CN111524950B - 透光显示屏及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种透光显示屏及其制作方法。所示透光显示屏包括基板和位于所述基板上的发光区和透光区。所述透光区包括：由基板和相邻的两个发光区的侧壁构成的开口。所述发光区包括：位于所述基板上的薄膜晶体管单元，覆盖所述薄膜晶体管单元的平坦化层，和位于所述平坦化层上的发光单元；其中所述平坦化层包括本体和位于所述本体上的多个阻挡墙，所述发光单元位于所述多个阻挡墙之间，且通过贯穿所述平坦化层的开孔电连接至所述基板上的薄膜晶体管单元。本发明对现有技术中的透明显示屏的结构进行了优化，在所述平坦化层上设置了阻挡墙，所述阻挡墙能够有效的避免像素定义层向平坦化层上的透光开口中流失，避免阳极边界烧伤。

Description

透光显示屏及其制作方法

技术领域

本申请涉及电子显示领域，尤其涉及一种透光显示屏及其制作方法。

背景技术

目前，透光显示技术在智能眼镜、电子显示橱窗和智能挡风玻璃等多个场合中被广泛应用。参见图1，图1为现有技术中的透光显示屏的结构示意图。所述透光显示屏包括位于基板110上的多个显示区A和位于所述任意两个显示区A之间的透光区。每一个所述显示区A包括薄膜晶体管单元120，平坦化层130，以及位于所述平坦化层上的发光单元。所述发光单元包括像素定义层(bank层)150，阳极142、144、146，和分别位于阳极142、144、146上方的发光材料层162、164、166。通常所述发光材料层162、164、166分别为红光发光材料、蓝光发光材料和绿光发光材料。位于相邻两个发光区A之间的透光区包括基板110，位于基板110上方的平坦化层130和位于平坦化层130上方的像素定义层150。受限于所述平坦化层130和像素定义层150材料本身的透光率，所述透光显示屏的整体透光率较低。

为了解决这一问题，本领域中的技术人员提出了一种改进的技术方案，参见图2，在形成发光单元后，通过刻蚀去除透光区的平坦化层230和像素定义层250，形成开口270。这一改进避免了光线被平坦化层230和像素定义层250的材料吸收和散射，能够有效的增强透光显示面板的透光率。但是在实际工艺中，形成像素定义层的材料通常为光刻胶。光刻胶的原材料为液态的高分子或小分子溶液，通过涂布、软烘、曝光、显影、硬烘等工艺图形化。如图3所示，在实际中，由于相邻的显示区A之间的像素定义层250被去除，位于显示区A边缘的像素定义结构252会向开口270中流失，导致显示区A边界处的薄膜厚度不足，无法正常图形化，最终导致阳极146和142边界烧伤。

发明内容

本申请提供了一种透光显示屏，能够在提高显示屏透光性的同时避免阳极烧伤。

所述透光显示屏包括基板和位于所述基板上的发光区和透光区，其中，所述透光区包括由基板和相邻的两个发光区的侧壁构成的开口；所述发光区包括：位于所述基板上的薄膜晶体管单元，覆盖所述薄膜晶体管单元的平坦化层，和位于所述平坦化层上的发光单元；其中所述平坦化层包括本体和位于所述本体上的多个阻挡墙，所述发光单元位于所述多个阻挡墙之间，且通过贯穿所述平坦化层的开孔电连接至所述基板上的薄膜晶体管单元。

根据本发明的其中一个实施例，所述平坦化层包括与所述基板垂直的第一侧壁，所述第一侧壁构成所述所述发光区的侧壁，相邻的两个发光区的两个相邻的侧壁与所述基板构成所述透光区的开口。

根据本发明的其中一个实施例，所述平坦化层包括两个平行设置的第一侧壁，所述发光单元位于两个第一侧壁之间。

根据本发明的其中一个实施例，所述多个阻挡墙的高度大于或等于所述发光单元的高度。

根据本发明的其中一个实施例，所述多个阻挡墙与所述本体一体成型，所述阻挡墙为所述本体沿垂直于所述基板方向上的凸起。

根据本发明的其中一个实施例，所述发光单元的面积等于所述开口的面积。

本发明还提供了一种透光显示屏的制作方法，包括：

提供基板；

在所述基板上形成薄膜晶体管层；

形成覆盖所述薄膜晶体管层的平坦化层的本体；

形成位于所述本体上的多个阻挡墙；

形成位于所述多个阻挡墙之间的发光结构，所述发光结构和位于所述发光结构两侧的阻挡墙构成发光区；

刻蚀位于两个相邻阻挡墙之间的平坦化层的本体，形成开口，所述开口构成透光区，其中所述发光区和所述透光区相邻设置。

根据本发明的其中一个实施例，所述平坦化层的本体和阻挡墙通过一体成型的方法形成。

根据本发明的其中一个实施例，所述一体成型的方法为半色调掩膜刻蚀。

根据本发明的其中一个实施例，通过半色调掩膜刻蚀形成所述平坦化层的本体和阻挡墙的方法包括以下步骤：

形成覆盖所述基板和薄膜晶体管单元的第一平坦化层，所述第一平坦化层具有第一厚度；

使用半色调掩膜版对所述第一平坦化层进行显影，形成平坦化的本体和阻挡墙，所述本体的厚度为第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。

本发明对现有技术中的透明显示屏的结构进行了优化，在所述平坦化层上设置了阻挡墙，所述阻挡墙能够有效的避免像素定义层向平坦化层上的透光开口中流失，避免阳极边界烧伤。

附图说明

图1为现有技术中的一种透光显示屏的结构示意图；

图2为图1中的透光显示屏的优化方案；

图3为图2中的优化方案的一个具体实施例；

图4为本发明的第一个实施例中的透明显示屏的部分结构示意图；

图5为本发明的第一个实施例中使用的掩膜版；

图6为对图5中的结构进行光刻后的结构示意图；

图7为在图6中的结构上形成发光单元后的透光显示屏的结构示意图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

参见图7，本申请提供了一种透光显示屏300，能够在提高显示屏透光性的同时避免阳极烧伤。所述透光显示屏300包括基板110和位于所述基板110上的发光区A和透光区B。所述发光区A包括：位于所述基板110上的薄膜晶体管单元120，覆盖所述薄膜晶体管单元120的平坦化层330，和位于所述平坦化层330上的发光单元A1。其中，所述平坦化层330包括本体310和位于所述本体310上的多个阻挡墙320，所述发光单元A1位于所述多个阻挡墙320之间。

参见图7，每一个发光区A的平坦化层330的本体310包括两个第一侧壁331，所述第一侧壁331构成该发光区A的侧壁。相邻的两个发光区A的侧壁和所述基板110构成开口370，所述开口370构成透光区B。

参见图7，每一个所述发光单元A1中包括三个像素点和隔离所述三个像素点的像素定义层150。通常所述三个像素点分别发红光、蓝光和绿光。本实施例中，所述三分像素点分别包括红光发光材料162、绿光发光材料164和蓝光发光材料166，以及与红光发光材料162对应的阳极142、与绿光发光材料164对应的阳极144和与蓝光发光材料166对应的阳极142。

本发明中，所述多个阻挡墙320的高度大于或等于所述发光单元A1的高度。所述多个阻挡墙320与所述本体310一体成型，所述阻挡墙320为所述本体310沿垂直于所述基板110方向上的凸起。所述发光单元A1的面积等于所述开口370的面积。

参见图4至图7，本发明提供了一种透光显示屏的制作方法，包括以下步骤。

首先，如图4所示，提供基板110，并且在所述基板110上形成薄膜晶体管单元120。这一步骤是本领域中的已经成熟的技术，在此不再赘述。

之后，如图6所示，形成覆盖所述薄膜晶体管单元120的平坦化层330的本体310，以及形成位于所述本体310上的多个阻挡墙320。本申请中，所述平坦化层330的本体310和阻挡墙320通过一体成型的方法形成。根据本发明的其中一个实施例，所述平坦化层330的本体310、阻挡墙320和所述开口370通过一体成型的方法形成，所述一体成型的方法为半色调掩膜刻蚀。

具体的，参见图4至图6，通过半色调掩膜刻蚀形成所述平坦化层330的本体310、阻挡墙320和开口370的方法包括以下步骤。

首先，形成覆盖所述基板110和薄膜晶体管单元120的第一平坦化层305，所述第一平坦化层305具有第一厚度H1。之后，使用半色调掩膜版400对所述第一平坦化层305进行显影，形成平坦化的本体310、阻挡墙320和开口370。所述本体310的厚度为第二厚度H2，所述第二厚度H2小于所述第一厚度H1。所述多个阻挡墙320之间具有第二开口340，所述第二开口340可用于形成的发光单元A1，构成发光区A，如图6所示。

参见图5，所述半色调掩膜版400包括第一区域410、第二区域420和第三区域430。所述第一区域410对于的区域为所述平坦化层330的阻挡墙320，所述第二区域420对应的区域为所述平坦化层330的本体310，所述第三区域430对应的区域为所述开口370。由于所述平坦化层的本体310、阻挡墙320和开口370具有不同的厚度，因此所述第一区域410、第二区域420和第三区域430具有不同的透光率。

在本实施例中，使用的光刻胶为正性光刻胶，即曝光的部分溶于显影液，而未曝光的部分则仍然保留在衬底上。对于正性光刻胶，所述第三区域430的透光率最高，从而使得与所述第三区域430对应的光刻胶在显影后的厚度最小，从而在后续的刻蚀中在所述第一平坦化层305上刻蚀的深度也最大，从而形成开口370。相应的，所述第二区域420的透光率则小于所述第三区域430的透光率，所述第一区域410的透光率则小于所述第二区域420的透光率。对于使用的负性光刻胶的实施例，则所述第三区域430的透光率最低，所述第二区域420的透光率大于于所述第三区域430的透光率，所述第一区域410的透光率大于于所述第二区域420的透光率。具体的透光率可以根据光刻胶的性质进行设定，这一技术为本领域的常用技术手段，在此不再赘述。

最后，在所述第二开口340中形成发光单元A1，所述发光单元包括至少三个像素点，通常所述三个像素点分别发红光、蓝光和绿光。本实施例中，所述三分像素点分别包括红光发光材料162、绿光发光材料164和蓝光发光材料166，以及与红光发光材料162对应的阳极142、与绿光发光材料164对应的阳极144和与蓝光发光材料166对应的阳极142。每一个像素点均通过贯穿所述平坦化层330的本体310的通孔与所述薄膜晶体管单元电连接。

本发明对现有技术中的透明显示屏的结构进行了优化，在所述平坦化层330上设置了阻挡墙，所述阻挡墙能够有效的避免像素定义层150向平坦化层330上的透光开口中流失，避免阳极边界烧伤。

综上所述，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种透光显示屏，其特征在于，包括基板和位于所述基板上的发光区和透光区，其中，

所述透光区包括：

由基板和相邻的两个发光区的侧壁构成的开口；

所述发光区包括：

位于所述基板上的薄膜晶体管单元；

覆盖所述薄膜晶体管单元的平坦化层；和

位于所述平坦化层上的发光单元；

其中，

所述平坦化层包括本体和位于所述本体上的多个阻挡墙，

所述发光单元位于所述多个阻挡墙之间，且通过贯穿所述平坦化层的开孔电连接至所述基板上的薄膜晶体管单元；

每一个所述发光单元中包括三个像素点和隔离所述三个像素点的像素定义层。

2.根据权利要求1所述的透光显示屏，其特征在于，所述平坦化层包括与所述基板垂直的第一侧壁，所述第一侧壁构成所述发光区的侧壁，相邻的两个发光区的两个相邻的侧壁与所述基板构成所述透光区的开口。

3.根据权利要求2所述的透光显示屏，其特征在于，所述平坦化层包括两个平行设置的第一侧壁，所述发光单元位于两个第一侧壁之间。

4.根据权利要求3所述的透光显示屏，其特征在于，所述多个阻挡墙的高度大于或等于所述发光单元的高度。

5.根据权利要求1所述的透光显示屏，其特征在于，所述多个阻挡墙与所述本体一体成型，所述阻挡墙为所述本体沿垂直于所述基板方向上的凸起。

6.根据权利要求1所述的透光显示屏，其特征在于，所述发光单元的面积等于所述开口的面积。

7.一种透光显示屏的制作方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上形成薄膜晶体管单元；

形成覆盖所述薄膜晶体管单元的平坦化层的本体；

形成位于所述本体上的多个阻挡墙；

刻蚀位于两个相邻阻挡墙之间的平坦化层的本体，形成开口，所述开口构成透光区；

形成位于所述多个阻挡墙之间的发光单元，所述发光单元与所述透光区间隔设置；

每一个所述发光单元中包括三个像素点和隔离所述三个像素点的像素定义层。

8.根据权利要求7所述的透光显示屏的制作方法，其特征在于，所述平坦化层的本体和阻挡墙通过一体成型的方法形成。

9.根据权利要求8所述的透光显示屏的制作方法，其特征在于，所述一体成型的方法为半色调掩膜刻蚀。

10.根据权利要求9所述的透光显示屏的制作方法，其特征在于，通过半色调掩膜刻蚀形成所述平坦化层的本体和阻挡墙的方法包括以下步骤：

形成覆盖所述基板和薄膜晶体管单元的第一平坦化层，所述第一平坦化层具有第一厚度；

使用半色调掩膜版对所述第一平坦化层进行显影，形成平坦化的本体和阻挡墙，所述本体的厚度为第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度。

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