CN111190248B - 一种防窥片及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种防窥片及其制备方法，所述防窥片包括透明基材，所述透明基材内设有同向延伸的遮挡层，相邻遮挡层之间通过透明基材填充，其制备方法包括以下步骤：对透明基材的表面进行处理，使其表面形成凸起的微结构；在含有微结构的透明基材的表面镀上遮挡层；保护微结构侧壁的遮挡层，去除微结构顶部及底部的遮挡层；采用透明材料覆盖在透明基材的表面，使微结构被填平。本发明的技术方案，采用在透明基材表面形成微结构，然后电镀遮挡层的方式取代了现有防窥膜的填墨区，可以实现更薄的遮挡层，明显改善了光线的穿透度，进而得到更明亮的画质，不会因为使用了防窥片而减损大量的亮度。

Description

一种防窥片及其制备方法
技术领域
本发明属于防窥技术领域，尤其涉及一种防窥片及其制备方法。
背景技术
如图1所示为现有的防窥膜的结构，我们可以看出，它是通过光线的角度控制，将屏幕的广视角度（如显示器178度可视角）变为了窄的可视角度（30度）；通过并列排布的光栅结构实现，在一定的角度，透过的光线被光栅拦阻，通不过去，看不到。光栅一般是由树脂与色浆调配通过模具滚压固化而成，呈现灰黑色；光栅的间隔通常在0.04〜0.1mm，采用填墨的方式得到的光栅遮挡层的厚度有限，目前的制作工艺水平最小只能做到10μm，所以目前的防窥膜的整体透光率不高，目前的材料透光率为40%-60%之间；整体颜色较暗，偏灰黑色，体验感不好。
发明内容
针对以上技术问题，本发明公开了一种防窥片及其制备方法，改善了光线的穿透度，得到更明亮的画质，且提高了亮度。
对此，本发明采用的技术方案为：
一种防窥片的制备方法，所述防窥片包括透明基材，所述透明基材内设有多个同向延伸的遮挡层，相邻遮挡层之间通过透明基材填充，其制备方法包括以下步骤：
步骤S1，对透明基材的表面进行处理，使其表面形成凸起的微结构；其中微结构也为透明材质。进一步的，所述微结构的材质与透明基材的材质相同。微结构根据遮挡层的形状要求进行设置。
步骤S2，在含有微结构的透明基材的表面镀上遮挡层；其中，可以采用电镀的方式也可以采用PVD镀膜的方式。
步骤S3，保护微结构侧壁的遮挡层，去除微结构顶部及底部的遮挡层；
步骤S4，采用透明材料覆盖在透明基材的表面，使微结构被填平。
其中的同向延伸可以为平行方向，也可以稍微倾斜，倾斜角度不大于3度，朝着同一个方向即可。其中的遮挡层可以为光栅结构，或每个遮挡层的截面可以为直线或曲线；也可以每个遮挡层为单独的封闭结构，即遮挡层的截面为多边形或圆形等。这样，沿着遮挡层延伸的方向看过去，就可以实现对侧方的防窥效果，而且透明基材的透光率高，光线的穿透度高，提高了整个画面的亮度，得到更明亮的画质。其中，透明基材可以为片状，也可以为一定厚度的膜。
采用此技术方案，通过在透明基材形成微结构，并使微结构侧壁附上金属层，金属层的厚度方便控制，可以实现传统填墨方式不能达到的10μm以及以下的厚度。与现有技术相比，采用更薄的镀膜的方式取代了现有防窥膜的填墨区，提高了光线的穿透率，得到的防窥片的透光度高，画面亮度好。
作为本发明的进一步改进，步骤S1中，采用镭射雕刻、UV成型或热压压花的方式在透明基材的表面形成凸起的微结构。采用此技术方案，可以根据需要在透明基材的表面形成需要的图案，更灵活。
作为本发明的进一步改进，所述遮挡层为金属膜层。
作为本发明的进一步改进，步骤S3包括如下子步骤：
步骤S301，使用正型光阻保护微结构的表面的金属层；
步骤S302，进行曝光和显影；
步骤S303，使用蚀刻金属的方式去除微结构顶部及底部的金属层，保留微结构侧壁的金属层。
采用此技术方案，使用光阻保护不想被蚀刻的金属结构，保留可以遮光的防窥结构，镀上极薄的遮光金属层取代传统填墨的遮黑百叶结构，如此可大大减低亮度的损失。
作为本发明的进一步改进，步骤S2中，所述遮挡层的厚度为小于10μm。进一步的，所述遮挡层的厚度为小于5μm，进一步的，所述遮挡层的厚度为小于2μm。采用上述技术方案，很容易获得很薄的遮挡层。所述遮挡层之间的间距可以根据防窥角度进行调整。
作为本发明的进一步改进，所述遮挡层在透明基材内呈百叶结构设置。进一步的，所述遮挡层的表面相互平行。
作为本发明的进一步改进，每个遮挡层在透明基材内与透明基材厚度垂直方向的截面为封闭结构。进一步的，所述遮挡层在透明基材内呈多边形排布或遮挡层在透明基材内为圆柱形。其中，相邻遮挡层之间的侧边相互连接形成多边形，相邻遮挡层的表面之间为透明基材填充，遮挡层的延伸方向相同。遮挡层在透明基材内为圆柱形，每个遮挡层的延伸方向相同，只是单个遮挡层侧边首尾连接成圆柱形。这样，在沿着遮挡层的延伸方向看过去为多边形排布，但是侧方能起到防窥效果，而且还能提高光线的穿透度。
作为本发明的进一步改进，所述遮挡层在透明基材内连接形成蜂窝状。即防窥片在平行于显示屏的截面为蜂窝状。
作为本发明的进一步改进，所述制备方法还包括步骤S5，在透明基材的表面设置保护层。
作为本发明的进一步改进，所述保护层的材质为PET或刚化玻璃。
本发明还公开了一种防窥片，其采用如上任意一项所述的防窥片的制备方法制备得到。
与现有技术相比，本发明的有益效果为：
本发明的技术方案，采用在透明基材表面形成微结构，然后电镀遮挡层的方式取代了现有防窥膜的填墨区，可以实现更薄的遮挡层，明显改善了光线的穿透度，进而得到更明亮的画质，不会因为使用了防窥片而减损大量的亮度。
附图说明
图1是本发明现有技术的防窥膜的原理示意图。
图2是本发明实施例一种防窥片的平面结构示意图。
图3是本发明实施例一种防窥片的制作工艺流程图。
图4是本发明对比例的防窥片仿真光线穿透的显微镜下的图片。
图5是本发明实施例另一种防窥片的平面结构示意图。
附图标记包括：
1-透明基材，2-金属遮挡膜。
具体实施方式
下面对本发明的较优的实施例作进一步的详细说明。
实施例1
如图2所示，一种防窥片，其包括透明基材1，所述透明基材1内设有沿透明基材1厚度方向同向延伸的金属遮挡膜2，相邻金属遮挡膜2之间通过透明基材填充。所述金属遮挡膜2在透明基材内呈百叶结构设置。所述金属遮挡膜2的厚度为小于10μm。所述金属遮挡膜2相互平行。
如图3所示，本实施例的防窥片采用以下步骤制备得到：
步骤S1，对透明基材的表面进行处理，使其表面形成凸起的微结构；其中微结构也为透明材质。进一步的，所述微结构的材质与透明基材的材质相同。
步骤S2，在含有微结构的透明基材的表面镀上金属层；其中，可以采用电镀的方式也可以采用PVD镀膜的方式。
步骤S3，保护微结构侧壁的金属层，去除微结构顶部及底部的金属层；
具体包括：先使用正型光阻保护微结构的表面的金属层；然后进行曝光和显影；再使用蚀刻金属的方式去除微结构顶部及底部的金属层，保留微结构侧壁的金属层。
步骤S4，采用透明材料覆盖在透明基材的表面，使微结构被填平。
步骤S1中，采用镭射雕刻、UV成型或热压压花的方式在透明基材的表面形成凸起的微结构。
进一步的，还包括步骤S5，在透明基材的表面设置保护层，所述保护层的材质为PET或刚化玻璃。
采用本实施例的防窥片时，荧幕的光线射向防窥片，在基础树脂中为光衰很小，当碰到金属遮挡膜时，光线发生发射或被吸收，因为金属遮挡膜很薄，所以对光线强度的影响较小，防窥片的透光率取决于基础树脂的透光率。
采用本实施例得到的防窥片与传统的防窥膜进行透光实验对比，传统的防窥膜进行透光实验的结果如图4所示，其中传统的防窥膜的光栅的间距为pitch=30μm，填墨区的宽度约10~20μm，理论穿透率只有60%~70%。本实施例采用金属遮挡膜取代填墨区，金属遮挡膜的厚度是1μm，深度为10~100μm，金属遮挡膜之间的间距pitch=30μm，理论穿透率为1-(1/30)，穿透率可以95%以上。
实施例2
如图5所示，在实施例1的基础上，本实施例中所述金属遮挡膜2在透明基材1内连接呈蜂窝状。其中，相邻金属遮挡膜2之间的侧边相互连接形成多边形，相邻金属遮挡膜2的表面之间为透明基材1填充，金属遮挡膜2的延伸方向相同。防窥片在平行于显示屏的截面呈现为蜂窝状。
进一步的，所述金属遮挡膜在透明基材内也可以为圆形、方形、菱形、S型等等，可以为封闭的，也可以为非封闭的。即每个金属遮挡膜在透明基材内为圆柱形，每个金属遮挡膜的延伸方向相同，只是单个金属遮挡膜的侧边首尾连接成圆柱形。
进一步的，所述透明基材的表面设有保护层。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (8)

1.一种防窥片的制备方法，其特征在于：所述防窥片包括透明基材，所述透明基材内设有多个同向延伸的遮挡层，相邻遮挡层之间通过透明基材填充，其制备方法包括以下步骤：
步骤S1，对透明基材的表面进行处理，使其表面形成凸起的微结构；
步骤S2，在含有微结构的透明基材的表面镀上遮挡层；
步骤S3，保护微结构侧壁的遮挡层，去除微结构顶部及底部的遮挡层；
步骤S4，采用透明材料覆盖在透明基材的表面，使微结构被填平；
所述遮挡层为金属层；
步骤S3包括如下子步骤：
步骤S301，使用正型光阻保护微结构的表面的金属层；
步骤S302，进行曝光和显影；
步骤S303，使用蚀刻金属的方式去除微结构顶部及底部的金属层，保留微结构侧壁的金属层。
2.根据权利要求1所述的防窥片的制备方法，其特征在于：步骤S1中，采用镭射雕刻、UV成型或热压压花的方式在透明基材的表面形成凸起的微结构。
3.根据权利要求1所述的防窥片的制备方法，其特征在于：步骤S2中，所述遮挡层的厚度为小于10μm。
4.根据权利要求1所述的防窥片的制备方法，其特征在于：所述遮挡层在透明基材内呈百叶结构设置。
5.根据权利要求1所述的防窥片的制备方法，其特征在于：每个遮挡层在透明基材内与透明基材厚度垂直方向的截面为封闭结构。
6.根据权利要求1~5任意一项所述的防窥片的制备方法，其特征在于：还包括步骤S5，在透明基材的表面设置保护层。
7.根据权利要求6所述的防窥片的制备方法，其特征在于：所述保护层的材质为PET或刚化玻璃。
8.一种防窥片，其特征在于：其采用如权利要求1~7任意一项所述的防窥片的制备方法制备得到。
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