CN111044602A - 检测膜片式真空压力计沉积物的方法 - Google Patents
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Abstract
本公开提供一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法，包括：步骤S1：将沉积物在预处理腔内进行激发，使沉积物成为气体状态；步骤S2：气体状态的沉积物通过减压装置减压后，输入与减压装置相连的分析腔室；以及步骤S3：在分析腔室内对沉积物进行质谱分析，完成沉积物的成分检测。通过将沉积物激发为气体状态后再进行质谱分析，以解决膜片式真空压力计沉积物分析的问题，从而针对不同的沉积物做合理的预防及清除。
Description
技术领域
本公开涉及压力计技术领域，尤其涉及一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法。
背景技术
膜片式真空压力计由于测量精度高，重复性和稳定性好，常用于需要精确测定和控制压力的场合。但受原理所限，在气体成分复杂，容易有沉积物的情况下，膜片式真空压力计的测量性能会受到很大的影响。针对不同成分的沉积物，需要有不同的预防措施和清除方法，但目前对沉积物的成分不完全明确，仅能通过理论分析推断沉积物可能的成分，从而进行预防和清除。常用的做法是利用一定的防沉积结构，将沉积物尽可能沉积在结构中而不是膜片中。与此同时，由于沉积结构大幅改变了气体流动的路径，所以不可避免对气体流态产生影响，进而影响压力的测量结果。因此，通过合理的装置对沉积物进行分析，并制定合理的方式进行清除是非常必要的。根据在不同使用环境中的沉积物情况，使用不同的防沉积结构和清除方式，延长膜片式真空压力计的使用寿命，提高其测量气体压力时的精度。
公开内容
(一)要解决的技术问题
基于上述问题，本公开提供了一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法，以缓解现有技术中由于膜片式压力计受气体成分影响大、在使用过程中容易因沉积物导致测量结果不精确等技术问题。
(二)技术方案
本公开提供一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法，包括：
步骤S1：将沉积物在预处理腔内进行激发，使沉积物成为气体状态；
步骤S2：气体状态的沉积物通过减压装置减压后，输入与减压装置相连的分析腔室；以及
步骤S3：在分析腔室内对沉积物进行质谱分析，完成沉积物的成分检测。
在本公开实施例中，所述激发采用电子束激发或离子束激发。
在本公开实施例中，步骤S1中，通过对沉积物进行加热使沉积物气化。
在本公开实施例中，步骤S2中所述减压装置上包括不同尺寸的小孔或小孔阵列，通过限流的方式使气态沉积物压力降低。
在本公开实施例中，步骤S3中，在分析腔室中，通过质谱分析的方式对激发为气态的沉积物进行成分检测。
在本公开实施例中，质谱分析时所用的质谱分析仪器包括：磁偏转质谱计、离子阱质谱计、四极质谱计或飞行时间质谱计中任意一种。
在本公开实施例中，质谱分析时，根据不同质量数的气态沉积物的碎片峰确认各种沉积物成分的配比。
在本公开实施例中，质谱分析时，根据采样方式的不同，所述成分检测分为定性分析和定量分析两种形式。
在本公开实施例中，所述定性分析为单次采样，根据碎片峰确定杂质成分。
在本公开实施例中，所述定量分析，根据分子流质量歧视的特点，计算限流装置对不同质量数气体成分的流导，通过多次采样的方式对气体成分的改变进行计算，这样可以精确分析每种沉积物成分的具体含量。
(三)有益效果
从上述技术方案可以看出，本公开检测膜片式真空压力计沉积物的方法至少具有以下有益效果其中之一或其中一部分：
(1)可以有针对性地对沉积物进行预防和清除；
(2)检测速度快，可以对污染物进行实时分析；
(3)不仅可以定性分析沉积物的成分，还可以进行定量分析沉积物的质量。通过对不同使用时间的膜片式真空压力计沉积物进行测试，可以得出沉积物的沉积速率等指标。
附图说明
图1为本公开实施例检测膜片式真空压力计沉积物的方法的流程示意图。
图2为本公开实施例检测膜片式真空压力计沉积物的装置的结构示意图。
具体实施方式
本公开提供了一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法，通过将沉积物激发为气体状态后再进行质谱分析，以解决膜片式真空压力计沉积物分析的问题，从而针对不同的沉积物做合理的预防及清除。
为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本公开进一步详细说明。
本公开实施例中，结合图1和图2所示，提供一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法，包括：
步骤S1：将沉积物在预处理腔内进行激发，使沉积物成为气体状态；
步骤S2：气体状态的沉积物通过减压装置减压后，输入与减压装置相连的分析腔室；
步骤S3：在分析腔室内对沉积物进行质谱分析，得出沉积物的成分；
步骤S1中，利用激发装置或加热装置，实现真空压力计内部的沉积物激发为气体状态；
步骤S2中所述减压装置上包括不同尺寸的小孔或小孔阵列，通过限流的方式使气态沉积物压力降低。
步骤S3中，在分析腔室中，通过质谱分析的方式对激发为气态的沉积物进行成分检测。
在本公开实施例中，还提供一种检测膜片式真空压力计沉积物的装置，对膜片式真空压力计中沉积物进行检测，如图2所示，所述检测膜片式真空压力计沉积物的装置，包括：
预处理腔，其内放置有待检测沉积物；
激发装置，设置于预处理腔内，用于将待检测沉积物激发为气体状态；以及
减压装置，与预处理腔相连，用于使气体状态的待检测沉积物降压并传输至后接的分析腔室；所述分析腔室用于对气体状态沉积物进行检测.
所述激发装置用于发出电子束或离子束；
激发装置采用离子束或电子束对沉积物进行轰击，或者通过加热对沉积物进行加热等手段使沉积物气化，而后通过减压装置将沉积物气体降压传输至分析腔室。
在分析腔室中，通过质谱分析的方式对激发为气态的沉积物进行成分分析，得出最终沉积物的成分。进而针对不同的沉积物采用不同的预防与清除方式。
所述质谱分析所用的质谱分析仪器包括：磁偏转质谱计、离子阱质谱计、四极质谱计或飞行时间质谱计中任意一种。
所述减压装置上包括不同尺寸的小孔或小孔阵列，通过限流的方式降低气体压力，并将气体传输至分析腔室。
在小孔限流的作用下，成分分析室的压力满足所选用类型的质谱计的工作压力范围；所述质谱计包括磁偏转质谱计、离子阱质谱计、四极质谱计或飞行时间质谱计等质谱分析仪器。
分析腔室所采用的质谱计，可以对气体成分进行分析。根据不同质量数的气态沉积物的碎片峰确认各种沉积物成分的配比。通过采样方式的不同，可以将成分分析分为定性分析和定量分析两种形式。
定性分析：单次采样，根据碎片峰确定杂质成分。由于降压方式有质量歧视效应，所以这种分析只能作为定性分析。
定量分析：根据分子流质量歧视的特点，计算限流装置对不同质量数气体成分的流导，通过多次采样的方式对气体成分的改变进行计算，这样可以精确分析每种杂质成分的具体含量。每次进气的量通过真空规测量压力进行精确控制。
每个腔室都有相应的真空系统保证相应零部件能正常工作发挥作用，并能够保证沉积物气体成分不受其它因素影响。
至此，已经结合附图对本公开实施例进行了详细描述。需要说明的是，在附图或说明书正文中，未绘示或描述的实现方式，均为所属技术领域中普通技术人员所知的形式，并未进行详细说明。此外，上述对各元件和方法的定义并不仅限于实施例中提到的各种具体结构、形状或方式，本领域普通技术人员可对其进行简单地更改或替换。
依据以上描述，本领域技术人员应当对本公开检测膜片式真空压力计沉积物的方法有了清楚的认识。
综上所述，本公开提供了一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法，通过激发装置将待检测沉积物气化后，经减压装置将气化的沉积物传输至分析腔室，通过质谱分析的方法，完成沉积物的检测。
需要说明的是，实施例中提到的方向用语，例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等，仅是参考附图的方向，并非用来限制本公开的保护范围。贯穿附图，相同的元素由相同或相近的附图标记来表示。在可能导致对本公开的理解造成混淆时，将省略常规结构或构造。
并且图中各部件的形状和尺寸不反映真实大小和比例，而仅示意本公开实施例的内容。另外，在权利要求中，不应将位于括号之间的任何参考符号构造成对权利要求的限制。
除非有所知名为相反之意，本说明书及所附权利要求中的数值参数是近似值，能够根据通过本公开的内容所得的所需特性改变。具体而言，所有使用于说明书及权利要求中表示组成的含量、反应条件等等的数字，应理解为在所有情况中是受到「约」的用语所修饰。一般情况下，其表达的含义是指包含由特定数量在一些实施例中±10％的变化、在一些实施例中±5％的变化、在一些实施例中±1％的变化、在一些实施例中±0.5％的变化。
再者，单词“包含”不排除存在未列在权利要求中的元件或步骤。位于元件之前的单词“一”或“一个”不排除存在多个这样的元件。
说明书与权利要求中所使用的序数例如“第一”、“第二”、“第三”等的用词，以修饰相应的元件，其本身并不意味着该元件有任何的序数，也不代表某一元件与另一元件的顺序、或是制造方法上的顺序，该些序数的使用仅用来使具有某命名的一元件得以和另一具有相同命名的元件能做出清楚区分。
此外，除非特别描述或必须依序发生的步骤，上述步骤的顺序并无限制于以上所列，且可根据所需设计而变化或重新安排。并且上述实施例可基于设计及可靠度的考虑，彼此混合搭配使用或与其他实施例混合搭配使用，即不同实施例中的技术特征可以自由组合形成更多的实施例。
本领域那些技术人员可以理解，可以对实施例中的设备中的模块进行自适应性地改变并且把它们设置在与该实施例不同的一个或多个设备中。可以把实施例中的模块或单元或组件组合成一个模块或单元或组件，以及此外可以把它们分成多个子模块或子单元或子组件。除了这样的特征和/或过程或者单元中的至少一些是相互排斥之外，可以采用任何组合对本说明书(包括伴随的权利要求、摘要和附图)中公开的所有特征以及如此公开的任何方法或者设备的所有过程或单元进行组合。除非另外明确陈述，本说明书(包括伴随的权利要求、摘要和附图)中公开的每个特征可以由提供相同、等同或相似目的的替代特征来代替。并且，在列举了若干装置的单元权利要求中，这些装置中的若干个可以是通过同一个硬件项来具体体现。
类似地，应当理解，为了精简本公开并帮助理解各个公开方面中的一个或多个，在上面对本公开的示例性实施例的描述中，本公开的各个特征有时被一起分组到单个实施例、图、或者对其的描述中。然而，并不应将该公开的方法解释成反映如下意图：即所要求保护的本公开要求比在每个权利要求中所明确记载的特征更多的特征。更确切地说，如下面的权利要求书所反映的那样，公开方面在于少于前面公开的单个实施例的所有特征。因此，遵循具体实施方式的权利要求书由此明确地并入该具体实施方式，其中每个权利要求本身都作为本公开的单独实施例。
以上所述的具体实施例，对本公开的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本公开的具体实施例而已，并不用于限制本公开，凡在本公开的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种检测膜片式真空压力计沉积物的方法，包括：
步骤S1：将沉积物在预处理腔内进行激发，使沉积物成为气体状态；
步骤S2：气体状态的沉积物通过减压装置减压后，输入与减压装置相连的分析腔室；以及
步骤S3：在分析腔室内对沉积物进行质谱分析，完成沉积物的成分检测。
2.根据权利要求1所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，步骤S1中，所述激发采用电子束激发或离子束激发。
3.根据权利要求1所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，步骤S1中，通过对沉积物进行加热使沉积物气化。
4.根据权利要求1所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，步骤S2中所述减压装置上包括不同尺寸的小孔或小孔阵列，通过限流的方式使气态沉积物压力降低。
5.根据权利要求1所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，步骤S3中，在分析腔室中，通过质谱分析的方式对激发为气态的沉积物进行成分检测。
6.根据权利要求5所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，质谱分析时所用的质谱分析仪器包括：磁偏转质谱计、离子阱质谱计、四极质谱计或飞行时间质谱计中任意一种。
7.根据权利要求5所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，质谱分析时，根据不同质量数的气态沉积物的碎片峰确认各种沉积物成分的配比。
8.根据权利要求5所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，质谱分析时，根据采样方式的不同，所述成分检测分为定性分析和定量分析两种形式。
9.根据权利要求8所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，所述定性分析为单次采样，根据碎片峰确定杂质成分。
10.根据权利要求8所述的检测膜片式真空压力计沉积物的方法，所述定量分析，根据分子流质量歧视的特点，计算限流装置对不同质量数气体成分的流导，通过多次采样的方式对气体成分的改变进行计算，这样可以精确分析每种沉积物成分的具体含量。
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