CN111381438A - 化学增幅型正型感光性树脂组成物及其应用 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，其包括树脂(A)、光酸产生剂(B)及溶剂(C)。本发明更包括应用此化学增幅型正型感光性树脂组成物所制得的保护膜，及包括此保护膜的组件。此保护膜具有良好的感度及耐化性，且可应用于薄膜晶体管基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材。

Description

化学增幅型正型感光性树脂组成物及其应用
技术领域
本发明有关于一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，及由其形成的保护膜、及具有保护膜的组件。其中，特别是提供一种曝光、显影后形成感度佳、耐化性佳等特性的保护膜用正型感光性树脂组成物。此保护膜适用于液晶显示组件、有机EL显示组件等的薄膜晶体管(Thin Film Transistor；TFT)基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材。
背景技术
薄膜晶体管型液晶显示组件或有机电致发光组件(organicelectroluminescence device，有机EL组件)等显示组件，通常包括层间绝缘膜或平坦化膜等绝缘膜。此种绝缘膜通常使用感放射线性组成物来形成。就图案化性能的观点而言，习知多使用利用萘醌二叠氮化物(naphthoquinone diazide)等酸产生剂的正型感放射线性树脂组成物(参照日本专利特开2001-354822号公报)，做为此种感放射线性组成物，但近年来提出了多种感放射线性组成物。
举例而言，提出了一种正型化学增幅材料，其目的在于：以较使用萘醌二叠氮化物等酸产生剂的前述正型感放射线性树脂组成物具有更高的感度，来形成显示组件用的硬化膜(参照日本专利特开2004-4669号公报)。所述正型化学增幅材料含有交联剂、酸产生剂及酸解离性树脂。酸解离性树脂具有可利用酸的作用而解离的保护基，虽然酸解离性树脂本身不溶或者难溶于碱性水溶液中，但通过利用酸的作用，使保护基解离而变得可溶于碱性水溶液中。另外，也提出了含有具有缩醛结构及/或缩酮结构以及环氧基的树脂及酸产生剂的正型感放射线性组成物(参照日本专利特开2004-264623号公报、日本专利特开2011-215596号公报以及日本专利特开2008-304902号公报)。
这些感放射线性树脂组成物中，除了高的放射线感度以外，还需要求即便长期保存，黏度也不会变化的保存稳定性，进而使这些感放射线性树脂组成物形成的硬化膜，可达到不因显影液等而膨润的耐化性。进而，所述硬化膜形成的图案也可达到：在显影后，图案与基板充分密合而难以剥离；硬化膜具有足够的透明性；以及，即便在曝光后进行放置的情况下，图案也与基板充分密合而难以剥离。
然而，目前的感光性树脂组成物的感度、耐化性仍无法令业界所接受。
发明内容
本发明的一个态样在于提出一种化学增幅型正型感光性树脂组成物。在一些实施例中，此化学增幅型正型感光性树脂组成物可包含树脂(A)、光酸产生剂(B)和溶剂(C)，以下详述之。
树脂(A)
树脂(A)是由混合物所共聚合而得。此混合物至少包括聚合性单体以及具有特定结构的硫醇化合物。所述聚合性单体包括不饱和羧酸单体(a-1)、具特定结构的含酸解离性基的单体(a-2)，以及单体(a-1)、单体(a-2)以外的其他不饱和单体(a-3)。
聚合性单体
不饱和羧酸单体(a-1)
本发明的不饱和羧酸单体(a-1)是指包含羧酸基或羧酸酐结构及聚合结合用的不饱和键的化合物，其结构并无特别限制，可包括但不限于不饱和单羧酸化合物、不饱和二羧酸化合物、不饱和酸酐化合物、多环型不饱和羧酸化合物、多环型不饱和二羧酸化合物、多环型不饱和酸酐化合物。
前述不饱和单羧酸化合物的具体例如：(甲基)丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、乙基丙烯酸、肉桂酸、2-(甲基)丙烯酰乙氧基丁二酸酯、2-(甲基)丙烯酰乙氧基六氢化苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯酰乙氧基苯二甲酸酯、omega-羧基聚己内酯多元醇单丙烯酸酯(商品名为ARONIX M-5300，东亚合成制)。
前述不饱和二羧酸化合物的具体例如：马来酸、富马酸、甲基富马酸、衣康酸、柠康酸等。于本发明的具体例中，不饱和二羧酸酐化合物为前述不饱和二羧酸化合物的酸酐化合物。
前述多环型不饱和羧酸化合物的具体例如：5-羧基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-乙基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-乙基双环[2.2.1]庚-2-烯。
前述多环型不饱和二羧酸化合物的具体例如：5,6-二羧酸二环[2.2.1]庚-2-烯。
前述多环型不饱和二羧酸酐化合物为前述多环型不饱和二羧酸化合物的酸酐化合物。
上述不饱和羧酸单体(a-1)的较佳具体例为丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐、2-甲基丙烯酰乙氧基丁二酸酯、2-甲基丙烯酰基乙氧基六氢化苯二甲酸或其组合。
上述不饱和羧酸单体(a-1)可单独或混合复数种使用。基于聚合性单体的使用量100重量份，不饱和羧酸单体(a-1)的使用量为1重量份至50重量份；较佳为3重量份至40重量份；更佳为5重量份至30重量份。
含酸解离性基的单体(a-2)
本发明的含酸解离性基的单体(a-2)具有如下式(1)所示的酸解离性基。
Figure BDA0002313502020000031
含酸解离性基的单体(a-2)的酸解离性基，在曝光时借由自后述的光酸产生剂(B)产生的酸的作用而解离，并产生极性基，因此原本不溶或难溶于碱水溶液的树脂(A)变成对碱水溶液具可溶性。
所述含酸解离性基的单体(a-2)只要具有如式(1)的结构，则无特别限定。此含式(1)的酸解离性基的单体(a-2)可借由酸而容易解离。在上述式(1)中，R1和R2各自独立为氢原子、烷基、脂环式烃基或芳基，其中烷基、脂环式烃基或芳基所具有的氢原子的一部分或全部可被取代；而且，R1及R2不同时为氢原子；R3为烷基、脂环式烃基、芳烷基或者芳基；其中R3的烷基、脂环式烃基、芳烷基及芳基所具有的氢原子的一部分或全部可被取代；R1与R3可连结而形成环状醚结构。例如：R1与R3可相互键结而与R1所键结的碳原子以及R3所键结的氧原子一起形成环状醚结构。
上述R1及R2所表示的脂环式烃基例如可列举：碳数为3至20的脂环式烃基等。另外，此碳数为3至20的脂环式烃基可以是多环。上述碳数为3至20的脂环式烃基例如可列举：环丙基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、冰片基、降冰片基、金刚烷基等。
上述R1及R2所表示的芳基例如可列举：碳数为6至14的芳基等。上述碳数为6至14的芳基可以是单环，也可以是单环链接而成的结构，还可以是缩合环。上述碳数为6至14的芳基例如可列举：苯基、萘基等。
上述R1及R2所表示的可经取代的烷基、脂环式烃基以及芳基的取代基例如可列举：卤素原子、羟基、硝基、氰基、羧基、羰基、脂环式烃基(例如环丙基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、冰片基、降冰片基、金刚烷基等)、芳基(例如苯基、萘基等)、烷氧基(例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、正丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基等碳数为1至20的烷氧基等)、酰基(例如乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基等碳数为2至20的酰基等)、酰氧基(例如乙酰氧基、丙酰氧基、丁酰氧基、第三丁酰氧基、第三戊酰氧基等碳数为2至10的酰氧基等)、烷氧基羰基(例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基等碳数为2至20的烷氧基羰基)、卤代烷基(例如甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正辛基、正十二烷基、正十四烷基、正十八烷基等直链状烷基，异丙基、异丁基、第三丁基、新戊基、2-己基、3-己基等分支状烷基等烷基；环丙基、环丁基、环戊基、降冰片基、金刚烷基等脂环式烃基，将上述基团的一部分或者全部的氢原子经卤素原子取代而得的基团)、羟基烷基(例如羟基甲基等)等。
上述R3所表示的烷基、脂环式烃基、芳基可应用上述R1及R2所表示的各基团的说明。此外，上述烷基较佳为碳数为1至6的烷基，更佳为甲基、乙基以及正丙基。上述R3所表示的芳烷基可列举：苄基、苯乙基、萘基甲基、萘基乙基等。
上述R1与R3可相互键结而形成的环状醚结构，较佳为环员数3至20的环状醚结构，更佳为环员数5至8的环状醚结构，又更佳为四氢呋喃以及四氢吡喃。
上述式(1)所表示的基团例如可列举下述式所表示的基团等。
Figure BDA0002313502020000041
上述含酸解离性基的单体(a-2)例如可列举：甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸1-甲氧基乙酯、甲基丙烯酸1-正丁氧基乙酯、甲基丙烯酸1-异丁氧基乙酯、甲基丙烯酸1-第三丁氧基乙酯、甲基丙烯酸1-(2-氯乙氧基)乙酯、甲基丙烯酸1-(2-乙基己氧基)乙酯、甲基丙烯酸1-正丙氧基乙酯、甲基丙烯酸1-环己氧基乙酯、甲基丙烯酸1-(2-环己基乙氧基)乙酯、甲基丙烯酸1-苄氧基乙酯、甲基丙烯酸2-四氢吡喃基酯、甲基丙烯酸四氢糠酯(tetrahydrofurfuryl methacrylate)、丙烯酸1-乙氧基乙酯、丙烯酸1-甲氧基乙酯、丙烯酸1-正丁氧基乙酯、丙烯酸1-异丁氧基乙酯、丙烯酸1-第三丁氧基乙酯、丙烯酸1-(2-氯乙氧基)乙酯、丙烯酸1-(2-乙基己氧基)乙酯、丙烯酸1-正丙氧基乙酯、丙烯酸1-环己氧基乙酯、丙烯酸1-(2-环己基乙氧基)乙酯、丙烯酸1-苄氧基乙酯、丙烯酸2-四氢吡喃基酯、5,6-二(1-甲氧基乙氧基羰基)-2-降冰片烯、5,6-二(1-(环己氧基)乙氧基羰基)-2-降冰片烯、5,6-二(1-(苄氧基)乙氧基羰基)-2-降冰片烯、对-1-乙氧基乙氧基苯乙烯或间-1-乙氧基乙氧基苯乙烯、对-1-甲氧基乙氧基苯乙烯或间-1-甲氧基乙氧基苯乙烯、对-1-正丁氧基乙氧基苯乙烯或间-1-正丁氧基乙氧基苯乙烯、对-1-异丁氧基乙氧基苯乙烯或间-1-异丁氧基乙氧基苯乙烯、对-1-(1,1-二甲基乙氧基)乙氧基苯乙烯或间-1-(1,1-二甲基乙氧基)乙氧基苯乙烯、对-1-(2-氯乙氧基)乙氧基苯乙烯或间-1-(2-氯乙氧基)乙氧基苯乙烯、对-1-(2-乙基己氧基)乙氧基苯乙烯或间-1-(2-乙基己氧基)乙氧基苯乙烯、对-1-正丙氧基乙氧基苯乙烯或间-1-正丙氧基乙氧基苯乙烯、对-1-环己氧基乙氧基苯乙烯或间-1-环己氧基乙氧基苯乙烯、对-1-(2-环己基乙氧基)乙氧基苯乙烯或间-1-(2-环己基乙氧基)乙氧基苯乙烯、对-1-苄氧基乙氧基苯乙烯或间-1-苄氧基乙氧基苯乙烯等。
含酸解离性基的单体(a-2)较佳为甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸1-正丁氧基乙酯、甲基丙烯酸2-四氢吡喃基酯、甲基丙烯酸1-苄氧基乙酯、甲基丙烯酸1-环己氧基乙酯、甲基丙烯酸四氢糠酯，更佳为甲基丙烯酸2-四氢吡喃基酯和甲基丙烯酸四氢糠酯。
基于所述聚合性单体的总使用量为100重量份，含酸解离性基的单体(a-2)的使用量为5重量份至90重量份，较佳为10重量份至80重量份，更佳为15重量份至70重量份。若无使用含酸解离性基的单体(a-2)时，会有感度和耐化性不佳的问题。
其他不饱和单体(a-3)
本发明的其他不饱和单体(a-3)是指单体(a-1)和单体(a-2)以外的不饱和单体。在一些实施例中，此其他不饱和单体(a-3)包括含环氧基的不饱和单体(a-3-1)、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸脂环族酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、(甲基)丙烯酸羟烷酯、(甲基)丙烯酸酯的聚醚、芳香乙烯化合物及前述以外的其他不饱和化合物。
含环氧基的不饱和单体(a-3-1)
所述含环氧基的不饱和单体(a-3-1)可包括但不限于含环氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物、含环氧基的α-烷基丙烯酸酯化合物、环氧丙醚化合物、如式(4)所示的具有氧杂环丁烷基的乙烯性不饱和单体，及上述的任意组合。
Figure BDA0002313502020000061
于式(4)中，R8代表氢原子或碳数为1至4的烷基；R9代表氢原子或碳数为1至4的烷基；R10、R11、R12及R13分别独立地代表氢原子、氟原子、苯基、碳数为1至4的烷基或碳数为1至4的全氟烷基；且a代表1至6的整数。
前述含环氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物的具体例如：(甲基)丙烯酸环氧丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基环氧丙酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧丁酯、(甲基)丙烯酸6,7-环氧庚酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯。
前述含环氧基的α-烷基丙烯酸酯化合物的具体例如：α-乙基丙烯酸环氧丙酯、α-正丙基丙烯酸环氧丙酯、α-正丁基丙烯酸环氧丙酯、α-乙基丙烯酸6,7-环氧庚酯。
前述环氧丙醚化合物的具体例如：邻-乙烯基苯甲基环氧丙醚(o-vinylbenzylglycidylether)、间-乙烯基苯甲基环氧丙醚(m-vinylbenzylglycidylether)、对-乙烯基苯甲基环氧丙醚(p-vinylbenzylglycidylether)。
前述如式(4)所示的具有氧杂环丁烷基的乙烯性不饱和单体的具体例可包含但不限于甲基丙烯酸酯类化合物、丙烯酸酯类化合物或具有如下式(4-1)至式(4-4)所示的结构的不饱和单体。
前述的甲基丙烯酸酯类化合物可包含但不限于3-(甲基丙烯酰氧基甲基)氧杂环丁烷[3-(methacryloyloxymethyl)oxetane；OXMA]、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-3-乙基氧杂环丁烷[3-(methacryloyloxymethyl)-3-ethyloxetane；EOXMA]、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-3-甲基氧杂环丁烷[3-(methacryloyloxymethyl)-3-methyloxetane；MOXMA]、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-甲基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-三氟甲基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-五氟乙基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2-苯基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2,2-二氟氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2,2,4-三氟氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-2,2,4,4-四氟氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-3-乙基氧杂环丁烷、2-乙基-3-(甲基丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-2-三氟甲基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-2-五氟乙基氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-2-苯基氧杂环丁烷、2,2-二氟-3-(甲基丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-2,2,4-三氟氧杂环丁烷或3-(甲基丙烯酰氧基乙基)-2,2,4,4-四氟氧杂环丁烷等的化合物。
上述的丙烯酸酯类化合物可包含但不限于3-(丙烯酰氧基甲基)氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-3-乙基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-3-甲基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2-甲基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2-三氟甲基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2-五氟乙基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2-苯基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2,2-二氟氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2,2,4-三氟氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基甲基)-2,2,4,4-四氟氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基乙基)-3-乙基氧杂环丁烷、2-乙基-3-(丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基乙基)-2-三氟甲基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基乙基)-2-五氟乙基氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基乙基)-2-苯基氧杂环丁烷、2,2-二氟-3-(丙烯酰氧基乙基)氧杂环丁烷、3-(丙烯酰氧基乙基)-2,2,4-三氟氧杂环丁烷或3-(丙烯酰氧基乙基)-2,2,4,4-四氟氧杂环丁烷等的化合物。
前述具有如式(4-1)至式(4-4)所示的结构的不饱和单体如下所示。
Figure BDA0002313502020000081
在一些实施例中，所述含环氧基的不饱和单体(a-3-1)可更包含其他具有氧杂环丁烷基的乙烯性不饱和单体，如：3-甲基-3-(乙烯氧基甲基)氧杂环丁烷[3-methyl-3-(vinyloxymethyl)oxetane；MOXV]、3-乙基-3-(乙烯氧基甲基)氧杂环丁烷[3-ethyl-3-(vinyloxymethyl)oxetane；EOXV]、3-丙基-3-(乙烯氧基甲基)氧杂环丁烷、3-甲基-3-(2-乙烯氧基乙基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(2-乙烯氧基乙基)氧杂环丁烷、3-丙基-3-(2-乙烯氧基乙基)氧杂环丁烷、3-甲基-3-(3-乙烯氧基丙基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(3-乙烯氧基丙基)氧杂环丁烷、3-丙基-3-(3-乙烯氧基丙基)氧杂环丁烷、3-甲基-3-(3-乙烯氧基丁基)氧杂环丁烷、3-乙基-3-(3-乙烯氧基丁基)氧杂环丁烷、3-丙基-3-(3-乙烯氧基丁基)氧杂环丁烷、乙二醇[(3-乙基-3-氧杂环丁基)甲基]乙烯基醚、丙二醇[(3-乙基-3-氧杂环丁基)甲基]乙烯基醚或3,3-双[(乙烯氧基)甲基]氧杂环丁烷等的具有氧杂环丁烷基的乙烯基醚化合物。
基于所聚合性单体的总使用量为100重量份，所述含环氧基的不饱和单体(a-3-1)的使用量为5重量份至80重量份，较佳为10重量份至75重量份，更佳为15重量份至70重量份。若使用含环氧基的不饱和单体(a-3-1)，可进一步改善耐化性。
前述(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸二级丁酯、(甲基)丙烯酸三级丁酯。
前述(甲基)丙烯酸脂环族酯的具体例如：(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸-2-甲基环己酯、三环[5.2.1.02，6]癸-8-基(甲基)丙烯酸酯(或称为(甲基)丙烯酸双环戊酯)、(甲基)丙烯酸二环戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸四氢呋喃酯。
前述(甲基)丙烯酸芳基酯的具体例如：(甲基)丙烯酸苯基酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯。
前述不饱和二羧酸二酯的具体例如马来酸二乙酯、富马酸二乙酯、衣康酸二乙酯。
前述(甲基)丙烯酸羟烷酯的具体例如：(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟基丙酯。
前述(甲基)丙烯酸酯的聚醚的具体例如：聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯。
前述芳香乙烯化合物的具体例如：苯乙烯、α-甲基苯乙烯、间-甲基苯乙烯、对-甲基苯乙烯、对-甲氧基苯乙烯。
前述以外的其他不饱和化合物的具体例如：丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙烯乙酯、1,3-丁二烯、异戊二烯、2,3-二甲基1,3-丁二烯、N-环己基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-芐基马来酰亚胺,N-丁二酰亚胺基-3-马来酰亚胺苯甲酸酯、N-丁二酰亚胺基-4-马来酰亚胺丁酸酯、N-丁二酰亚胺基-6-马来酰亚胺己酸酯、N-丁二酰亚胺基-3-马来酰亚胺丙酸酯、N-(9-吖啶基)马来酰亚胺。
上述其他不饱和单体(a-3)可单独或混合复数种使用。基于所述聚合物单体的总使用量为100重量份，所述其他不饱和单体(a-3)的使用量为5重量份至94重量份，较佳为10重量份至87重量份，更佳为15重量份至80重量份。
硫醇化合物
本发明的合成树脂(A)用的混合物包含硫醇化合物，其具有如下式(2)所式的结构。
X-R4-SH 式(2)
于式(2)中，X表示酯基、羟基、胺基或烷氧基硅烷基(alkoxysily group)，且R4表示经取代或未经取代的伸烷基或伸芳基。
R4的伸烷基可以是直链状、支链状或环状的伸烷基。直链状的伸烷基的例子包括：伸甲基、伸乙基、伸正丙基、伸正丁基、伸正戊基和伸正己基。支链状的伸烷基的例子包括伸异丙基和2-乙基伸己基。环状的伸烷基的例子包括伸环丙基以及伸环丁基。此外，所述伸烷基可具有取代基。从使本发明具有良好的效果的观点而言，伸烷基较佳具有1至20个碳原子，更佳地，可具有2至18个碳原子。
R4的伸芳基的例子包括伸苯基、伸甲苯基、伸二甲苯基(xylene)、伸萘基，以及伸联苯基。所述伸芳基可具有取代基。
X的酯基的例子包括式(2-1)或式(2-2)所示基团：
Figure BDA0002313502020000101
于式(2-1)中，R14表示烷基或芳基；或者
Figure BDA0002313502020000102
于式(2-2)中，R15表示氢原子、烷基或芳基。
上述R14或R15的烷基可以是直链状、支链状或环状的烷基。直链状烷基的例子包括：甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基和正己基。支链状烷基的例子包括异丙基、异丁基，以及2-乙基己基。环状烷基的例子包括环丙基以及环丁基。此外，所述烷基可以具有取代基。从使本发明具有良好的效果的观点而言，烷基较佳具有1至20个碳原子，更佳地，可具有2至18个碳原子。
上述R14或R15的芳基的例子包含苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基，以及联苯基。所述芳基可以是取代所述基团的氢原子而形成的基团。
X的胺基的例子包括式(2-3)所示基团：
Figure BDA0002313502020000111
于式(2-3)中，R16和R17各自表示氢原子、烷基或芳基，且R16和R17可以形成环状结构。
R16和R17的烷基和芳基的例子包括在R14或R15所提该些烷基和芳基的例子。而在R16和R17形成环状结构的情况中，R16和R17可例如通过与如式(2-3)中所示N形成吡咯环。从使本发明具有良好的效果的观点而言，烷基较佳具有1至12个碳原子，且更佳为具有1至4个碳原子；而芳基较佳为具有6至18个碳原子，且更佳为具有6至8个碳原子。
X的烷氧基硅烷基的例子包括式(2-4)所示基团：
(R18O)p(R19)3-pSi─ 式(2-4)
于式(2-4)中，R18表示烷基，R19表示氢原子或烷基，且p表示1至3的整数。
R18或R19的烷基的例子包括在R14或R15所提的该些烷基的例子。从使本发明具有良好的效果的观点而言，此烷基较佳具有1至12个碳原子，且更佳为具有1至4个碳原子。
式(2)所示化合物的具体例子包括：其中X是酯基的化合物例如3-巯基丙酸2-乙基己酯和辛酸2-巯基乙酯；其中X是羟基的化合物例如9-巯基-1-壬醇和11-巯基-1-十一醇；其中X是胺基的化合物例如11-胺基-1-十一硫醇和1H-吡咯-1-十一硫醇；以及，其中X是烷氧基硅烷基的化合物例如3-巯基丙基三乙氧基硅烷和3-巯基丙基(二甲氧基)甲基硅烷。
基于所述聚合性单体的总使用量为100重量份，所述具有式(2)的结构的硫醇化合物的使用量为1重量份至15重量份，较佳为1.5重量份至14重量份，更佳为2重量份至12重量份。若无使用具有式(2)结构的硫醇化合物时，会有感度不佳的问题。
树脂(A)的合成方法
可例如通过使用自由基聚合起始剂，使与既定的结构单元对应的单体在适当的溶剂中进行聚合，以制造树脂(A)。例如较佳为利用以下方法来合成：将含有单体及自由基聚合起始剂的溶液，滴加于含有反应溶剂或单体的溶液中而进行聚合反应的方法；将含有单体的溶液，以及含有自由基聚合起始剂的溶液，分别滴加于含有反应溶剂或单体的溶液中而进行聚合反应的方法；将含有各单体的多种溶液，以及含有自由基聚合起始剂的溶液，分别滴加于含有反应溶剂或单体的溶液中而进行聚合反应的方法等。
树脂(A)的聚合反应中使用的溶剂例如可列举与后述溶剂(C)所示者相同的溶剂等。
可使用常见的自由基聚合起始剂，做为聚合反应用的聚合起始剂，例如可列举：2,2’-偶氮双-2-甲基丁腈、2,2'-偶氮双异丁腈、2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮双-(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮双(2-甲基丙酸甲酯)等偶氮化合物；苯甲酰基过氧化物、月桂酰基过氧化物、第三丁基过氧化三甲基乙酸酯、1,1'-双-(第三丁基过氧化)环己烷等有机过氧化物；过氧化氢等。
树脂(A)的聚合反应中，为了调整分子量，使用上述具有式(2)的结构的硫醇化合物作为分子量调整剂，但在不影响整体物性的前提下，亦可适量使用其他的分子量调整剂，该其他的分子量调整剂例如可列举：氯仿、四溴化碳、正己基硫醇、正辛基硫醇、正十二烷基硫醇、异十二烷基硫醇(tert-dodecyl mercaptan)、巯基乙酸(thioglycolic acid)、3-巯基丙酸等。使用具有式(2)结构的硫醇化合物做为分子量调整剂时，感度较佳。
树脂(A)的利用胶体渗透层析法(Gel Penetration Chromatography，GPC)而得的聚苯乙烯换算重量平均分子量(Mw)为4000至38000，较佳为5000至28000，更佳为6000至18000。
光酸产生剂(B)
光酸产生剂(B)是通过放射线的照射而产生酸的化合物，可使用选自下述式(3)所表示的肟磺酸酯基的化合物，以及N-磺酰氧基酰亚胺化合物中的至少一种。所述放射线可使用例如可见光线、紫外线、远紫外线、电子束、X射线等。由于本发明的化学增幅型正型感光性树脂组成物含有光酸产生剂(B)，使得化学增幅型正型感光性树脂组成物可发挥感放射线(或称感光)的特性，且可具有良好的放射线感度。做为所述化学增幅型正型感光性树脂组成物中的光酸产生剂(B)，如后所述可以是化合物的形态，也可以是做为构成树脂(A)的聚合物的一部分而并入树脂(A)的形态，也可以是此二种形态的结合。此些光酸产生剂(B)可单独使用，也可以并用2种以上。
光酸产生剂(B)除了含有包含肟磺酸酯基的肟磺酸酯化合物、N-磺酰氧基酰亚胺化合物以外，还可以含有：鎓盐、含卤素的化合物、重氮甲烷化合物、砜化合物、磺酸酯化合物、羧酸酯化合物等。
所述肟磺酸酯化合物为包含如下式(3)的肟磺酸酯基的化合物。
Figure BDA0002313502020000131
于式(3)中，R5为碳数为1至20的烷基、一价的脂环式烃基、芳基，或是上述基团(烷基、一价的脂环式烃基、芳基)所具有的氢原子被部分或全部取代的基团；以及，*为键结处。
所述R5所表示的烷基较佳为碳数为1至12的直链状或分支状的烷基。
所述R5所表示的一价脂环式烃基较佳为碳数为4至12的脂环式烃基。
所述R5所表示的芳基较佳为碳数为6至20的芳基，更佳为苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基。
所述取代基例如可列举：碳数为1至5的烷基、烷氧基、侧氧基、卤素原子等。
含有式(3)所表示的肟磺酸酯基的化合物例如可列举下述式(3-1)至式(3-3)所表示的肟磺酸酯化合物等。
Figure BDA0002313502020000132
所述式(3-1)至式(3-3)中，R6与结构式(3)的R5为相同含义。所述式(3-1)及式(3-2)中，R7为碳数为1至12的烷基、碳数为1至12的氟烷基。式(3-3)中，X为烷基、烷氧基、或者卤素原子。i为0至3的整数。其中，在i为2或3的情况下，多个X可相同，亦可不同。
所述X所表示的烷基较佳为碳数为1至4的直链状或分支状的烷基。所述X所表示的烷氧基较佳为碳数为1至4的直链状或分支状的烷氧基。所述X所表示的卤素原子较佳为氯原子、氟原子。
所述式(3-3)所表示的肟磺酸酯化合物例如可列举下述式(3-4)至式(3-7)所表示的化合物等。
Figure BDA0002313502020000141
所述式(3-4)至式(3-7)所表示的化合物分别为：(5-丙基磺酰氧基亚胺基-5H-噻吩-2-亚基)-(2-甲基苯基)乙腈、(5-辛基磺酰氧基亚胺基-5H-噻吩-2-亚基)-(2-甲基苯基)乙腈、(5-樟脑磺酰氧基亚胺基-5H-噻吩-2-亚基)-(2-甲基苯基)乙腈、(5-对甲苯磺酰氧基亚胺基-5H-噻吩-2-亚基)-(2-甲基苯基)乙腈。
所述含有式(3)所表示的肟磺酸酯基的化合物例如可列举2-(辛基磺酰氧基亚胺基)-2-(4-甲氧基苯基)乙腈、4-甲基苯基磺酰氧基亚胺基-α-(4-甲氧基苯基)乙腈。
所述肟磺酸酯化合物可使用市售的上述化合物。
上述N-磺酰氧基酰亚胺化合物例如可列举：N-(三氟甲基磺酰氧基)丁二酰亚胺、N-(樟脑磺酰氧基)丁二酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)丁二酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)丁二亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)丁二酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(樟脑磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(2-氟苯基磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)二苯基顺丁烯二酰亚胺、N-(樟脑磺酰氧基)二苯基顺丁烯二酰亚胺、(4-甲基苯基磺酰氧基)二苯基顺丁烯二酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)二苯基顺丁烯二酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)二苯基顺丁烯二酰亚胺、N-(苯基磺酰氧基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(三氟甲磺酰氧基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(九氟丁磺酰氧基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(樟脑磺酰氧基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(樟脑磺酰氧基)-7-氧杂双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)-7-氧杂双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)-7-氧杂双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)-7-氧杂双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)-7-氧杂双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧基酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)双环[2.2.1]庚烷-5,6-氧基-2,3-二羧基酰亚胺、N-(樟脑磺酰氧基)双环[2.2.1]庚烷-5,6-氧基-2,3-二羧基酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)双环[2.2.1]庚烷-5,6-氧基-2,3-二羧基酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)双环[2.2.1]庚烷-5,6-氧基-2,3-二羧基酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)双环[2.2.1]庚烷-5,6-氧基-2,3-二羧基酰亚胺、N-(三氟甲基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺(N-((trifluoromethylsulfonyl)oxy)naphthalene dicarboximide)、N-(樟脑磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(4-甲基苯基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(苯基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(2-三氟甲基苯基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(4-氟苯基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(五氟乙基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(七氟丙基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(九氟丁基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(乙基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(丙基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(丁基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(戊基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(己基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(庚基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(辛基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺、N-(壬基磺酰氧基)萘二甲酰亚胺等。
所述鎓盐、含卤素的化合物、重氮甲烷化合物、砜化合物、磺酸酯化合物、羧酸酯化合物等可使用日本专利特开2011-232632号公报中记载的化合物。例如：苄基(4-羟苯基)甲基硫鎓六氟锑酸盐。
光酸产生剂(B)较佳为所述式(3)所表示的肟磺酸酯化合物中的所述式(3-4)至式(3-8)所表示的化合物。另外，较佳的，光酸产生剂(B)也包含N-磺酰氧基酰亚胺化合物。
基于所述树脂(A)的总使用量为100重量份，所述光酸产生剂(B)的使用量为0.2重量份至5重量份，较佳为0.3重量份至4.5重量份，更佳为0.4重量份至4重量份。若化学增幅型正型感光性树脂组成物中含有式(3)的肟磺酸酯基的化合物做为所述光酸产生剂(B)，可进一步改善感度。
溶剂(C)
本发明的溶剂(C)的种类没有特别的限制。溶剂(C)的具体例为含醇式羟基(alcoholic hydroxy)的化合物或含羰基(carbonyl group)的环状化合物等。
含醇式羟基的化合物的具体例为丙酮醇(acetol)、3-羟基-3-甲基-2-丁酮(3-hydroxy-3-methyl-2-butanone)、4-羟基-3-甲基-2-丁酮(4-hydroxy-3-methyl-2-butanone)、5-羟基-2-戊酮(5-hydroxy-2-pentanone)、4-羟基-4-甲基-2-戊酮(4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone)(亦称为二丙酮醇(diacetone alcohol，简称DAA))、乳酸乙酯(ethyl lactate)、乳酸丁酯(butyl lactate)、丙二醇单甲醚propylene glycolmonomethyl ether)、丙二醇单乙醚(propylene glycol monoethyl ether，简称PGEE)、丙二醇甲醚醋酸酯(propylene glycol monomethyl ether acetate，简称PGMEA)、丙二醇单正丙醚(propylene glycol mono-n-propyl ether)、丙二醇单正丁醚(propylene glycolmono-n-butyl ether)、丙二醇单第三丁醚(propylene glycol mono-t-butyl ether)、二乙二醇甲乙醚(diethylene glycol methyl ethyl ether)、二乙二醇二甲醚、3-甲氧基-1-丁醇(3-methoxy-1-butanol)、3-甲基-3-甲氧基-1-丁醇(3-methyl-3-methoxy-1-butanol)或其组合。值得注意的是，含醇式羟基的化合物较佳为二丙酮醇、乳酸乙酯、丙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯或其组合。含醇式羟基的化合物可单独使用或组合多种来使用。
含羰基的环状化合物的具体例为γ-丁内酯(γ-butyrolactone)、γ-戊内酯(γ-valerolactone)、δ-戊内酯(δ-valerolactone)、碳酸丙烯酯(propylene carbonate)、氮-甲基吡咯烷酮(N-methyl pyrrolidone)、环己酮(cyclohexanone)或环庚酮(cycloheptanone)等。值得注意的是，含羰基的环状化合物较佳为γ-丁内酯、氮-甲基吡咯烷酮、环己酮或其组合。含羰基的环状化合物可单独使用或组合多种来使用。
含醇式羟基的化合物可与含羰基的环状化合物组合使用，且其重量比率没有特别限制。含醇式羟基的化合物与含羰基的环状化合物的重量比值较佳为99/1至50/50；更佳为95/5至60/40。
在不损及本发明的效果的范围内，亦可以含有其他溶剂。该其他溶剂的具体例为：(1)酯类：醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸异丙酯、醋酸正丁酯、醋酸异丁酯、丙二醇甲醚醋酸酯、3-甲氧基-1-醋酸丁酯或3-甲基-3-甲氧基-1-醋酸丁酯等；(2)酮类：甲基异丁酮、二异丙酮或二异丁酮等；或者(3)醚类：二乙醚、二异丙醚、二正丁醚或二苯醚等。
基于所述树脂(A)的总使用量为100重量份，所述溶剂(C)的使用量为100重量份至1500重量份，较佳为120重量份至1400重量份，更佳为150重量份至1300重量份。
其他添加剂(D)
选择性地，本发明的化学增幅型正型感光性树脂组成物可包含其他添加剂(D)。具体而言，其他添加剂(D)的具体例为增感剂(sensitizer)、密着助剂(adhesion auxiliaryagent)、界面活性剂(surfactant)、溶解促进剂(solubility promoter)、消泡剂(defoamer)或其组合。
增感剂的种类并无特别的限制。增感剂较佳为使用含有酚式羟基(phenolichydroxy)的化合物，的具体例为：
(1)三苯酚型化合物(trisphenol type compound)：如三(4-羟基苯基)甲烷、双(4-羟基-3-甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,3,5-三甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-2,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基苯基)-3-甲氧基-4-羟基苯基甲烷、双(5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷或双(5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷等；
(2)双苯酚型化合物(bisphenol type compound)：如双(2,3,4-三羟基苯基)甲烷、双(2,4-二羟基苯基)甲烷、2,3,4-三羟基苯基-4'-羟基苯基甲烷、2-(2,3,4-三羟基苯基)-2-(2',3',4'-三羟基苯基)丙烷、2-(2,4-二羟基苯基)-2-(2',4'-二羟基苯基)丙烷、2-(4-羟基苯基)-2-(4'-羟基苯基)丙烷、2-(3-氟基-4-羟基苯基)-2-(3'-氟基-4'-羟基苯基)丙烷、2-(2,4-二羟基苯基)-2-(4'-羟基苯基)丙烷、2-(2,3,4-三羟基苯基)-2-(4'-羟基苯基)丙烷或2-(2,3,4-三羟基苯基)-2-(4'-羟基-3',5'-二甲基苯基)丙烷等；
(3)多核分枝型化合物(polynuclear branched compound)：如1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]苯或1-[1-(3-甲基-4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(3-甲基-4-羟基苯基)乙基]苯等；
(4)缩合型苯酚化合物(condensation type phenol compound)：如1,1-双(4-羟基苯基)环己烷等；
(5)多羟基二苯甲酮类(polyhydroxy benzophenone)：如2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,4,4'-三羟基二苯甲酮、2,4,6-三羟基二苯甲酮、2,3,4-三羟基-2'-甲基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮、2,4,2',4'-四羟基二苯甲酮、2,4,6,3',4'-五羟基二苯甲酮、2,3,4,2',4'-五羟基二苯甲酮、2,3,4,2',5'-五羟基二苯甲酮、2,4,6,3',4',5'-六羟基二苯甲酮或2,3,4,3',4',5'-六羟基二苯甲酮等；或
(6)上述各种类含有酚式羟基的化合物的组合。
基于树脂(A)的使用量为100重量份，增感剂的使用量为5重量份至50重量份；较佳为8重量份至40重量份；且更佳为10重量份至35重量份。
密着助剂的具体例为三聚氰胺(melamine)化合物及硅烷系化合物等。密着助剂的作用在于增加由光硬化性聚硅氧烷组成物所形成的薄膜与组件或基板之间的密着性。
三聚氰胺的市售品的具体例为由三井化学制造的商品名为Cymel-300或Cymel-303等；或者由三和化学制造的商品名为MW-30MH、MW-30、MS-11、MS-001、MX-750或MX-706等。
当使用三聚氰胺化合物做为密着助剂时，基于该树脂(A)的使用量为100重量份，三聚氰胺化合物的使用量为0重量份至20重量份；较佳为0.5重量份至18重量份；且更佳为1.0重量份至15重量份。
硅烷系化合物的具体例为乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、氮-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基硅烷、氮-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基硅烷、3-胺丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基二甲基甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷或由信越化学公司制造的市售品(商品名如KBM403)等。
当使用硅烷系化合物作为密着助剂时，基于树脂(A)的使用量为100重量份，硅烷系化合物的使用量为0重量份至2重量份；较佳为0.05重量份至1重量份；且更佳为0.1重量份至0.8重量份。
界面活性剂的具体例为阴离子系界面活性剂、阳离子系界面活性剂、非离子系界面活性剂、两性界面活性剂、聚硅氧烷系界面活性剂、氟系界面活性剂或其组合。
界面活性剂的实例包括(1)聚环氧乙烷烷基醚类(polyoxyethylene alkylethers)：聚环氧乙烷十二烷基醚等；(2)聚环氧乙烷烷基苯基醚类(polyoxyethylenephenyl ethers)：聚环氧乙烷辛基苯基醚、聚环氧乙烷壬基苯基醚等；(3)聚乙二醇二酯类(polyethylene glycol diesters)：聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬酸酯等；(4)山梨糖醇酐脂肪酸酯类(sorbitan fatty acid esters)；以及(5)经脂肪酸改质的聚酯类(fatty acid modified poly esters)；及(6)经三级胺改质的聚胺基甲酸酯类(tertiaryamine modified polyurethanes)等。界面活性剂的市售商品的具体例为KP(由信越化学工业制造)、SF-8427(由道康宁东丽聚硅氧股份有限公司(Dow Corning Toray SiliconeCo.,Ltd.)制造)、Polyflow(由共荣社油脂化学工业制造)、F-Top(由得克姆股份有限公司(Tochem Products Co.,Ltd.)制造)、Megaface(由大日本印墨化学工业(DIC)制造)、Fluorade(由住友3M股份有限公司(Sumitomo 3M Ltd.)制造)、Surflon(由旭硝子制造)、SINOPOL E8008(由中日合成化学制造)、F-475(由大日本印墨化学工业制造)或其组合。
基于树脂(A)的使用量为100重量份，界面活性剂的使用量为0.5重量份至50重量份；较佳为1重量份至40重量份；且更佳为3至30重量份。
消泡剂的实例包括Surfynol MD-20、Surfynol MD-30、EnviroGem AD01、EnviroGem AE01、EnviroGem AE02、Surfynol DF110D、Surfynol 104E、Surfynol 420、Surfynol DF37、Surfynol DF58、Surfynol DF66、Surfynol DF70以及Surfynol DF210(由气体产品(Air products)制造)等。
基于树脂(A)的使用量为100重量份，消泡剂的使用量为1重量份至10重量份；较佳为2重量份至9重量份；且更佳为3重量份至8重量份。
溶解促进剂的实例包括氮-羟基二羧基酰亚胺化合物(N-hydroxydicarboxylicimide)以及含酚式羟基的化合物。溶解促进剂的具体例为邻萘醌二叠氮磺酸酯中所使用的含酚式羟基的化合物。
基于树脂(A)的使用量为100重量份，溶解促进剂的使用量为1重量份至20重量份；较佳为2重量份至15重量份；且更佳为3重量份至10重量份。
化学增幅型正型感光性树脂组成物的具体例为以下列方式来制备：将树脂(A)、光酸产生剂(B)以及溶剂(C)放置于搅拌器中搅拌，使其均匀混合成溶液状态，必要时，可添加其他添加剂(D)。
本发明也提供一种保护膜，其包含将上述化学增幅型正型感光性树脂组成物涂布于基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成。此保护膜具有良好的感度及耐化性，且可应用于薄膜晶体管基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材。
本发明更提供一种具有保护膜的组件，其包含基材以及所述保护膜。
保护膜的形成方法
在一些实施例中，本发明的化学增幅型正型感光性树脂组成物可用于显示组件的保护膜的形成材料。另外，本发明也包含适用于由化学增幅型正型感光性树脂组成物形成的显示组件用保护膜。
所述保护膜的形成方法包括下述步骤：
(1)使用化学增幅型正型感光性树脂组成物，在基板上形成涂膜的步骤(以下也称为“步骤(1)”)；
(2)对上述涂膜的至少一部分照射放射线的步骤(以下也称为“步骤(2)”)；
(3)对照射放射线后的上述涂膜进行显影的步骤(以下也称为“步骤(3)”)；以及
(4)对显影后的上述涂膜进行加热的步骤(以下也称为“步骤(4)”)。
依据此形成方法，能够形成表面硬度、耐溶剂性、耐热性以及电压保持率优异的显示组件用保护膜。另外，借由使用具有良好感度的化学增幅型正型感光性树脂组成物，能够容易地形成具有微细且精巧的图案的显示组件用保护膜。因此，所形成的显示组件用保护膜适用于液晶显示组件、有机EL显示组件等显示组件。
[步骤(1)]
本步骤中，将化学增幅型正型感光性树脂组成物涂布于基板上而形成涂膜。较佳地，借由预烘烤涂布面而去除溶剂。
基板例如可列举：玻璃、石英、硅基材、树脂等。树脂例如可列举：聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚醚砜、聚碳酸酯、聚酰亚胺、环状烯烃的开环聚合物以及其氢化物等。预烘烤的条件也根据各成分的种类、调配比例等而有所不同，可设为70℃至120℃、1分钟至10分钟左右。
[步骤(2)]
本步骤中，对所形成的上述涂膜的至少一部分照射放射线来进行曝光。曝光时，通常隔着具有预定图案的光罩进行曝光。用于曝光的放射线较佳为波长于190nm至450nm的范围内的放射线，更佳为包含365nm的紫外线的放射线。曝光量是利用照度计(OAI model356，OAI光学协会(OAI Optical Associates)制造)来测定放射线的波长365nm下的强度而得的值，较佳为500J/m2至6,000J/m2，更佳为1,500J/m2至1,800J/m2。
[步骤(3)]
本步骤中，对照射放射线后的上述涂膜进行显影。借由将曝光后的涂膜进行显影，去除不需要的部分(放射线的照射部分)，以形成预定的图案。显影步骤中使用的显影液较佳为碱性的水溶液。碱例如可列举：氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、偏硅酸钠、胺等无机碱；四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵等四级铵盐等。
碱性的水溶液中，也可以适量添加甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂或界面活性剂来使用。就获得适当显影性的观点而言，碱性的水溶液中的碱的浓度较佳为0.1质量％以上、5质量％以下。显影方法例如可列举：覆液法(puddle method)、浸渍法、摇动浸渍法、喷淋法等。显影时间根据化学增幅型正型感光性树脂组成物的组成而有所不同，为10秒至180秒左右。在显影处理之后，借由进行例如流水清洗30秒至90秒，然后利用例如压缩空气或压缩氮，风干涂膜，以形成所需图案。
[步骤(4)]
本步骤中，将上述经显影的涂膜进行加热。加热时，借由使用加热板、烘箱等加热装置，加热图案化的薄膜，以促进树脂(A)的硬化反应，并获得硬化物。加热温度例如为120℃至250℃左右。加热时间根据加热机器的种类而有所不同，例如在加热板上为5分钟至30分钟左右，在烘箱中为30分钟至90分钟左右。另外，也可以使用进行2次以上加热步骤的阶段式烘烤法等。如此一来，可将与做为目标的显示组件用保护膜对应的图案状薄膜形成于基板的表面上。此外，上述硬化膜的用途并不限定于显示组件用保护膜，也可以作为间隔件或层间绝缘膜来利用。
所形成的显示组件用保护膜的膜厚较佳为0.1μm至8μm，更佳为0.1μm至6μm，又更佳为0.1μm至4μm。
附图说明
(无)
具体实施方式
以下借由数个制备例、实施例和比较例说明本发明的化学增幅型正型感光性树脂组成物的制造方法及其应用。
制备树脂(A)
制备例A-1
在容积1000毫升的四颈锥瓶上设置氮气入口、搅拌器、加热器、冷凝管及温度计，导入氮气后，添加3重量份的甲基丙烯酸(以下简称MAA)、20重量份的甲基丙烯酸四氢糠酯、22重量份的甲基丙烯酸2-羟基乙酯(以下简称HEMA)、25重量份的甲基丙烯酸双环戊酯(以下简称FA-513M)、30重量份的甲基丙烯酸苯甲酯(以下简称BzMA)、1重量份的3-巯基丙酸2-乙基己酯(以下简称EHMP)、10重量份的2,2’-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)(以下简称ADVN)以及240重量份的二乙二醇二甲醚(以下简称Diglyme)溶剂。接着，缓慢搅拌上述成份使溶液升温至70℃，并于此温度下聚缩合6小时。然后，将溶剂脱挥后，可得树脂(A-1)，重量平均分子量为12,000。
制备例A-2至A-10以及制备比较例A’-1至A’-4
树脂(A-2)至(A-10)及制备比较例(A’-1)至(A’-4)的制备与前述树脂(A-1)的制备例类似，其中，单体的种类及使用量如表1所示。只是其中溶剂、触媒的使用量、反应温度及聚缩合的反应时间与前述树脂(A-1)不同，亦示于表1。
实施例1
制备化学增幅型正型感光性树脂组成物
将100重量份的树脂(A-1)和0.2重量份的苄基(4-羟苯基)甲基硫鎓六氟锑酸盐(B-1)，加入100重量份的丙二醇甲醚醋酸酯(C-1)中，并以摇动式搅拌器(shaking typestirrer)搅拌均匀后，即可制得实施例1的化学增幅型正型感光性树脂组成物。
形成保护膜
于素玻璃基板(100×100×0.7mm)上以旋转涂布方式得到约3μm的涂膜，接续以110℃预烤2分钟后，在曝光机与涂膜间置入正光阻用光罩，并以曝光机的紫外光照射涂膜，其能量为80mJ/cm2。将曝光后的涂膜浸渍于23℃的2.38％的TMAH水溶液70秒，除去曝光的部分。以清水清洗后，再以曝光机直接照射显影后的涂膜，其能量为300mJ/cm2。最后以220℃后烤45分钟，可获得素玻璃基板上的保护膜。
关于实施例1的具体条件以及评价结果，悉如表2所示。
实施例2至12及比较例1至4
实施例2至12及比较例1至4的化学增幅型正型感光性树脂组成物及保护膜是使用与实施例1相同的方式进行而得。不同的是，实施例2至12及比较例1至4改变组成或使用量等条件。关于实施例2至12及比较例1至4的具体条件及评价结果如表2所示。
评价方式
(1)感度：
将实施例及比较例的化学增幅型正型感光性树脂组成物涂布于ITO基板(100mm×100mm)上之后，以110℃、120秒钟的加热条件，借由间隙约1mm的接近加热，进行预热，形成膜厚3μm的光阻膜。接着，使用i线曝光装置(装置名称：FX-702J，尼康公司制，NA＝0.14)，使用能同时描绘2.0μm L&S(线与空间)的光阻图案与3.0μm L&S的光阻图案的试验图表光罩(标度线)，进行选择性曝光。接着，使用23℃，2.38质量％四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液，进行70秒钟的显影处理后，以纯水进行15秒钟的冲洗，并进行旋转干燥。以可忠实重现2.0μmL&S的光阻图案的曝光量(Eop，单位：mJ)做为感度评估的指标，评价标准如下：
◎：曝光量＜60mJ
○：60mJ≦曝光量＜150mJ
△：150mJ≦曝光量＜300mJ
╳：曝光量≧300mJ。
(2)耐化性：
以上述保护膜的形成方法，形成化学增幅型正型感光性树脂组成物的涂膜后，使用加温至230℃的烘箱，煅烧所述涂膜30分钟，形成硬化膜。使所述硬化膜在加温至40℃的N-甲基吡咯烷酮溶剂中浸渍6分钟，求出浸渍前后的膜厚变化率(％)，作为耐化学品性的指针。
◎：膜厚変化率＜5％
○：5％≦膜厚変化率＜10％
△：10％≦膜厚変化率＜15％
╳：15％≦膜厚変化率。
根据表2的实施例所示，当合成化学增幅型正型感光性树脂组成物的树脂(A)的混合物包含前述的单体(a-2)和特定的硫醇化合物时，化学增幅型正型感光性树脂组成物可兼具良好的感度和耐化性。此外，所述混合物进一步包含前述单体(a-3-1)时，可进一步改善化学增幅型正型感光性树脂组成物的耐化性。而当化学增幅型正型感光性树脂组成物包含肟磺酸酯基的化合物时，可进一步改善其感度。
另一方面，倘若所述混合物中未使用含酸解离性基的单体(a-2)，则化学增幅型正型感光性树脂组成物的感度和耐化性不佳。而若混合物中未使用特定的硫醇化合物，则化学增幅型正型感光性树脂组成物的感度不佳。此外，若使用非本发明主张的硫醇化合物合成树脂(A)，仍无法改善化学增幅型正型感光性树脂组成物的感度。
本发明提供一种具有良好感度和耐化性的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其可用以制成保护膜。此保护膜也具有良好的耐化性，以应用于各式组件上。
虽然本发明已以实施方式揭露如上，然其并非用以限定本发明，在本发明所属技术领域中任何具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。
Figure BDA0002313502020000251
表1的说明：
Figure BDA0002313502020000261
Figure BDA0002313502020000271
Figure BDA0002313502020000281
表2的说明：
Figure BDA0002313502020000291

Claims (8)

1.一种化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，该化学增幅型正型感光性树脂组成物包含：
树脂(A)；
光酸产生剂(B)；以及
溶剂(C)，
其中，该树脂(A)是由混合物所共聚合而得，该混合物包括聚合性单体以及具有下式(2)的结构的硫醇化合物，而该聚合性单体包括不饱和羧酸单体(a-1)、含式(1)的酸解离性基的单体(a-2)以及单体(a-1)、单体(a-2)以外的其他不饱和单体(a-3)：
Figure FDA0002313502010000011
于该式(1)中，该R1和该R2各自独立为氢原子、烷基、脂环式烃基或芳基，其中该烷基、该脂环式烃基或该芳基所具有的氢原子的一部分或全部可被取代；而且，该R1及该R2不可同时为氢原子；该R3为烷基、脂环式烃基、芳烷基或者芳基；其中该R3的该烷基、该脂环式烃基、该芳烷基及该芳基所具有的氢原子的一部分或全部可被取代；该R1与该R3可相互键结而与该R1所键结的碳原子以及该R3所键结的氧原子一起形成环状醚结构；
X-R4-SH 式(2)
于该式(2)中，X表示酯基、羟基、胺基或烷氧基硅烷基，且该R4表示经取代或未经取代的伸烷基或伸芳基。
2.如权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，该其他不饱和单体(a-3)包括含环氧基的不饱和单体(a-3-1)。
3.如权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，该光酸产生剂(B)为包含下列式(3)的具有肟磺酸酯基的化合物：
Figure FDA0002313502010000021
于该式(3)中，该R5为碳数为1至20的烷基、脂环式烃基、芳基，或是上述基团所具有的氢原子被部分或全部取代的基团，以及该*为键结处。
4.如权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，基于该树脂(A)的总使用量为100重量份，该光酸产生剂(B)的使用量为0.2重量份至5重量份，以及，该溶剂(C)的使用量为100重量份至1500重量份。
5.如权利要求1所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，基于该聚合性单体的总使用量为100重量份，该不饱和羧酸单体(a-1)的使用量为1重量份至50重量份，该含式(1)的酸解离性基的单体(a-2)的使用量为5重量份至90重量份，该其他不饱和单体(a-3)的使用量为5重量份至94重量份，以及该具有式(2)的结构的硫醇化合物使用量为1重量份至15重量份。
6.如权利要求2所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物，其特征在于，基于该聚合性单体的总使用量为100重量份，该含环氧基的不饱和单体(a-3-1)的使用量为5重量份至80重量份。
7.一种保护膜，其特征在于，该保护膜是将如权利要求1至6的任一项所述的化学增幅型正型感光性树脂组成物涂布于基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成。
8.一种具有保护膜的组件，其特征在于，该组件包含基材以及如权利要求7所述的保护膜。
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Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4591625B1 (ja) * 2010-04-01 2010-12-01 Ｊｓｒ株式会社 ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法
TW201100966A (en) * 2009-05-01 2011-01-01 Fujifilm Corp Positive photosensitive composition and method for forming cured film using the same
CN102221782A (zh) * 2010-04-15 2011-10-19 Jsr株式会社 正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法
JP2013182077A (ja) * 2012-02-29 2013-09-12 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、これを用いた硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機ｅｌ表示装置
JP2013242540A (ja) * 2012-04-24 2013-12-05 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法
CN104345567A (zh) * 2013-07-25 2015-02-11 奇美实业股份有限公司 感光性聚硅氧烷组合物及其应用
CN105301898A (zh) * 2014-07-31 2016-02-03 Jsr株式会社 感放射线性树脂组合物、硬化膜及其形成方法以及显示元件
CN105319845A (zh) * 2014-06-27 2016-02-10 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组合物、保护膜及具有保护膜的元件
JP2017181928A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 Jsr株式会社 ポジ型感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜、層間絶縁膜の形成方法、半導体素子及び表示素子

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5358005B2 (ja) * 2011-09-22 2013-12-04 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性アクリル樹脂およびポジ型感光性樹脂組成物
WO2015064601A1 (ja) * 2013-10-30 2015-05-07 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機ｅｌ表示装置
TWI685714B (zh) * 2016-12-27 2020-02-21 奇美實業股份有限公司 化學增幅型正型感光性樹脂組成物、附有鑄模的基板的製造方法以及電鍍成形體的製造方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201100966A (en) * 2009-05-01 2011-01-01 Fujifilm Corp Positive photosensitive composition and method for forming cured film using the same
JP4591625B1 (ja) * 2010-04-01 2010-12-01 Ｊｓｒ株式会社 ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法
CN102221782A (zh) * 2010-04-15 2011-10-19 Jsr株式会社 正型放射线敏感性组合物、层间绝缘膜及其形成方法
JP2013182077A (ja) * 2012-02-29 2013-09-12 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、これを用いた硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機ｅｌ表示装置
JP2013242540A (ja) * 2012-04-24 2013-12-05 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法
CN104345567A (zh) * 2013-07-25 2015-02-11 奇美实业股份有限公司 感光性聚硅氧烷组合物及其应用
CN105319845A (zh) * 2014-06-27 2016-02-10 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组合物、保护膜及具有保护膜的元件
CN105301898A (zh) * 2014-07-31 2016-02-03 Jsr株式会社 感放射线性树脂组合物、硬化膜及其形成方法以及显示元件
JP2017181928A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 Jsr株式会社 ポジ型感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜、層間絶縁膜の形成方法、半導体素子及び表示素子

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