CN111481433A - 一种易清洁可调式足底按摩垫 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种易清洁可调式足底按摩垫，包括壳体，所述壳体上开设有安装槽，所述安装槽内设有电磁铁，所述壳体上端面均匀开设有多个将安装槽与外界连通的滑槽，每个所述滑槽槽壁上均开设有限位槽，每个所述限位槽内均滑动连接有限位环，每个所述限位环上均固定连接有永磁柱，且每个永磁柱均与对应滑槽的槽壁密封滑动连接，所述壳体上设有控制开关。本发明使用时使用者能够根据自身需求调节永磁柱对足底的抵力，从而极大的缓解了使用者按摩时足底的疼痛感，且选择性更多，同时本装置使用后进行清理也极其方便，进一步的本装置使用时，能够自动对足底进行散热处理，进而提高足底按摩的效果。

Description

一种易清洁可调式足底按摩垫

技术领域

本发明涉及足底按摩设备技术领域，尤其涉及一种易清洁可调式足底按摩垫。

背景技术

足底按摩法，是以刺激原理，按摩病变器官或者腺体的反射区带，使其恢复原有功能，达到治疗效果，保持健康的自然健康法，是第三医学的一门传统医疗方法，现代人们由于快节奏的学习、工作、生活，很少有时间和精力运动，很容易形成各种疾病。因此，很多商家推出了一种由鹅卵石组成的足底按摩垫供人们使用。

但是实际使用时，由于这种鹅卵石组成的足底按摩垫材质较硬，人们使用时不适感较大，很容易产生抗拒，甚至对于一些脚部较为柔弱的人群来说，会对脚底造成一定程度损伤，同时，鹅卵石组成的足底按摩垫凹凸不平，使用后极其不方便对其进行清理，从而容易在足底按摩垫上滋生细菌，极大的影响了足底按摩垫的使用。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的现有的足底按摩垫强度不能够调节同时不易清理的缺点，而提出的一种易清洁可调式足底按摩垫。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

一种易清洁可调式足底按摩垫，包括壳体，所述壳体上开设有安装槽，所述安装槽内设有电磁铁，所述壳体上端面均匀开设有多个将安装槽与外界连通的滑槽，每个所述滑槽槽壁上均开设有限位槽，每个所述限位槽内均滑动连接有限位环，每个所述限位环上均固定连接有永磁柱，且每个永磁柱均与对应滑槽的槽壁密封滑动连接，所述壳体上设有控制开关，且控制开关输出端通过导线与电磁铁电性连接。

优选地，所述电磁铁上端面均匀连接有多个与永磁柱对应的伸缩气囊，且每个伸缩气囊上端均与对应的永磁柱下端固定连接，每个所述永磁柱上均水平均匀开设有多个吹气孔，每个所述永磁柱上均开设有单向排气通道，且对应的多个所述吹气孔相互靠近的一端均与对应单向排气通道上端连通，每个所述单向排气通道下端均与对应的伸缩气囊上端连通。

优选地，每个所述伸缩气囊下端侧壁均连通设有单向进气管，每个所述单向排气通道与单向进气管内均分别安装有第一单向阀和第二单向阀。

本发明的有益效果：

1、本发明中，通过设置电磁铁与永磁柱，利用电磁铁与永磁柱的斥力，既能够缓冲使用者脚底部的疼痛感，又能够根据自身需求调节斥力大小，从而获得不同程度的按摩体验，使用效果好。

2、本发明中，通过控制开关，能够很容易的改变电磁铁的极性，从而将永磁柱稳定的束缚到滑槽和安装槽内，进而使得使用者可以很方便的对足底按摩垫进行清理。

3、本发明中，通过设置伸缩气囊，在炎热的夏季，本装置使用时，当永磁柱受压向下运动时，伸缩气囊内的气体通过吹气孔排出，从而可以对使用者的脚底部进行散热，同时加快汗液的蒸发，进而提高足底按摩的效果。

综上所述，本发明使用时使用者能够根据自身需求调节永磁柱对足底的抵力，从而极大的缓解了使用者按摩时足底的疼痛感，且选择性更多，同时本装置使用后进行清理也极其方便，进一步的本装置使用时，能够自动对足底进行散热处理，进而提高足底按摩的效果。

附图说明

图1为本发明提出的一种易清洁可调式足底按摩垫实施例1的结构示意图；

图2为本发明提出的一种易清洁可调式足底按摩垫实施例2的结构示意图；

图3为图2中A处放大图。

图中：1壳体、2安装槽、3电磁铁、4滑槽、5限位槽、6限位环、7永磁柱、8控制开关、9伸缩气囊、10单向排气通道、11吹气孔、12单向进气管。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

实施例1

参照图1，一种易清洁可调式足底按摩垫，包括壳体1，壳体1上开设有安装槽2，安装槽2内底壁上固定设有电磁铁3，壳体1上端面均匀开设有多个将安装槽2与外界连通的滑槽4，每个滑槽4槽壁上均开设有限位槽5，每个限位槽5内均滑动连接有限位环6，每个限位环6上均固定连接有永磁柱7，且每个永磁柱7均与对应滑槽4的槽壁密封滑动连接，在限位槽5与限位环6的限位作用下，可以保证永磁柱7运行的平稳性，壳体1上设有控制开关8，且控制开关8输出端通过导线与电磁铁3电性连接，控制开关8的输入端通过导线与外界供电端子电性连接，控制开关8内设有控制电路，通过控制开关8可以改变电磁铁3的输入电流大小以及电磁铁3的输入电流的极性，此部分电学知识为现有的技术，在此不做赘述。

本实施例使用时，初始状态时，通过控制开关8对电磁铁3供电，电磁铁3激发磁场，且电磁铁3上端磁极与多个永磁柱7下端磁极相同，则多个永磁柱7受到电磁铁3的斥力作用凸出壳体1；

当使用者脚底踩踏在永磁柱7上时，永磁柱7在使用者重力的作用下，会向下沉降，从而起到缓冲的作用，能够缓解脚底部的疼痛感，而永磁柱7在电磁铁3的斥力作用下会与使用者脚底部相抵，从而起到足底按摩的作用，同时使用者可以通过控制开关8调节电磁铁3的输入电流大小，从而改变电磁铁3与永磁柱7之间的斥力大小，从而获得不同程度的按摩体验，使用效果好；

当需要对按摩垫进行清理时，可以通过控制开关8切换电磁铁3的电流输入极性，则电磁铁3上端极性与永磁柱7下端极性想反，则多个永磁柱7受到电磁铁3的磁性吸引力向下运动，从而使得多个永磁柱7能够稳定的收纳至滑槽4和安装槽2内，并且使得多个永磁柱7上端面与壳体1上端面相平，使用者可以很方便的对足底按摩垫进行清理。

实施例2

本实施与实施例1不同之处在于：电磁铁3上端面均匀连接有多个与永磁柱7对应的伸缩气囊9，且每个伸缩气囊9上端均与对应的永磁柱7下端固定连接，每个永磁柱7上均水平均匀开设有多个吹气孔11，每个永磁柱7上均开设有单向排气通道10，且对应的多个吹气孔11相互靠近的一端均与对应单向排气通道10上端连通，每个单向排气通道10下端均与对应的伸缩气囊9上端连通，每个伸缩气囊9下端侧壁均连通设有单向进气管12，每个单向排气通道10与单向进气管12内均分别安装有第一单向阀和第二单向阀，第一单向阀只允许伸缩气囊9内的气体或者液体经过单向排气通道10进入出气孔11，第二单向阀只允许外界气体或者液体经过单向进气管12进入伸缩气囊9内。

在炎热的夏季，使用者使用足底按摩垫按摩时，脚底部很容易出汗导致足底较湿滑，或者对于一些易出汗体质的人群来说，进行足底按摩时，足底也极易出汗，从而极大的影响足底按摩的效果，本实施例使用时，当使用者脚部踩踏永磁柱7，永磁柱7向下运动时，永磁柱7会挤压对应伸缩气囊9，伸缩气囊9内的气体通过单向排气通道10进入吹气孔11，从而可以对使用者的脚底部进行散热，同时加快汗液的蒸发，进而提高足底按摩的效果，当脚部离开永磁柱7时，在永磁柱7与电磁铁3之间的斥力以及伸缩气囊9的弹力作用下，伸缩气囊9恢复，同时外界气体通过单向进气管12进入伸缩气囊9内。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种易清洁可调式足底按摩垫，包括壳体(1)，其特征在于，所述壳体(1)上开设有安装槽(2)，所述安装槽(2)内设有电磁铁(3)，所述壳体(1)上端面均匀开设有多个将安装槽(2)与外界连通的滑槽(4)，每个所述滑槽(4)槽壁上均开设有限位槽(5)，每个所述限位槽(5)内均滑动连接有限位环(6)，每个所述限位环(6)上均固定连接有永磁柱(7)，且每个永磁柱(7)均与对应滑槽(4)的槽壁密封滑动连接，所述壳体(1)上设有控制开关(8)，且控制开关(8)输出端通过导线与电磁铁(3)电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种易清洁可调式足底按摩垫，其特征在于，所述电磁铁(3)上端面均匀连接有多个与永磁柱(7)对应的伸缩气囊(9)，且每个伸缩气囊(9)上端均与对应的永磁柱(7)下端固定连接，每个所述永磁柱(7)上均水平均匀开设有多个吹气孔(11)，每个所述永磁柱(7)上均开设有单向排气通道(10)，且对应的多个所述吹气孔(11)相互靠近的一端均与对应单向排气通道(10)上端连通，每个所述单向排气通道(10)下端均与对应的伸缩气囊(9)上端连通。

3.根据权利要求2所述的一种易清洁可调式足底按摩垫，其特征在于，每个所述伸缩气囊(9)下端侧壁均连通设有单向进气管(12)，每个所述单向排气通道(10)与单向进气管(12)内均分别安装有第一单向阀和第二单向阀。

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