CN111751874B - 一种变偏移距vsp叠后变覆盖次数校正方法和装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法和装置，所述方法包括：S1.输入变偏移距VSP成像速度模型、观测系统、输入变偏移距VSP叠后剖面；S2.用步骤S1中的变偏移距VSP成像速度模型、观测系统，射线追踪计算理论覆盖次数；S3.根据理论覆盖次数计算变覆盖校正系数；S4.利用得到的变覆盖校正系数对变偏移距VSP叠后剖面进行校正。本发明采用射线追踪计算理论覆盖次数，再计算变覆盖校正系数，校正变偏移距VSP叠后剖面，使得校正后变偏移距VSP叠后剖面沿层能量趋于一致，有效抑制了不规则覆盖引起的反射特征畸变。

Description

一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法和装置
技术领域
本发明涉及地球物理勘探中地震数据成像方法，特别是涉及一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法和装置。
背景技术
变偏移距VSP是指多个检波器组成的阵列陈放在观测井中，地表布设一条人工激发的多个炮点组成的炮线，是一种VSP的二维观测方式，在炮点人工激发地震数据的条件下，实现变偏移距VSP井中数据采集，采集系统立体图如图1所示；变偏移距VSP采集，其实就是在每一个炮点激发时，由各个检波点的检波器进行数据采集；变偏移距VSP可以观测到反射纵波、反射转换横波，利用偏移成像研究井旁构造、储层预测。
但是变偏移距VSP成像面元覆盖次数不规则变化，在成像后的叠加剖面上覆盖次数变化影响反射特征，进而由不规则覆盖可能引起反射特征畸变，降低了数据的准确性，为地震数据的后续处理带来了诸多不便。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法和装置，采用射线追踪计算理论覆盖次数，再计算变覆盖校正系数，校正变偏移距VSP叠后剖面，使得校正后变偏移距VSP叠后剖面沿层能量趋于一致，有效抑制了不规则覆盖引起的反射特征畸变。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法，包括以下步骤：
S1.输入变偏移距VSP成像速度模型、观测系统、输入变偏移距VSP叠后剖面VSPDataM×N；
其中，M是采样点数，N是成像道数；输入的成像速度模型包括：网格大小、网格行列数、每个网格的速度；输入的观测系统包括：炮点坐标和检波点坐标；
S2.用步骤S1中的变偏移距VSP成像速度模型、观测系统，射线追踪计算理论覆盖次数FoldM×N；
S3.根据理论覆盖次数计算变覆盖校正系数：
Figure BDA0002572148470000021
式中，max()是最大值函数，smooth是平滑函数，CorrectionFoldM×N是变覆盖校正系数；
S4.利用得到的变覆盖校正系数对变偏移距VSP叠后剖面进行校正：
VSPDataCorrectionM×N＝VSPDataM×N×CorrectionFoldM×N
其中，VSPDataCorrectionM×N是变覆盖次数校正后的变偏移距VSP叠后剖面。
一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正装置，包括：
数据输入模块，用于输入变偏移距VSP成像速度模型、观测系统和变偏移距VSP叠后剖面；
射线追踪计算模块，用于根据变偏移距VSP成像速度模型、观测系统，射线追踪计算理论覆盖次数；
变覆盖校正系数计算模块，用于根据理论覆盖次数计算变覆盖校正系数；
叠后剖面校正模块，用于根据得到的变覆盖校正系数对变偏移距VSP叠后剖面进行校正。
本发明的有益效果是：本发明采用射线追踪计算理论覆盖次数，再计算变覆盖校正系数，校正变偏移距VSP叠后剖面，使得校正后变偏移距VSP叠后剖面沿层能量趋于一致，有效抑制了不规则覆盖引起的反射特征畸变。
附图说明
图1为变偏移距VSP采集系统的立体图；
图2为本发明的方法流程图；
图3为实施例中输入的变偏移距VSP观测系统示意图；
图4为实施例中输入的变偏移距VSP成像速度模型示意图；
图5为实施例中输入的变偏移距VSP叠后剖面示意图；
图6为实施例中射线追踪计算的理论覆盖次数示意图；
图7为实施例中计算得到的变覆盖校正系数示意图；
图8为实施例中校正后的变偏移距VSP叠后剖面示意图；
图9本发明的装置原理框图。
具体实施方式
下面结合附图进一步详细描述本发明的技术方案，但本发明的保护范围不局限于以下所述。
如图2所示，一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法，包括以下步骤：
S1.输入变偏移距VSP成像速度模型、观测系统、输入变偏移距VSP叠后剖面VSPDataM×N；
其中，M是采样点数，N是成像道数；输入的成像速度模型包括：网格大小、网格行列数、每个网格的速度；输入的观测系统包括：炮点坐标和检波点坐标；
在本申请的实施例中，输入的变偏移距VSP观测系统如图3所示；输入的变偏移距VSP成像速度模型如图4所示；输入的变偏移距VSP叠后剖面如图5所示。
S2.利用步骤S1中的变偏移距VSP成像速度模型、观测系统，射线追踪计算理论覆盖次数FoldM×N，具体地：
所述步骤S2包括以下子步骤：
射线追踪计算每个炮检对的反射波对应的反射点坐标：
得到的第i个炮点第j个检波点在反射层k处的反射点坐标为RPXi,j,k RPZi,j,k；
统计速度模型每个网格中反射点的个数，即覆盖次数：
CFgi,gj＝CFgi,gj+1 xgj≤RPXi,j,k≤xgj+1 zgi≤RPZi,j,k≤zgi+1
CFgi,gj是第gi行第gj列网格的覆盖次数，xgj、zgi是第gi行第gj列网格坐标、xgj+1、zgi+1是第gi+1行第gj+1个网格坐标；
插值得到理论覆盖次数FoldM×N：
FoldM×N＝Interp2({CFgi,gj},{xgj，zgi})
其中，{CFgi,gj}是网格的覆盖次数，{xgj,zgi}是网格坐标，Interp2是2维插值函数，FoldM×N是理论覆盖次数。
在本申请的实施例中，射线追踪计算的理论覆盖次数如图6所示。
S3.根据理论覆盖次数计算变覆盖校正系数：
Figure BDA0002572148470000041
式中，max()是最大值函数，smooth是平滑函数，CorrectionFoldM×N是变覆盖校正系数；在本申请的实施例中，计算得到的变覆盖校正系数如图7所示；
S4.利用得到的变覆盖校正系数对变偏移距VSP叠后剖面进行校正：
VSPDataCorrectionM×N＝VSPDataM×N×CorrectionFoldM×N
其中，VSPDataCorrectionM×N是变覆盖次数校正后的变偏移距VSP叠后剖面。在本申请的实施例中，校正后的变偏移距VSP叠后剖面如图8所示；
如图9所示，一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正装置，包括：
数据输入模块，用于输入变偏移距VSP成像速度模型、观测系统和变偏移距VSP叠后剖面；
射线追踪计算模块，用于根据变偏移距VSP成像速度模型、观测系统，射线追踪计算理论覆盖次数；
变覆盖校正系数计算模块，用于根据理论覆盖次数计算变覆盖校正系数；
叠后剖面校正模块，用于根据得到的变覆盖校正系数对变偏移距VSP叠后剖面进行校正。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式，不应该看作是对其他实施例的排除，而可用于其他组合、修改和环境，并能够在本文所述构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围，则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。

Claims (5)

1.一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1.输入变偏移距VSP成像速度模型、观测系统、输入变偏移距VSP叠后剖面VSPDataM×N；
其中，M是采样点数，N是成像道数；
S2.用步骤S1中的变偏移距VSP成像速度模型、观测系统，射线追踪计算理论覆盖次数FoldM×N；
S3.根据理论覆盖次数计算变覆盖校正系数：
Figure FDA0003583698480000011
式中，max()是最大值函数，smooth是平滑函数，CorrectionFoldM×N是变覆盖校正系数；
S4.利用得到的变覆盖校正系数对变偏移距VSP叠后剖面进行校正：
VSPDataCorrectionM×N＝VSPDataM×N×CorrectionFoldM×N
其中，VSPDataCorrectionM×N是变覆盖次数校正后的变偏移距VSP叠后剖面。
2.根据权利要求1所述的一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法，其特征在于：所述步骤S1中，输入的成像速度模型包括：网格大小、网格行列数、每个网格的速度。
3.根据权利要求1所述的一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法，其特征在于：所述步骤S1中，输入的观测系统包括：炮点坐标和检波点坐标。
4.根据权利要求1所述的一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正方法，其特征在于：所述步骤S2包括以下子步骤：
射线追踪计算每个炮检对的反射波对应的反射点坐标：
得到的第i个炮点第j个检波点在反射层k处的反射点坐标为(RPXi,j,k，RPZi,j,k)；
统计速度模型每个网格中反射点的个数，即覆盖次数：
当xgj≤RPXi,j,k≤xgj+1且zgj≤RPZi,j,k≤zgj+1，对CFgi,gj进行更新，更新后的值等于更新前的CFgi,gj加1；
CFgi,gj是第gi行第gj列网格的覆盖次数，xgj、zgi是第gi行第gj列网格坐标、xgj+1、zgi+1是第gi+1行第gj+1个网格坐标；
插值得到理论覆盖次数FoldM×N：
FoldM×N＝Interp2({CFgi,gj},{xgj，zgi})
其中，{CFgi,gj}是网格的覆盖次数，{xgj,zgi}是网格坐标，Interp2是2维插值函数，FoldM×N是理论覆盖次数。
5.一种变偏移距VSP叠后变覆盖次数校正装置，采用权利要求1～4中任意一项所述的方法，其特征在于：包括：
数据输入模块，用于输入变偏移距VSP成像速度模型、观测系统和变偏移距VSP叠后剖面；
射线追踪计算模块，用于根据变偏移距VSP成像速度模型、观测系统，射线追踪计算理论覆盖次数；
变覆盖校正系数计算模块，用于根据理论覆盖次数计算变覆盖校正系数；
叠后剖面校正模块，用于根据得到的变覆盖校正系数对变偏移距VSP叠后剖面进行校正。
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