CN111198029A - 一种雷达料位计离线校验工装和校验方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种雷达料位计离线校验工装及校验方法，该校验工装包括底座、承托件、反射件、导向支撑件、第一定位结构，底座上设置有用于反射雷达波的第一反射面；承托件设置在底座上方用于托起所述雷达料位计，反射件设置有用于反射雷达波的第二反射面；导向支撑件设置在所述底座上，所述反射件可转动且可上下滑动的设置在所述导向支撑件上，所述导向支撑件上设置有用于测量所述第二反射面与第一反射面的距离的刻度；第一定位结构用于将反射件以目标距离和目标角度固定在导向支撑件上。本发明的雷达料位离线校验工装和校验方法，通过与校验仪结合对雷达料位计进行离线校验，提高了校验准确性，从而提高后续测量准确性。

Description

一种雷达料位计离线校验工装和校验方法

技术领域

本发明涉及仪器仪表领域，特别涉及一种雷达料位计离线校验工装和校验方法。

背景技术

雷达料位计常常用于密闭容器内物料的料位高度检测，是一种基于时间行程原理的测量仪表，检测时雷达波以光速运行，运行时间可以通过且内部电子部件被转换成物位信号。雷达料位计在测量物料的料位高度前需要进行校验，以保证测量的准确性。目前，雷达料位计校验均采用在线校验的方式，也就是将雷达料位计的头部伸入容器中，将雷达料位计的法兰盘固定在容器上，在生产过程中进行校验，但在线较验时，雷达料位计收容易受到料体状态、生产状态等各种的影响，校验准确度很难保证。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的主要目的在于提供一种雷达料位计离线校验工装和校验方法，以提高校验准确性，从而提高后续测量准确性。

为实现上述目的及其他相关目的，本发明技术方案如下：

一种雷达料位计离线校验工装，包括：

底座，所述底座上设置有用于反射雷达波的第一反射面；

承托件，其设置在底座上方用于托起所述雷达料位计；

反射件，所述反射件设置有用于反射雷达波的第二反射面，所述反射件位于底座与所述承托件之间；

导向支撑件，所述导向支撑件设置在所述底座上，所述反射件可转动且可上下滑动的设置在所述导向支撑件上，所述导向支撑件上设置有用于测量所述第二反射面与第一反射面的距离的刻度；以及

第一定位结构，其用于将反射件以目标距离和目标角度固定在导向支撑件上。

可选的，所述底座包括底板，所述第一反射面为所述底板的上表面。

可选的，所述承托件包括承托板，所述承托板上设置有U型孔，所述U型孔用于穿设雷达料位计的头部，所述雷达料位计的法兰盘在自重作用下贴紧在承托板的上表面。

可选的，所述反射件包括反射板。

可选的，所述导向支撑件包括导向杆。

可选的，所述第一定位结构包括套在所述导向杆上的第一套筒及用于将所述第一套筒顶紧在所述导向杆上的第一顶紧螺栓，所述第一套筒固定连接在所述反射件上。

可选的，所述承托件可上下滑动的设置在所述导向杆上，所述承托件和导向杆之间设置有第二定位结构。

可选的，所述第二定位结构包括第二套筒和用于将所述第二套筒固定在所述导向杆上的第二顶紧螺栓，所述第二顶紧螺栓固定连接在所述承托件板上。

一种雷达料位计离线校验方法，包括步骤：

将雷达料位计离线校验工装置于一水平面上，

将所述雷达料位计连接一校验仪，

将待校验的雷达料位计安装于所述承托件上，使待校验的雷达料位计的雷达波发射端与第一反射面的距离为H₁；

调节反射件的角度位置，使所述雷达料位计发射的雷达波直接到达第一反射面，并利用校验仪将所述雷达料位计中变送器的输出电流设定为I₀毫安，所述I₀等于变送器电流信号的最小值I_min；

调节反射件的角度位置，并多次调节反射件使所述雷达料位计发射的雷达波到达第二反射面后反射，

多次调节反射件的高度位置，共调节反射件的高度位置的次数为n次，第m次调节反射件的高度位置时，第二反射面具第一反射面的距离为m×H₁/n，每次调节反射件的高度位置，均利用校验仪将所述雷达料位计中的变送器输出电流设定为I，I＝m×(I_max-I₀)/n+I₀，其中，I_max为变送器电流信号的最大电流值；

根据容器高度H₂，放大雷达料位计的量程参数，放大倍数为H₂/H₁。

可选的，所述变送器为4～20mA变送器，即所述I_min为4mA，所述I_max为8mA。

如上所述，本发明至少具有以下有益效果：

本发明的雷达料位离线校验工装和校验方法，通过与校验仪结合对雷达料位计进行离线校验，无需提供一比一的尺寸进行校验，且提高了校验准确性，从而提高后续测量准确性。

附图说明

图1显示为本发明的雷达料位计离线校验工装的结构示意图；

图2A-2E显示为本发明的雷达料位计校验方法操作过程的示意图；

实施例中附图标记说明：雷达料位计A、底座1、承托件2、反射件3、导向支撑件4、底板11、第一反射面111、第二定位结构21、承托板22、第二套筒211、第二顶紧螺栓212、U型孔221、第一定位结构31、反射板32、第一套筒311、第一顶紧螺栓312、第二反射面321、导向杆41。

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本发明的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点及功效。

参见图1，一种雷达料位计离线校验工装，包括：

底座1，所述底座1上设置有用于反射雷达波的第一反射面111；

承托件2，其设置在底座1上方用于托起所述雷达料位计A；

反射件3，所述反射件3设置有用于反射雷达波的第二反射面321，所述反射件3位于底座1与承托件2之间；

导向支撑件4，所述导向支撑件4设置在所述底座1上，所述反射件3可转动且可上下滑动的设置在所述导向支撑件4上，所述导向支撑件4上设置有用于测量所述第二反射面321与第一反射面111的距离的刻度；以及

第一定位结构31，其用于将反射件3以目标距离和目标角度固定在导向支撑件4上。

对应的，参见图2A-图2E，利用本发明的雷达料位计离线校验工装校验时，校验方法包括以下步骤：

将雷达料位计离线校验工装置于一水平面上，

将所述雷达料位计A连接一校验仪，

参见图2A，将待校验的雷达料位计A安装于所述承托件2上，使待校验的雷达料位计A的雷达波发射端与第一反射面111的距离为H₁；

参见图2A，调节反射件3的角度位置，使所述雷达料位计A发射的雷达波直接到达第一反射面111，并利用校验仪将所述雷达料位计A中变送器的输出电流设定为I₀毫安，所述I₀等于变送器电流信号的最小值I_min；

参见图2B，调节反射件3的角度位置，并多次调节反射件3使所述雷达料位计A发射的雷达波到达第二反射面321后反射，

参见图2B-图2E，多次调节反射件3的高度位置，共调节反射件3的高度位置的次数为n次，第m次调节反射件3的高度位置时，第二反射面321具第一反射面111的距离为m×H₁/n，每次调节反射件3的高度位置，均利用校验仪将所述雷达料位计A中的变送器输出电流设定为I，I＝m×(I_max-I₀)/n+I₀，其中，I_max为变送器电流信号的最大电流值；

根据容器高度H₂，利用校验仪放大雷达料位计的量程参数，放大倍数为H_2/H₁。

例如：当雷达料位计内部采用4～20mA变送器时，I_min＝4mA，I_max为8mA，若将雷达料位计A高度设定在特定高度，使雷达料位计A的雷达波发射端距离第一反射面111的距离为1000mm，也就是H₁＝1000mm时，参见图2A，可以先将反射件3转离雷达料位计下方，雷达料位计A发射雷达波之第一反射面111被反射，将此时的变送器输出电流设定为4mA；然后将反射件3转动至雷达料位计A正下方，参见图2B，使雷达料位计A发射的雷达波能够被第二反射面321反射，并分4次向上调节反射件3的高度，参见图2B，第一次，将第二反射面321与第一反射面111的距离调节至250mm，将此时的变送器输出电流设定为8mA，参见图2C，第二次，将第二反射面321与第一反射面111的距离调节至500mm，将此时的变送器输出电流设定为12mA，参见图2D，第三次，将第二反射面321与第一反射面111的距离调节至750mm，将此时的变送器输出电流设定为16mA，参见图2E，第四次，将第二反射面321与第一反射面111的距离调节至1000mm，形成盲点，将此时的变送器输出电流设定为20mA；最后，如果该雷达料位计A要装配在一内部高度为4m的容器中使用，则将该雷达料位计A的量程参数放大4倍即可完成校验。

在具体实施过程中，该校验仪可以是型号为FUCK754的校验仪或是其它型号的校验仪，只要该校验仪能够设定变送器的输出电流和实现量程参数的调节即可。

在一些实施例中，参加图1，所述底座1包括底板11，所述第一反射面111为所述底板11的上表面。这种底座1用料少，可以利用现有板材切割成型，有利于降低校验工装的成本。

在一些实施例中，参加图1，所述承托件2包括承托板22，所述承托板22上设置有U型孔221，所述U型孔221用于穿设雷达料位计的头部，所述雷达料位计的法兰盘在自重作用下贴紧在承托板22的上表面。该U型孔221使得装入雷达料位计时，即可从承托件2顶部装入，也可从侧边装入，操作更方便。

在一些实施例中，参加图1，所述反射件3包括反射板32。这种反射件3用料少，可以利用现有板材切割成型，有利于降低校验工装的成本。

在一些实施例中，参加图1，所述导向支撑件4包括导向杆41。

在一些实施例中，参加图1，所述第一定位结构31包括套在所述导向杆41上的第一套筒311及用于将所述第一套筒311顶紧在所述导向杆41上的第一顶紧螺栓312，所述第一套筒311固定连接在所述反射件3上。调节反射件3的高度时，只需要拧松第一顶紧螺栓312，使第一套筒311能够沿着整个导向杆41滑动，然后调节第一套筒311高度，使第二反射面321被调节至目标高度后，拧紧第一顶紧螺栓312即可。

在一些实施例中，参加图1，所述第一套筒311的顶面与所述第二反射面321齐平，第一套筒311顶面的高度就是第二反射面321的高度，更便于直接读取第二反射面321的高度值。为实现第一套筒311顶面和第二反射面321齐平，可设置一L型连接板，该L型连接板的一外表面焊接在反射件3底部，该L型连接板的另一外表面与第一套筒311顶面焊接为一体。

在一些实施例中，参加图1，所述第一顶紧螺栓312的数量至少为两个，且至少两个所述第一顶紧螺栓312分布在第一套筒311不同的轴向位置。能够使反射件3更可靠、更稳定的固定在导向杆41上。

在一些实施例中，参加图1，所述承托件2可上下滑动的设置在所述导向杆41上，所述承托件2和导向杆41之间设置有第二定位结构21。

在一些实施例中，参加图1，所述第二定位结构21包括第二套筒211和用于将所述第二套筒211固定在所述导向杆41上的第二顶紧螺栓212，所述第二顶紧螺栓212固定连接在所述承托件2板上。

在一些实施例中，参加图1，所述第二顶紧螺栓212的数量至少为两个，且至少两个所述第二顶紧螺栓212分布在第二套筒211不同的轴向位置。能够使承托件2更可靠、更稳定的固定在导向杆41上。

任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。

Claims (10)

1.一种雷达料位计离线校验工装，其特征在于，包括：

底座，所述底座上设置有用于反射雷达波的第一反射面；

承托件，其设置在底座上方用于托起所述雷达料位计；

反射件，所述反射件设置有用于反射雷达波的第二反射面，所述反射件位于底座与所述承托件之间；

导向支撑件，所述导向支撑件设置在所述底座上，所述反射件可转动且可上下滑动的设置在所述导向支撑件上，所述导向支撑件上设置有用于测量所述第二反射面与第一反射面的距离的刻度；以及

第一定位结构，其用于将反射件以目标距离和目标角度固定在导向支撑件上。

2.根据权利要求1所述的雷达料位计离线校验工装，其特征在于：所述底座包括底板，所述第一反射面为所述底板的上表面。

3.根据权利要求1所述的雷达料位计离线校验工装，其特征在于：所述承托件包括承托板，所述承托板上设置有U型孔，所述U型孔用于穿设雷达料位计的头部，所述雷达料位计的法兰盘在自重作用下贴紧在承托板的上表面。

4.根据权利要求1所述的雷达料位计离线校验工装，其特征在于：所述反射件包括反射板。

5.根据权利要求1所述的雷达料位计离线校验工装，其特征在于：所述导向支撑件包括导向杆。

6.根据权利要求5所述的雷达料位计离线校验工装，其特征在于：所述第一定位结构包括套在所述导向杆上的第一套筒及用于将所述第一套筒顶紧在所述导向杆上的第一顶紧螺栓，所述第一套筒固定连接在所述反射件上。

7.根据权利要求5所述的雷达料位计离线校验工装，其特征在于：所述承托件可上下滑动的设置在所述导向杆上，所述承托件和导向杆之间设置有第二定位结构。

8.根据权利要求5所述的雷达料位计离线校验工装，其特征在于：所述第二定位结构包括第二套筒和用于将所述第二套筒固定在所述导向杆上的第二顶紧螺栓，所述第二顶紧螺栓固定连接在所述承托件板上。

9.一种雷达料位计离线校验方法，其特征在于，包括步骤：

将雷达料位计离线校验工装置于一水平面上，

将所述雷达料位计连接一校验仪，

将待校验的雷达料位计安装于所述承托件上，使待校验的雷达料位计的雷达波发射端与第一反射面的距离为H₁；

调节反射件的角度位置，使所述雷达料位计发射的雷达波直接到达第一反射面，并利用校验仪将所述雷达料位计中变送器的输出电流设定为I₀毫安，所述I₀等于变送器电流信号的最小值I_min；

调节反射件的角度位置，并多次调节反射件使所述雷达料位计发射的雷达波到达第二反射面后反射，

多次调节反射件的高度位置，共调节反射件的高度位置的次数为n次，第m次调节反射件的高度位置时，第二反射面具第一反射面的距离为m×H₁/n，每次调节反射件的高度位置，均利用校验仪将所述雷达料位计中的变送器输出电流设定为I，I＝m×(I_max-I₀)/n+I₀，其中，I_max为变送器电流信号的最大电流值；

根据容器高度H₂，放大雷达料位计的量程参数，放大倍数为H₂/H₁。

10.根据权利要求9所述的雷达料位计离线校验方法，其特征在于：所述变送器为4～20mA变送器，即所述I_min为4mA，所述I_max为8mA。

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