纳米晶体透射出的光束入射至探测器150。
在一种可能的实现方式中，在所述探测器150为多像素探测器的情况下，所述控制部件170对所述多个微镜的转动进行控制，以使得所述多个微镜同时将来自所述多个半导体纳米晶体的光束入射至所述探测器150的不同像元；和/或，在所述探测器150为多像素探测器的情况下，所述控制部件170对所述多个微镜的转动进行控制，以使得所述多个微镜顺次将来自所述多个半导体纳米晶体的光束入射至所述探测器的不同像元。
本实施例中，探测器150可为多像素探测器，即探测器150为面阵探测器，多个微镜可同时将从相应的半导体纳米晶体透射出的光束入射至探测器150的不同像元；当然，多个微镜也可按照预定顺序依次将从相应的半导体纳米晶体透射出的光束入射至探测器150的不同像元。
以下以“快照式(Snapshot)”为例来说明本实施例的光学装置进行光谱成像的过程。在使用光学装置进行光谱成像时，在多个微镜上配备同种半导体纳米晶体，例如图4所示出的，第1行第1列、第1行第4列、第1行第7列、第1行第10列、第1行第13列、第1行第16列的微镜上均覆盖半导体纳米晶体QD11，第1行第2列、第1行第5列、第1行第8列、第1行第11列、第1行第14列和第1行第17列的微镜上均覆盖半导体纳米晶体QD12；当接收到从同种半导体纳米晶体透射出的光束时，所有微镜同时偏转并且偏转的速度相当快，从而所有微镜同时将光束反射至探测器，控制部件根据探测器所输出的多种数据并利用相关算法例如去马赛克算法来将每个像素上的数据恢复成完整的数据，并由此获得数据立方体(也就是说，同时曝光而不需要扫描，后续通过算法来恢复数据)。其中，对于图4而言，探测器输出9种数据，控制部件需要利用相关算法根据这9种数据来获得完整的数据立方体。
在一种可能的实现方式中，半导体纳米晶体例如为量子点(英文：Quantum dots，简称：QD)。
以上已经描述了本公开的各实施例，上述说明是示例性的，并非穷尽性的，并且也不限于所披露的各实施例。在不偏离所说明的各实施例的范围和精神的情况下，对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的。本文中所用术语的选择，旨在最好地解释各实施例的原理、实际应用或对市场中的技术的技术改进，或者使本技术领域的其它普通技术人员能理解本文披露的各实施例。

Claims (10)

1.一种光学装置，其特征在于，包括：
探测器；
光学组件，用于接收来自光源或目标场景的光束；
改变部件，其包括具有相应的光谱透过率的多个半导体纳米晶体和对应地配置的多个能够转动的微镜，其中所述光学组件将所述光束入射至所述多个半导体纳米晶体，并且所述多个半导体纳米晶体将来自所述光学组件的光束透射至所述多个微镜；以及
控制部件，用于对所述多个微镜的转动进行控制，以使得所述多个微镜将来自所述多个半导体纳米晶体的光束入射至所述探测器。
2.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
在所述探测器为单像素探测器的情况下，所述光学装置还包括聚焦准直部件，
其中，所述控制部件对所述多个微镜的转动进行控制，以使得所述多个微镜顺次将来自所述多个半导体纳米晶体的光束入射至所述聚焦准直部件，
其中，所述聚焦准直部件将来自所述多个半导体纳米晶体的光束会聚至所述探测器。
3.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
在所述探测器为多像素探测器的情况下，所述控制部件对所述多个微镜的转动进行控制，以使得所述多个微镜同时将来自所述多个半导体纳米晶体的光束入射至所述探测器的不同像元；和/或
在所述探测器为多像素探测器的情况下，所述控制部件对所述多个微镜的转动进行控制，以使得所述多个微镜顺次将来自所述多个半导体纳米晶体的光束入射至所述探测器的不同像元。
4.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
一个微镜与一种半导体纳米晶体对应地配置；和/或
多个微镜与一种半导体纳米晶体对应地配置。
5.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
所述改变部件所包括的所有微镜上均覆盖有半导体纳米晶体。
6.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，
所述改变部件所包括的所有微镜的一部分微镜上覆盖有半导体纳米晶体并且其它部分微镜上没有覆盖半导体纳米晶体。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的光学装置，其特征在于，
所述改变部件包括数字微镜器件DMD微镜阵列，所述DMD微镜阵列包括所述多个微镜。
8.根据权利要求1-6中任一项所述的光学装置，其特征在于，
所述控制部件根据所述探测器所输出的数据进行光谱检测和/或光谱成像。
9.根据权利要求1-6中任一项所述的光学装置，其特征在于，还包括：
匀光部件，用于对来自所述光学组件的光束进行匀光处理，并且将匀光处理后的光束入射至所述多个半导体纳米晶体，并且所述多个半导体纳米晶体将所述匀光处理后的光束透射至所述多个微镜。
10.根据权利要求1-6中任一项所述的光学装置，其特征在于，
所述光学组件将所述光束均匀地入射至所述多个半导体纳米晶体，并且所述多个半导体纳米晶体将来自所述光学组件的光束透射至所述多个微镜。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101930121A (zh) * 2009-06-24 2010-12-29 华为技术有限公司 光滤波器及其分光方法
WO2011038816A1 (de) * 2009-09-30 2011-04-07 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Spektraldetektor oder laser-scanning-mikroskop mit variabler filterung durch räumliche farbtrennung
CN103115680A (zh) * 2013-01-24 2013-05-22 中国科学院空间科学与应用研究中心 一种超灵敏光谱仪以及光谱检测方法
CN103267572A (zh) * 2013-04-19 2013-08-28 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 基于dmd的非哈达玛变换近红外光谱仪
CN104428898A (zh) * 2012-06-11 2015-03-18 赫里亚泰克有限责任公司 光活性组件的滤光系统
CN105222895A (zh) * 2015-10-14 2016-01-06 厦门大学 一种集成了阵列波导光栅和光电探测器的光谱仪芯片
US9651423B1 (en) * 2016-07-10 2017-05-16 Biao Zhang MEMS optical device comprising a MEMS magnetic sensing mechansim and MEMS light absorbing structure

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101930121A (zh) * 2009-06-24 2010-12-29 华为技术有限公司 光滤波器及其分光方法
WO2011038816A1 (de) * 2009-09-30 2011-04-07 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Spektraldetektor oder laser-scanning-mikroskop mit variabler filterung durch räumliche farbtrennung
CN104428898A (zh) * 2012-06-11 2015-03-18 赫里亚泰克有限责任公司 光活性组件的滤光系统
CN103115680A (zh) * 2013-01-24 2013-05-22 中国科学院空间科学与应用研究中心 一种超灵敏光谱仪以及光谱检测方法
CN103267572A (zh) * 2013-04-19 2013-08-28 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 基于dmd的非哈达玛变换近红外光谱仪
CN105222895A (zh) * 2015-10-14 2016-01-06 厦门大学 一种集成了阵列波导光栅和光电探测器的光谱仪芯片
US9651423B1 (en) * 2016-07-10 2017-05-16 Biao Zhang MEMS optical device comprising a MEMS magnetic sensing mechansim and MEMS light absorbing structure

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