CN110520072B - 用于间质激光治疗的设备 - Google Patents
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Abstract
公开了一种用于间质激光治疗的设备。该设备包括围绕中心纵向轴延伸并具有光学输出端的光学波导;光学地耦合到光学输出端、与光学输出端光学地相关联、或定位在光学输出端周围的光学漫射器,其中该光学漫射器包括壳体,该壳体具有用于容纳光学输出端和光学波导的第一纵向部分的开口端;以及被插入、或定位、或位于中心纵向轴和壳体的外表面之间,并优选地在光学波导的第一纵向部分的纵向范围内的温度传感器。光学漫射器可设有一个或多个孔、一个或多个狭缝、一个或多个开口、和/或一个或多个通气孔。该设备还可包括第二温度传感器。还公开了一种用于间质激光治疗的系统。
Description
技术领域:
本发明一般涉及间质激光热疗领域。在进一步的具体示例中,温度传感器被形成或提供为用于间质激光治疗的设备的一部分。
背景
光纤具有出色的导光性能,结合紧凑的大小和柔韧性,使其成为各种医疗应用的理想选择。
间质激光治疗是一种这样的应用,其中光被引导到目标组织以引起局部热疗并破坏该组织间质激光治疗可有效治疗病变和肿瘤,特别是那些难以通过常规手术接触到的病变和肿瘤。
在病人体内深处进行局部热疗的间质技术为治疗癌症提供了一种安全且有效的方法。肿瘤可经由插管被接触,最大限度地减少手术的侵入性,提高患者舒适度,同时减少副作用。
间质激光治疗的关键挑战涉及在治疗期间监测和控制目标区域的温度。热疗能够破坏肿瘤组织以及任何周围的健康组织。
已经确定的是,将组织加热至60℃持续一分钟会引起不可逆的细胞死亡。在100℃时,组织破坏是即刻的。通常,热疗的目的是在目标组织中引起局部热疗和凝血坏死,而不导致烧焦。因此,在间质激光治疗期间连续监测目标区域的温度是至关重要的,以提供关于目标区域状态的实时反馈。
借助于外部计算机接口,诸如磁共振成像(MRI)扫描仪之类的先进医学成像设备可被用于估计间质激光治疗期间的内部温度。然而,这些设备昂贵、笨重,并且它们的操作需要大量的训练。而且,它们提供的温度读数不是直接测量值,而是必须由计算机进行推断,并可能因此精度较低。
缺乏对组织温度的快速且可靠的反馈意味着目前的热疗设备需要冷却系统以最小化烧焦组织的风险。示例冷却系统包括冷却或冲洗导管。然而,这些冷却系统增加了进入插管的整体大小,给患者带来更大的创伤。
间质激光治疗需要新的或改进的设备和/或系统。
在本说明书中对任何现有公开(或从对现有公开中导出的信息)或已知的任何事物的引用不是且不应被当作对现有公开(或从对现有公开中导出的信息)或已知事物形成本说明书相关的领域中的一般常识的一部分的任何形式的暗示的确认或承认。
发明内容
提供本概述以便以简化的形式介绍以下在详细描述中进一步描述的概念的选集。本概述并不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征,也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。
根据示例方面,提供了一种用于间质激光治疗的设备和/或系统。该设备优选地包括具有光学输出端的光学波导,以及光学地耦合到光学输出端的光学漫射器。在一个示例形式中,光学漫射器包括具有用于容纳光学输出端的开口端的壳体。在另一示例形式中,光学漫射器包括具有用于容纳光学波导的纵向部分的开口端的壳体。优选地,光学漫射器包括具有用于容纳光学输出端和光学波导的纵向部分的开口端的壳体。在另一示例形式中,该设备包括温度传感器。优选地,温度传感器被插入、或定位、或位于光学波导的中心纵向轴和壳体的外表面之间,并可选地在光学波导的纵向部分的纵向范围内。
根据一个示例方面,提供了一种用于间质激光治疗的设备,包括:具有光学输出端的光学波导;光学漫射器光学地耦合到光学输出端、或与光学输出端光学地相关联、或定位在光学输出端周围,其中光学漫射器包括用于容纳光学输出端的开口端;以及温度传感器位于光学漫射器的外表面的内部。
根据另一个示例方面,提供了一种用于间质激光治疗的设备,包括:围绕中心纵向轴延伸并具有光学输出端的光学波导;光学地耦合到光学输出端的光学漫射器,其中该光学漫射器包括壳体,该壳体具有用于容纳光学输出端和光学波导的纵向部分的开口端;以及温度传感器,该温度传感器在光学波导的纵向部分的纵向范围内被插入在中心纵向轴和壳体的的外表面之间。
根据另一个示例方面,提供了一种用于间质激光治疗的系统,包括:上文描述的用于间质激光治疗设备中的一者;光学地耦合到光学波导的功率可调光源;以及处理系统,该处理系统被配置成:获得来自温度传感器的温度测量值;以及调整所述光源的光学输出功率。
附图说明
根据以下描述,各示例实施例变得明显,以下描述仅作为至少一个非限制性的实施例的示例给出且结合附图来描述。
图1从正面透视图例示了用于间质激光治疗的示例设备的横截面视图。
图2从顶侧透视图例示了图1的设备的横截面视图。
图3例示了图1的设备的纵向部分的横截面视图。
图4例示了图1的设备的替换实施例的纵向部分的横截面视图。
图5从正面透视图例示了用于间质激光治疗的又一示例设备的横截面图。
图6从前侧透视图例示了图5的设备的替换实施例的横截面视图。
图7从正面透视图例示了用于间质激光治疗的又一示例设备的横截面图。
图8例示了图7的设备的简化示意图,示出了第一温度传感器和第二温度传感器的各种放置。
图9例示了用于间质激光治疗的示例系统。
图10例示了用于图9的系统的示例处理系统。
图11例示了示例光学漫射器;
图12例示了另一示例光学漫射器;
图13例示了另一示例光学漫射器;
图14例示了用于间质激光治疗的示例系统或组装件;
图15例示了在用于间质激光治疗的示例系统或组装件中使用的示例设备;
图16例示了用于间质激光治疗的另一示例系统或组装件;
图17例示了用于间质激光治疗的另一示例系统或组装件;
图18例示了在用于间质激光治疗的示例系统或组装件中使用的示例引导器;
图19例示了示例套管针部分,其包括在用于间质激光治疗的示例系统或组装件中使用的加强件(stiffener)和尖刺;
图20例示了示例连接器和加强件位置。
详细描述
仅作为示例给出的以下模式被描述以提供对一个或多个实施例的主题的更确切理解。在附图中,相同的参考标号被用来标识全部附图中相同的部分,附图被包括以解说示例实施例的特征。
在本说明书的上下文中,术语“约”应理解为是指本领域技术人员在实现相同功能或结果的上下文中将认为等同于所述值的一系列数字。
参考图1和2,提供了用于间质激光治疗的示例设备100。设备100包括围绕中心纵向轴120延伸并具有光学输出端112的光学波导110。输出端112是光学波导110的远端。设备100进一步包括光学漫射器130,该光学漫射器130光学地耦合到输出端112、或与输出端112光学地相关联、或定位在输出端112周围。漫射器130包括壳体132或由壳体132组成,壳体132具有用于容纳输出端112、并且优选地还容纳光学波导110的纵向部分114的开口端134。壳体132具有外表面136,例如是圆周外表面。设备100进一步包括温度传感器151。温度传感器151优选地位于光学漫射器130的外表面136的内部。在一个示例中,温度传感器151被插入、或定位、或位于中心纵向轴120和外表面136之间,此外,温度传感器151优选地,但不是必须地,还被插入、或定位、或位于光学波导110的纵向部分114的纵向范围内。
中心纵向轴120是以光学波导110中的电磁波传播主路径为中心或与之重合的假想轴。在一些示例中,在光学波导110包括多个电磁波传播路径的情况下,中心纵向轴120以电磁波传播的中心路径为中心或与之重合。
因此,在一个示例中,提供了一种用于间质激光治疗的设备100,其包括具有光学输出端112的光学波导110。光学漫射器130光学地耦合到光学输出端112、或与光学输出端112光学地相关联、或定位在光学输出端112周围,其中光学漫射器130包括用于容纳光学输出端112的开口端134。温度传感器151位于光学漫射器130的外表面136的内部。
中心纵向轴120不与第一温度传感器151(和/或第二温度传感器,如果提供的话,诸如图5的第二温度传感器252)相交或穿过第一温度传感器151(和/或第二温度传感器,如果提供的话,诸如图5的第二温度传感器252)第一温度传感器151(和/或第二温度传感器,如果提供的话,诸如图5的第二温度传感器252)定位成与光学输出端112分开。第一温度传感器151可位于光学漫射器130的内表面附近和/或邻接光学漫射器130的内表面。
优选地,但不是必须地,光学波导110是单个光纤,或者是多个光纤。合适的光纤的示例包括石英光纤,但是适合于电磁波传播的任何其他材料也可以是合适的,诸如二氧化硅、氟化物玻璃、磷酸盐玻璃、硫属化物玻璃、聚合物或任何其他材料。
光纤的尺寸可根据设备100的特定应用而变化。在一个示例中,光纤具有约600μm的直径和约8°的发散角。在其他示例中,光纤可具有任何其他合适的直径大小和发散角。这些尺寸可能取决于需要治疗的病变或肿瘤的大小。例如,当治疗更大的肿瘤时,光纤优选具有更大的直径大小和/或更大的发散角扩展,因为根据这些特性,设备100可在更宽的区域上实现更大的热影响和组织破坏。
在其他示例中,光学波导110可以是任何类型的光学波导或光学波导的集合。合适的光学波导的各示例包括但不限于:单模光纤、多模光纤、包括一个或多个光纤的光缆、平面波导和条形波导。
优选地,但不是必须地,光学波导110能够引导具有在可见光(400nm至700nm)和/或红外(700nm至1mm)光谱内的波长或波长范围的电磁波。在一些示例中,光学波导110适合于引导具有在约890nm和约960nm范围之间的波长的电磁波。
光学波导110包括内层142和径向围绕内层142的外层144。内层142用于引导电磁波(例如,可见和/或红外辐射),并且包括芯层和径向围绕芯层的包层(未示出)。外层144用于保护内层142并包括保护套。在其他示例中,光学波导110可具有附加的或更少的层。例如,光学波导110可包括两个或更多个保护套层,或者它可以没有保护套层。
输出端112优选地剥去外层144。这对于防止外层144暴露于电磁辐射可能是有利的,外层144暴露于电磁辐射可能会导致外层144燃烧并损坏光学波导110。在一些示例中,输出端112具有约1.7mm的纵向长度。也就是说,光学波导110沿着从输出端112的尖端延伸约1.7mm的纵向部分剥去外层144。在一些示例中,输出端112具有在约1mm和约2mm之间延伸的纵向长度。在其他示例中,输出端112或输出端112的纵向部分可沿任何其他纵向长度剥去外层144。替换地,输出端112可以不剥去外层144,或者其可以部分地剥去外层144,或者可以仅从输出端112剥去或刮去外层144的径向部分。
输出端112的尖端或纵向末端被切割或抛光平坦。在其他示例中,输出端112可具有成角度的尖端(即,相对于纵向轴120以一定角度切割)、锥形尖端、球形尖端或任何其他几何形状或端部构造。
光学波导110可进一步包括光学输入端(未示出),其被适配成接收从诸如激光器或发光二极管(LED)的光源输出的电磁波。光学输入端可被设置有用于与光源的光学输出端口耦合的连接器。在操作期间,进入光学输入端的电磁波沿其纵向轴120传播通过光学波导110并从输出端112离开。
漫射器130光学地耦合到输出端112、或与输出端112光学地相关联、或定位在输出端112周围,使得离开输出端112的电磁波传播到漫射器130中。从输出端112进入漫射器130的电磁波跨壳体132的表面区域漫射、散射或扩散。
为了间质激光治疗的目的,使用光学漫射器改善了设备100的操作。在不使用光学漫射器的情况下,光学波导输出的能量通常集中在狭窄的点上。此类高能量浓度可会使波导输出端附近的组织烧焦或蒸发。尽管以此方式产生大的热损伤是可行的,但所得损伤的形态是高度不可预测并且不可再现的。光学漫射器的使用使得光学波导输出的能量跨更大的表面区域分布,从而产生跨更大的体积的更温和的凝血,同时最小化或防止组织烧焦。光学漫射器的使用允许更一致和可预测的治疗过程。而且,光学漫射器限制了光学波导尖端的变性。保护光学波导尖端允许重复使用设备100,以及增强其安全性和准确性。
在一个示例中,壳体132是圆柱状或管状的。在其他示例中,壳体132可具有任何其他几何形状,诸如圆锥状。此外,漫射器130可以是中空的,或者漫射器130可进一步包括由壳体132包封的散射材料并形成用于散射进入漫射器130的电磁波的介质。
壳体132优选地是管状壳体,包括开口端134、与开口端134相对的封闭端和外表面136。开口端134机械地耦合到纵向部分114、或固定到纵向部分114、或附接到纵向部分114。壳体132的纵向部分包围纵向部分114并且与外层144扣合、或贴合、夹持或摩擦地接合。在一些示例中,胶水或其他紧固机制可被提供以将壳体132机械地耦合、或固定、或附接到纵向部分114。
壳体132由内径和外径限定,内径是壳体132的容器(即,用于容纳输出端112和纵向部分114的空间)的直径,而外径是壳体132的外表面136的直径。壳体132的内径基本上等于光学波导110的外径。在此情况下,壳体132的外径大于光学波导110的外径,使得漫射器130相对于光学波导110径向向外凸出或突出。
在其他示例中,壳体132的外径近似等于光学波导110的外径,使得漫射器130与光学波导110齐平。在该后一示例中,壳体132的内径小于光学波导110的外径。因此,纵向部分114的外层144可能需要被刮去或被部分剥去,以便允许纵向部分114被容纳到壳体132中。此后一示例的优点在于漫射器130与光学波导110的耦合不会增加设备100的直径。
在又一示例中,壳体132的外径可以小于光学波导110的外径。
壳体132由透光材料构成,以允许散射在漫射器130内的电磁辐射辐射到被治疗的组织中。优选地,但不是必须地,壳体132由耐热材料(例如,具有低热膨胀系数的材料)构成,其能够承受高达至少约100℃的温度,或者间质激光治疗可能需要的任何最高温度。
优选地,但不是必须地,壳体132包括聚四氟乙烯(PTFE),也称为“Teflon”。有利地,PTFE可耐热至高约300℃。在其他示例中,其他透光材料可构成壳体132,诸如聚碳酸酯、聚氨酯、聚乙烯、聚丙烯、硅、尼龙、PVC、PET、ABS、PES、PEEK、FEP、以及其它适当的柔性或刚性、射电(radio-opaque)不透明或非射电不透明材料。
由诸如PTFE之类的耐热材料制成的光学漫射器是有利的,因为它能够使被直治疗的组织凝血而不会烧焦,并且它保护光学波导的尖端在治疗期间不会熔化或燃烧。此外,耐热漫射器去除了使用冷却系统来保护设备100的完整性的需要。因此,设备100不需要包括冷却系统。
温度传感器151被提供以用于测量由设备100通过间质热疗法治疗的组织的温度。因此,设备100允许对位于肝脏、胰腺、前列腺、脑、或患者体内任何其他位置处的肿瘤或组织进行激光间质热疗。另外,设备100允许精确、直接和快速地测量被治疗的肿瘤或组织的绝对或相对温度。由温度传感151提供的温度读数可用于调节由设备100递送到组织的辐射量,并可用于获得或维持必要的治疗组织温度。
温度传感器151被插入、径向插入、或包封、或定位、或位于在中心纵向轴120和壳体132的外表面136之间,或至少部分地在中心纵向轴120和壳体132的外表面136之间。优选地,温度传感器151还被插入、或定位、或位于光学波导110的纵向部分114的纵向范围内。在另一示例中,温度传感器151位于光学漫射器130的外表面136的内部。中心纵向轴120不与第一温度传感器151相交或穿过第一温度传感器151。第一温度传感器151定位成与光学输出端112分开、或远离光学输出端112、或不邻接光学输出端112。第一温度传感器151可位于光学漫射器130的内表面附近和/或邻接光学漫射器130的内表面。纵向部分114是波导110的纵向部分、区段或分段,其位于壳体132的内部(即,壳体132被机械地耦合到纵向部分114,或被机械地耦合到纵向部分114的至少一部分)。纵向部分114的长度可根据壳体132的内部结构而变化,纵向部分114被容纳在壳体132中。优选地,但不是必须地,纵向部分114直接邻近或靠近输出端112。在一些示例中,纵向部分114从剥去外层144的输出端112的一点延伸。
在一些示例中,纵向部分114的长度为约5mm,这意味着从剥去外层144的输出端112的末端到开口端134附近的光学波导110的点的距离为约5mm。在其他示例中,纵向部分114的长度为约3mm、或约4mm、或约6mm、或约7mm、或约8mm。在其他示例中,纵向部分114的长度在约1mm和约10mm之间。在其他示例中,纵向部分114的长度在约2mm和约8mm之间。在其他示例中,纵向部分114的长度在约3mm和约7mm之间。在其他示例中,纵向部分114的长度在约4mm和约6mm之间。在其他示例中,纵向部分114可具有任何合适的长度。
纵向部分114至少部分地剥去外层144以便容纳温度传感器151。凹陷、凹槽或凹口被形成在外层144内,并且温度传感器151布置、位于或定位在此凹陷内。纵向部分114的横截面视图在图3中被例示,例示了用于容纳温度传感器151的凹陷、凹槽或凹口的轮廓。也可使用其他凹陷轮廓,例如,与温度传感器151的轮廓紧密贴合或配合的凹陷轮廓。在其他示例中,温度传感器151被嵌入纵向部分114的外层144内。
用于容纳温度传感器151的凹陷可通过蚀刻纵向部分114中的外层144的部分或切片来形成。凹陷的深度使得温度传感器151与纵向部分114中的外层144的剩余条带接触或附接。在图4中例示的其他示例中,凹陷的深度使得温度传感器151与内层142的暴露部分接触或附接到内层142的暴露部分。例如,温度传感器151可与光学波导110的包层或芯层的暴露部分接触或附接。凹陷可因此通过沿着纵向部分114的区段完全蚀刻或剥去外层144而形成。在一些示例中,凹陷的最大深度约为0.3mm深。在其他示例中,凹陷的最大深度小于约1mm、或约2mm、或任何其他合适的最大深度值。
在一些示例中,温度传感器151可用粘合剂(例如基于氰基丙烯酸酯的粘合剂)粘附到光学波导110。在其他示例中,可使用将温度传感器151牢固地固定或附接到光学波导110的任何其他机制。
优选地,但不是必须地,凹陷的深度使得温度传感器151不会凸出或突出超过光学波导110的外径或外部范围。
优选地,但不是必须地,温度传感器151是微温度传感器,或具有与光学波导110的特征横截面尺寸相符的尺寸的温度传感器。在一些示例中,光学波导110的特征横截面尺寸在毫米或亚毫米范围内,诸如在约0.06mm至约0.1mm之间。在一些示例中,温度传感器151是集成温度传感器,包括用于测量温度的集成电路。
在一些示例中,温度传感器151是热电偶或微热电偶。在其他示例中,温度传感器151是红外温度传感器。在其他示例中,温度传感器151是能够在不必直接接触的情况下测量物体的温度的完全集成的微机电系统(MEM)热电堆传感器,诸如德州仪器的TMP006或TMP006B红外热电堆非接触式温度传感器。在其他示例中,可使用其他类型的温度传感器,诸如数字温度传感器、模拟温度传感器、电子温度传感器、机械温度传感器、热敏电阻、硅带隙温度传感器、或任何其他类型的温度传感器。
在一个示例中,温度传感器151连接到温度传感器151的操作所需的缆线或引线160(例如,用于为温度传感器151供电和/或用于传送测量数据)。电缆160沿着光学波导110延伸以到达操作设备100的操作者或系统。优选地,但不是必须地,缆线160可被固定到光学波导110,以避免它们在设备100的操作期间缠结。在一些示例中,氟带绕组162可将这些电缆紧固到光学波导110。在其他示例中,可使用其他紧固机制。
在其他示例中,温度传感器151是无线温度传感器,借助于无线链路来传送其温度测量值。一些示例中,温度传感器151是被无线地供电的无线温度传感器。一个示例无线温度传感器是由埃因霍温科技大学的混合信号微电子小组开发的,该无线温度传感器由传感器的无线网络中的无线电波供电。合适的无线温度传感器的其他示例可在Hao Gao的博士论文“完全集成的超低功率毫米波无线传感器设计方法(Fully integrated ultra-lowpower mm-wave wireless sensor design methods)”和Hao Gao等人在华盛顿州西雅图的2013年IEEE射频集成电路研讨会(RFIC)上发布的论文“用于65nm CMOS中的无线温度传感器的效率为8%的71GHz射频能量采集标签(A 71GHz RF energy harvesting tag with8%efficiency for wireless temperature sensors in 65nm CMOS)”中找到。403–406.在温度传感器151是无线传感器的示例实施例中,或者在缆线160多余的其他示例中,缆线160可被不包括在设备100中。
优选地,但不是必须地,温度传感器151被适配成测量光学漫射器130外部的温度。例如,在温度传感器151是红外温度传感器的情况下,其取向应被设置或布置以便于检测被治疗的组织的红外能谱。替换地,温度传感器151被适配成通过测量光学漫射器130的温度来测量光学漫射器130外部的温度。例如,光学漫射器130可能与正被治疗的组织接触或紧密接近正被治疗的组织,在此情况下,光学漫射器130可以与该组织大致处于热平衡或准平衡。
通常,不希望温度传感器151暴露于从输出端112流出的电磁辐射中。此类暴露可能导致温度传感器151吸收电磁辐射,导致损坏或错误的温度测量值。为了避免这种情况,温度传感器151被布置、定位或位于纵向部分114上,纵向部分114本身从输出端112流出的电磁波的传播路径移除、偏移或移位。
一些示例中,温度传感器151布置、定位或位于输出端112的电磁暴露的范围之外。例如,温度传感器151可被布置在距离输出端112的最小距离之外。在一些示例中,取决于设备100的操作条件,温度传感器151的位置可以改变,以防止直接暴露于辐射。
然而,为了提高温度测量值的准确性,可能优选地使温度传感器151位于尽可能靠近正被设备100放射的组织的位置。因此,在一些示例中,温度传感器151应尽可能靠近输出端112而不暴露于从输出端112流出的电磁辐射。在图1和2所例示的示例实施例中,温度传感器151被布置、定位或位于靠近输出端112或在输出端112附近的纵向部分114的末端。
在其他示例中,设备100进一步包括用于保护温度传感器151不暴露于由输出端112输出和/或从漫射器130反射或散射的电磁波的电磁屏蔽。以此方式,通过由温度传感器151直接吸收电磁能量,温度测量值不受影响或受影响最小。
参考图5,例示了用于间质激光治疗的另一示例设备200。设备200包括围绕中心纵向轴220延伸并具有光学输出端212的光学波导210。设备200进一步包括光学漫射器230,该光学漫射器230光学地耦合到输出端212、或与输出端212光学地相关联、或定位在输出端212周围。漫射器230包括壳体232,该壳体232具有用于容纳输出端212和光学波导210的第一纵向部分214的开口端234。设备200进一步包括第一温度传感器251和第二温度传感器252,第一温度传感器251被插入、定位或位于纵向轴220和壳体232的外表面236之间,并在光学波导210的第一纵向部分214的纵向范围内,而第二温度传感器252被附接或固定到光学波导210。如前所述,在另一示例中,第一温度传感器251可位于光学漫射器230的外表面236的内部。
优选地,但不是必须地,第二温度传感器252被布置、定位或位于光学波导210上并且位于光学漫射器230的外部。第二温度传感器252被附接或固定在光学波导210的第二纵向部分216内。第二温度传感器252被布置、定位或位于光学漫射器230的开口端234附近。第二温度传感器252从第一温度传感器251纵向偏移、或移位。在一些示例中,第一温度传感器251和第二温度传感器252纵向偏移约5mm。在一些示例中,第一温度传感器251和第二温度传感器252纵向偏移约4mm至约6mm、或约3mm至约7mm、或约2mm至约8mm。在其他示例中,第一和第二温度传感器251和252之间可使用任意长度的纵向偏移。
此外,尽管第一温度传感器251和第二温度传感器252被例示为位于光学波导210的周向相对端,但这不是必须的。在其他示例中,可使用第一温度传感器251和第二温度传感器252之间的任何相对周向移位。中心纵向轴120不与第一温度传感器251和/或第二温度传感器252相交或穿过。第一温度传感器251和/或第二温度传感器252定位成与光学输出端112分开。第一温度传感器251可被定位在光学漫射器230的内表面附近和/或邻接光学漫射器130的内表面。第二温度传感器252可被定位在光学漫射器230的纵向范围之外,即在第二纵向部分216内。
光学波导210包括内层242和径向围绕内层242的外层244。第二纵向部分216是光学波导210的纵向部分、区段或分段,其在壳体232的外部。优选地,但不是必须地,第二纵向部分216紧邻壳体232或与壳体232直接邻接。第二纵向部分216可具有任何纵向长度,诸如1mm、2mm、3mm、4mm、5mm或任何其他长度。优选地,第二纵向部分216不与第一纵向部分214重叠或不与第一纵向部分214共同延伸。
第二纵向部分216至少部分地剥去外层244以便容纳第二温度传感器252。凹陷、凹槽或凹口被形成在外层244内,并且第二温度传感器252被布置、位于或定位在此凹陷内。在其他示例中,第二温度传感器252被嵌入第二纵向部分216的外层244内。
用于容纳第二温度传感器252的凹陷可通过蚀刻第二纵向部分216中的外层244的部分或切片来形成。凹陷的深度使得第二温度传感器252与第二纵向部分216中的外层244的剩余条带接触或附接。在图6中例示的其他示例中,凹陷的深度使得第二温度传感器252与内层242的暴露部分接触或附接到内层242的暴露部分。如图6所例示的,第一温度传感器251还可与内层242的暴露部分接触或附接到内层242的暴露部分。也就是说,用于容纳第一和第二温度传感器251和252的凹陷可通过沿着第一和第二纵向部分214和216的分段完全蚀刻或剥去外层244而形成。
在一些示例中,凹陷的最大深度约为0.3mm深。在一些示例中,凹陷的最大深度小于约1mm。在其他示例中,凹陷可以具有任何其他最大深度值。在其他示例中,第二温度传感器252被布置、位于或定位在内层242的包层内,而不阻碍电磁波在内层242的芯层中的传播。
在一些示例中,第二温度传感器252可用粘合剂附接到光学波导210,例如基于氰基丙烯酸酯的粘合剂。在其他示例中,可使用将第二温度传感器252牢固地固定或附接到光学波导210的任何其他机制。
优选地,但不是必须地,凹陷的深度使得第二温度传感器252不会凸出或突出超过光学波导210的外径。
优选地,但不是必须地,第二温度传感器252是微温度传感器,或具有与光学波导210的特征横截面尺寸相符的尺寸(例如毫米或亚毫米)的温度传感器。在一些示例中,第二温度传感器252是集成温度传感器,包括用于测量温度的集成电路。
在一些示例中,第二温度传感器252是热电偶或微热电偶。在其他示例中,温度传感器252是红外温度传感器。在其他示例中,第二温度传感器252是能够在不必直接接触的情况下测量物体的温度的完全集成的微机电系统(MEM)热电堆传感器,诸如德州仪器的TMP006或TMP006B红外热电堆非接触式温度传感器。在其他示例中,可使用其他类型的温度传感器,诸如数字温度传感器、模拟温度传感器、电子温度传感器、机械温度传感器、热敏电阻、硅带隙温度传感器、或任何其他类型的温度传感器。
在其他示例中,第二温度传感器252是无线温度传感器,借助于无线链路来传送其温度测量值。一些示例中,第二温度传感器252是被无线地供电的无线温度传感器,如先前描述的。
此外,在一些示例中,第二温度传感器252与第一温度传感器251具有相同的类型或种类。例如,第一温度传感器251和第二温度传感器252两者都可以是微热电偶。在其他示例中,与第一温度传感器251相比,第二温度传感器252具有不同的类型或种类。例如,第一温度传感器251可以是红外温度传感器,而第二温度传感器252可以是微热电偶。在其他示例中,第一温度传感器251和第二温度传感器252可具有相同或不同的操作特性(例如,温度测量范围、测量分辨率)和额定值。
在设备200的操作期间,第一温度传感器251和第二温度传感器252测量或感测不同的温度。提供第一温度传感器251以测量为了间质激光治疗而被放射的组织的温度,而提供第二温度传感器252以测量其他物体和/或组织的温度。由于第二温度传感器252从漫射器230偏移,因此它不被适配成测量正被放射的组织的温度。在一些示例中,第二温度传感器252被适配成测量光学漫射器230外部的温度。在一些示例中,第二温度传感器252提供参考或基线温度读数。例如,第二温度传感器252可测量与正被治疗的组织邻接、在正被治疗的组织周围或附近的组织的温度。然后可相对于第二温度传感器252的温度测量值来考虑第一温度传感器251的温度测量值。例如,设备200可提供第一温度传感器251和第二温度传感器252之间的温度梯度或差的测量。在一些示例中,第一温度传感器251和第二温度传感器252被适配成测量温度差。
在其他示例中,第二温度传感器252可被用于监测在间质热疗法期间不应被加热的组织的温度。例如,第二温度传感器252使操作者能够监测正在治疗的肿瘤周围的健康组织的温度,并且在健康组织的温度超过某个安全水平的情况下进行适当的调整。替换地,第二温度传感器252提供备用、冗余或替换温度传感器,以防第一温度传感器251在治疗过程中变得不可用或有故障。
在其他示例中,设备200可包括附加的温度传感器,诸如三个、四个或更多个温度传感器。
参考图7,例示了用于间质激光治疗的另一示例设备300。设备300包括围绕中心纵向轴320延伸并具有光学输出端312的光学波导310。设备300进一步包括光学漫射器330,该光学漫射器330光学地耦合到输出端312、或与输出端312光学地相关联、或定位在输出端312周围。漫射器330包括壳体332,该壳体332具有用于容纳输出端312和光学波导310的第一纵向部分314的开口端334。壳体332具有外表面336。设备300进一步包括第一温度传感器351和第二温度传感器352,第一温度传感器351被插入、定位或位于中心纵向轴320和外表面336之间,并在光学波导310的第一纵向部分314的纵向范围内,而第二温度传感器352被固定到光学波导310。如前所述,在另一示例中,第一温度传感器351可位于光学漫射器330的外表面336的内部。
光学波导310包括内层342和径向围绕内层342的外层344。第一温度传感器351被固定到第一纵向部分314的外层344。第二温度传感器352被固定在光学波导310的第二纵向部分316内。第二温度传感器352被固定到第二纵向部分316的外层344。第一和第二纵向部分314和316未被剥去或刮去外层344。此构造可便于设备300的制造或组装。
壳体332应设置有内径,该内径超过光学波导310的外径,以便容纳第一温度传感器351。
参考图8,例示了设备300的简化示意图,其示出了各种替换点或位置,其中可单独或组合地布置、定位、嵌入或设置第一温度传感器和第二温度传感器或附加温度传感器。
在一个示例中,第一温度传感器370被嵌入第一纵向部分314的外层344中,并且部分地朝向输出端312暴露,或者暴露在输出端312附近。在另一示例中,第一温度传感器可被完全嵌入外层344中。在另一示例中,第一温度传感器372被定位在第一纵向部分314的外层344上,并且朝向输出端312凸出或突出。在另一示例中,第一温度传感器374被定位在第一纵向部分314的外层344上,并且从最靠近输出端312的第一纵向部分314的末端移位。例如,第一温度传感器364可被定位在开口端334附近。在另一示例中,第一温度传感器376被定位在壳体332的凹槽、凹陷或腔内。在其他示例中,外层344和壳体332可两者都设置有用于容纳第一温度传感器376的相应的凹槽、凹陷或腔。在其他示例中,第一温度传感器可被嵌入、定位、布置或位于第一纵向部分314中的内层342的包层内,并且被布置成不阻碍电磁波在内层342的芯层中的传播。
在一个示例中,第二温度传感器378被嵌入第二纵向部分316的外层344中。在其他示例中,第二温度传感器378可仅被部分地嵌入第二纵向部分316的外层344中。在另一示例中,第二温度传感器380被定位在第二纵向部分316的外层344上,并且从壳体332和开口端334偏移、移位或移除。在各种实施例中,第二温度传感器380和开口端334之间的距离可以变化。在其他示例中,第二温度传感器可被嵌入、定位、布置或位于第二纵向部分316中的内层342的包层内,并且被布置成不阻碍电磁波在内层342的芯层中的传播。
在各种进一步的示例中,可使用任何第一温度传感器351、370、372、374和376中的两个或更多个。在另一示例中,可使用任何第二温度传感器352、378和380中的两个或更多个。
用于间质激光治疗的系统
参考图9,例示了用于间质激光治疗的示例系统400。系统400包括用于间质激光治疗的设备410,如任何前述示例中所述。系统400进一步包括光学地耦合到设备410的光学波导的输入端的功率可调光源420,以及处理系统430。处理系统430被配置成从设备410的一个或多个温度传感器获得一个或多个温度测量值,并调整光源420的光学输出功率。
光源420将光学信号递送到光学波导并允许对光学信号的功率进行调谐或调整。在一些示例中,光源420是激光器或LED,或能够生成光学信号的其他设备。在其他示例中,光源420是将光学信号(从另一光源生成)中继到设备410的光波导的功率可调谐有源设备(诸如放大器)或功率可调谐无源设备(诸如衰减器或可调谐耦合器)。
在一些示例中,处理系统430直接从设备410的一个或多个温度传感器接收或获得一个或多个温度测量值。在其他示例中,处理系统430从连接到一个或多个温度传感器的一个或多个外围设备接收或获取一个或多个温度测量值,其中外围设备基于从一个或多个温度传感器获取的传感器数据计算正在被治疗的一个或多个组织的温度。示例外围设备包括电压表、功率计、光谱仪或用于解释传感器数据并将其转换为温度测量值的任何其他仪器。在又一示例中,处理系统430基于从一个或多个温度传感器获取的传感器数据来计算正被治疗的组织的温度。
处理系统430依赖于温度测量值来确定如何调整光源420的输出光功率。在一些示例中,处理系统430可依赖于附加信息或数据来确定如何调整光源420的输出光功率。此附加信息可包括正被治疗的肿瘤的大小和尺寸,以及肿瘤的组织的类型。可在治疗开始之前使用医学成像设备确定此信息。在一些示例中,处理系统430在确定如何调整光源420的输出光功率时,可依赖包括光功率/能量要求、曝光/辐射时间、和特定组织或肿瘤的光波长要求的数据表。
系统400可进一步包括用于将设备410递送到治疗区域的通道。通道的示例包括导管、插管、管体或任何其他通道,这取决于正在被治疗的肿瘤或组织的位置(例如,肝脏、胰腺、前列腺、脑或患者体内的任何其他位置)。通道可被插入患者体内。设备410将被插入通道中,设备410的漫射器作为前导部分,并且设备410的光学波导随后通过通道馈送。因此,通道将设备410引导至治疗区域。
在另一示例中,通道(即插管)可设有透明的端部和/或封闭的套管针尖端(或其他类型的尖头器械)。具有透明端部的插管允许激光能量和/或热量从插管传送到组织中。传统的套管针是实心的,通常由不透明的塑料或金属制成。传统的套管针也没有封闭端。
在一个示例中,使用具有尖端的套管针,其可被用于像正常插管那样穿透组织。尖端可切割和穿透组织和/或皮肤。通道(即插管)的端部优选地由透明材料、光学透明材料或光学半透明材料制成。可选地,插管的整个长度可由相同的材料(透明材料、光学透明材料或光学半透明材料)制成。也就是说,至少在一些示例中,通道(即插管)的至少端部是透明或半透明的。这些示例允许激光能量和/或热量穿透插管壁进入周围组织。在另一可选形式中,如果与冲洗流体一起使用,插管也可设有冲洗出口和冲洗入口。
系统400可进一步包括用于在设备410被递送到治疗区域时定位设备410的成像设备。示例成像设备包括MRI扫描仪、超声扫描仪、或其他回声定位扫描仪。设备410的一个优点是它能够测量正在被治疗的组织的温度而无需附加的诊断设备。这允许使用诸如通常不能测量温度的超声扫描仪之类的更简单的成像设备,以便于在治疗期间定位设备410。
有利地,系统400提供反馈机制,其能够精确监测正在被治疗的肿瘤或组织的温度水平,并借助于调整递送到肿瘤或组织的输出光功率来调整此温度水平。由于所使用的元件的复杂性降低,此反馈过程可实时地(或以低延迟)执行。也就是说,不再需要采用高度复杂的MRI扫描仪来仅仅估计温度。
处理系统
参考图10,例示了示例处理系统430。具体而言,处理系统430一般包括至少一个处理器502、或处理单元、或多个处理器,存储器504,至少一个输入设备506以及至少一个输出设备508,它们经由总线或一组总线510耦合在一起。在某些实施例中,输入设备506和输出设备508可以是同一设备。还可提供用于将处理系统430耦合到一个或多个外围设备的接口512,例如接口512可以是PCI卡或PC卡。容纳至少一个数据库516的至少一个存储设备514也可被提供。存储器504可以是任何形式的存储器设备,例如,易失性或非易失性存储器、固态存储设备、磁性设备等。处理器502可包括一个以上不同的处理设备,例如以用于在处理系统430内处理不同的功能。
输入设备506接收输入数据518(例如温度读数或来自一个或多个温度传感器的数据),并且可包括例如键盘、诸如笔状设备或鼠标之类的指针设备、诸如话筒之类的用于语音控制激活的音频接收设备、诸如调制解调器或无线数据适配器之类的数据接收器或天线、数据采集卡等。输入数据518可来自不同的源,例如键盘指令与经由网络接收的数据。输出设备508产生或生成输出数据520并且可包括,例如,显示设备或监视器(在此情况下输出数据520是可视的)、打印机(在此情况下输出数据520被打印)、端口(例如USB端口)、外围组件适配器、数据发射器或天线(诸如调制解调器或无线网络适配器)、或被发送以控制或调整光源420的输出光功率的数据等。输出数据520可以是不同的并且从不同的输出设备导出,例如监视器上的视觉显示结合传送到网络的数据。用户可以在例如监视器上或使用打印机来查看数据输出或数据输出的解释。存储设备514可以是任何形式的数据或信息存储装置,例如易失性或非易失性存储器、固态存储设备、磁设备,等等。
在使用中,处理系统430被适配成允许数据或信息经由有线或无线通信手段被存储在至少一个数据库516中和/或从中被检索。接口512可以允许处理单元502与可服务于特殊目的的外围部件之间的有线和/或无线通信。处理器502经由输入设备506接收指令作为输入数据518且可通过利用输出设备508向用户显示经处理的结果或其他输出。可以提供一个以上输入设备506和/或输出设备508。应当明白,处理系统430可以是任何形式的终端、服务器、特殊硬件,等等。
进一步的示例
以下示例提供各特定实施例的更详细讨论。对于本发明的范围而言,各示例旨在仅仅是说明性而非限制性的。
在先前讨论的任何示例中,漫射器或漫射器的一部分可任选地附加地设有一个或多个孔、一个或多个狭缝、一个或多个开口、和/或一个或多个通气孔。例如,一个或多个孔、狭缝、开口和/或通气孔可被使用以使电磁能量(例如激光能量)更好地从激光光纤中漫射出去。这有利地引起减少对漫射器尖端造成损坏以及更好地将能量渗透到组织中。
传统上,激光学漫射器尖端是实心且透明或半透明的,以使激光能量能够漫射出去。这会导致漫射器发热。由于激光能量的作用,漫射器会过热和解体。激光能量所递送到的组织也可能倾向于烧焦和燃烧,而不是逐渐升温并允许能量能够渗透到组织中。
在进一步的示例中,漫射器中的一个或多个孔、一个或多个狭缝、一个或多个开口、和/或一个或多个通气孔附加地允许从正被加热的组织生成的气体从漫射器的内部区域逸出、漫射、或排出,并再次使能量更稳定地传递到组织中。也就是说,在使用中,生成的气体经由一个或多个孔、一个或多个狭缝、一个或多个开口、和/或一个或多个通气孔从光学漫射器的内部区域逸出。
“开放式”、“非实心”或“半封闭”漫射器的特别有利的用途是,如果与冲洗溶液一起使用以冷却漫射器,则冲洗溶液具有更好和更容易进入漫射器的途径。这允许漫射器被更有效地冷却并允许使用更高的激光功率,而不会对漫射器造成损坏或导致组织烧焦和燃烧。附加地,这还可同时允许从对组织的加热或从冲洗溶液释放的气体更容易地从漫射器的内部区域逸出、漫射或排出。
可使用一个或多个孔、一个或多个狭缝、一个或多个开口、和/或一个或多个通气孔的各种类型、形状、数量、取向和/或构造。
参考图11,示出了示例光学漫射器,优选地是圆柱状光学漫射器630(或管状光学漫射器)。光学漫射器630的相对长度、厚度和直径仅作为示例提供,一个或多个孔640的取向、位置和范围也是如此。一个或多个孔640,即一个或多个开口和/或一个或多个通气孔,沿着光学漫射器630的纵向长度的至少一部分并在不同的圆周位置处被设置,并穿过光学漫射器630的壳体以从光学漫射器630的外表面延伸到内表面。
参考图12,例示了另一示例光学漫射器730,其设有一个或多个狭缝740,即一个或多个开口740和/或一个或多个通气孔740。一个或多个狭缝740,即一个或多个开口和/或一个或多个通气孔,沿着光学漫射器730的纵向长度的至少一部分并在不同的圆周位置处被设置,并穿过光学漫射器730的壳体以从光学漫射器730的外表面延伸到内表面。一个以上的狭缝可沿光学漫射器730的纵向长度被设置。
应当理解,可沿着示例漫射器的任何长度、部分、范围或圆周提供借助于图11和12的示例所例示的一个或多个孔、一个或多个狭缝、一个或多个开口和/或一个或多个通气孔。可提供各种不同类型的孔、狭缝、开口和/或通气孔。类似地,可提供各种不同形状的孔、狭缝、开口和/或通气孔。附加地,可提供任何数量的孔、狭缝、开口和/或通气孔作为漫射器的一部分。附加地,可提供各种取向的孔、狭缝、开口和/或通气孔作为漫射器的一部分。附加地,可提供孔、狭缝、开口和/或通气孔的混合物的各种构造作为漫射器的一部分。
如借助于图11和12的示例所例示的,一个或多个孔、一个或多个狭缝、一个或多个开口和/或一个或多个通气孔可围绕漫射器的圆周定位,并且可沿着漫射器的纵向范围或长度的至少一部分定位。任何所需数量的孔、狭缝、开口和/或通气孔可以以任何所需的角度间隔围绕圆周定位。作为非限制性示例,仅以指示的方式提供,孔、狭缝、开口和/或通气孔可具有约0.1mm至约10mm的长度或直径。孔、狭缝、开口和/或通气孔可间隔开例如约0.5mm至约10mm。假设需要四个纵向延伸的线或图案,则孔、狭缝、开口和/或通气孔的纵向延伸线或图案可周向地间隔开约90度。假设需要三个纵向延伸的线或图案,则孔、狭缝、开口和/或通气孔的纵向延伸线或图案可周向地间隔开约120度。假设需要两个纵向延伸的线或图案,则孔、狭缝、开口和/或通气孔的纵向延伸线或图案可周向地间隔开约180度。在另一示例中,假设需要一个纵向延伸的线或图案,则提供孔、狭缝、开口和/或通气孔的一个纵向延伸线或图案。
参考图13,例示了另一示例光学漫射器830、930、1030、1130、1230、1330的侧视图,其具有不同示例类型、形状、取向和/或构造的孔、狭缝、开口和/或通气孔。示例光学漫射器被例示为具有不确定的纵向范围。示例光学漫射器是三维的管状或圆柱状。漫射器830包括一个或多个纵向对齐的狭缝或通气孔840。漫射器930包括一个或多个成角度的狭缝或通气孔940。漫射器1030包括一个或多个孔或通气孔1040。漫射器1130包括一个或多个孔或开口与一个或多个狭缝840的组合。不同形状的孔、开口、通气孔或狭缝的构造、取向和/或布置可显著变化。漫射器1230包括垂直对齐的一个或多个狭缝1240。漫射器1330包括至少部分地沿着漫射器1330的纵向范围或长度以不同或周期性的圆周(或径向)角度偏移的一个或多个孔或开口1340。应该认识到,示例漫射器中示出的孔、狭缝、开口和/或通气孔的数量仅用于说明,并且可使用任何数量(例如一、二、三、四、五、六、七、八、九、十等)个孔、狭缝、开口和/或通气孔或其任何组合。
图14例示了用于间质激光治疗的示例系统或组装件1400的一部分。系统或组装件1400包括光学漫射器(和其他组件)组装件部分1410、用于激光光纤的连接器1420、用于第一热电偶(即第一温度传感器)的连接器1430、以及用于第二热电偶(即第二温度传感器)的连接器1440。
图15例示了光学漫射器(和其他组件)组装件部分1410的进一步细节。光学漫射器1530附接到(带有护套的)激光光纤1540。可提供第一热电偶1510(即第一温度传感器)和可选的第二热电偶1520(即第二温度传感器)。还例示了激光光纤1550,优选地具有透明的二氧化硅尖端。光学漫射器1530可被胶合或以其他方式附接(例如,摩擦地安装)到激光光纤1540上。一个或多个孔、开口和/或通气孔1560可被提供作为光学漫射器1530的一部分。
图16例示了用于间质激光治疗的另一示例系统或组装件1600。可采用各种类型或配置的连接器1610被用于连接输送冷却流体的管体或管道。冷却流体可由输入管道或管体1620通过连接器1610引入,以被引导到(即,围绕光学漫射器部分的)可操作区域1630。可操作区域1630包括光学漫射器1530、第一热电偶1510(即第一温度传感器)、第二热电偶1520(即第二温度传感器)、(带有护套的)激光光纤1540作为至少部分组件。激光光纤1540和热电偶(即温度传感器)可通过连接器1610或连接器1610中的至少一些插入到护套管体中。
图17例示了用于间质激光治疗的另一示例系统或组装件1700。连接器1715包括用于经由第一入口/出口管体或管道1750和第二入口/出口管体或管道1755将冷却流体引入或输送到可操作区域1735的连接器布置。在(即围绕光学漫射器部分的)操作区域1735中,提供光学漫射器1730、第一热电偶1710(即第一温度传感器)、第二热电偶1720(即第二温度传感器)、(带有护套的)激光光纤1740和护套管体1770。还提供了引导器第一部分1780(在此示例中是光学透明或透明的管体),以及引导器第二部分1790(在此示例中是金属管体)。在端部设有套管针1795或其他形式的锋利器械。
在其他示例中,引导器(即通道或插管)可设有光学透明的端部和/或封闭的套管针尖端。具有透明端部的引导器或通道或插管允许激光能量和/或热量从引导器或插管传送出而进入到组织中。套管针具有可被用于像正常插管一样穿透组织的尖端。在一个示例中,可使用具有设置为透明尖端或半透明尖端的套管针尖端的插管。引导器或通道或插管的端部可由透明材料、光学透明材料或光学半透明材料制成。可选地,引导器或通道或插管的整个长度可由相同的材料(即透明材料、光学透明材料或光学半透明材料)制成。这些示例允许激光能量和/或热量穿透引导器或通道或插管的壁进入周围组织。如图所示,如果与冷却或冲洗流体一起使用,则引导器或插管可设置有流体或冲洗入口/出口。在其他示例中,引导器或通道或插管可以是不透明的,例如由金属或陶瓷制成。
引导器(即通道或插管)或其端部和套管针(即刺穿尖刺部分或区域、或金属尖刺)可以是透明的、光学透明的或光学半透明的,并且在一起可用作组合或集成套管针—漫射器设备或单元。也就是说,套管针可以与光学漫射器类似地起作用和/或与光学漫射器互补地起作用。套管针(即刺穿尖刺部分或区域,或金属尖刺)可在用作套管针的同时也可用作光学漫射器(或光学漫射器的一部分)。也就是说,套管针具有双重功能。在此类示例中,套管针光学地耦合到光学波导的光学输出端或与光学波导的光学输出端光学地相关联,类似于先前针对光学漫射器所描述的。套管针还可设有用于冲洗流体的入口。
图18例示了用于间质激光治疗的另一示例系统或组装件1800。连接器1815(例如包括T形连接器)可包括公鲁尔滑动端口1825和母鲁尔锁1835,母鲁尔锁1835连接到公鲁尔帽1845并且包括流体延伸线或管道。系统或组装件1800包括套管针部分1895或刺穿尖刺部分,其包括金属尖刺1890或其他切割边缘,其可被胶合或以其他方式附接到光学透明或透明管体1880。光学透明或透明的管体1880提供合适的光学透明或透明窗体或区域以便于正确的激光操作。管体1860(其例如可以是金属的)将连接器1815连接到光学透明或透明的管体1880。
在另一示例中,可能不存在任何金属管1860,转而光学透明或透明的管体1880可在连接器1815和套管针部分1895,或者刺穿尖刺部分之间延伸。流体传输延伸线或管道1870连接到母鲁尔锁1875,该母鲁尔锁1875提供用于冷却流体的出口。系统或组装件1800包括“引导器”(即插管),其包括具有套管针尖端(即尖刺)的一个或多个中空的管体或管道。中空管体或管道在远端封闭。例如在建立通过组织的入口的初始阶段期间,可将加强杆(即“加强件”)放置成穿过引导器或插管的中间。可提供护套管体,其是加强管体或管道,并且其容纳激光光纤的组装件、一个或多个热电偶(即一个或多个温度传感器)和光学漫射器,以便允许这些组件被插入引导器。
图19示出了用于套管针部分1900的远端部分(即刺穿尖刺部分或区域),具有金属尖刺1910或其他形式的切割和/或穿透边缘。还例示了加强件1920。在不同的示例中,加强件1920的端部可接触或邻接金属尖刺1910的内端(如图所示),或者加强件1920的端部可与金属尖刺1910的内端间隔开。
图20例示了示例连接器2000和加强件1920。加强件1920(例如加强杆)可被插入引导器(即插管)中。来自加强件1920的公鲁尔帽2010锁定在母鲁尔锁上。在一个示例中,引导器可包括沿其长度部分纵向延伸的不透明管体(例如金属管体)和光学透明管体,或在引导器的远端附近提供或纵向延伸的透明管体、或光学透明窗体。在另一示例中,引导器可以是一段管体,其是完全透明的、光学透明的或半透明的材料。
可任选的实施例还可被称为广泛包括本文引用或指示的各部分、元素、步骤和/或特征(独立地或以这些部分、元素步骤和/或特征的两者或更多者的任何或全部组合),并且其中本文中提到了在本发明所涉及的领域中具有已知等效物的特定整数,这样的已知等效物被认为包括在本文内(如同被单独地阐明一样)。
虽然已详细描述了优选实施例,但应当理解,在不背离本发明的范围的情况下,许多修改、改变、替换、或更改对本领域技术人员而言将是明显的。
Claims (38)
1.一种用于间质激光治疗的设备,包括:
光学波导,所述光学波导围绕中心纵向轴延伸并具有光学输出端;
光学地耦合到所述光学输出端的光学漫射器,其中所述光学漫射器包括壳体,所述壳体具有用于容纳所述光学输出端和所述光学波导的第一纵向部分的开口端;以及
第一温度传感器,所述第一温度传感器在所述光学波导的所述第一纵向部分的纵向范围内,被插入在所述中心纵向轴和所述壳体的外表面之间,
其中所述光学漫射器被设有一个或多个孔、一个或多个狭缝、一个或多个开口、和/或一个或多个通气孔。
2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述第一温度传感器被插入在所述光学波导的所述第一纵向部分与所述壳体之间。
3.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述壳体是管状壳体。
4.如权利要求3所述的设备,其特征在于,所述壳体的外径等于所述光学波导的外径。
5.如权利要求3所述的设备,其特征在于,所述壳体的内径等于所述光学波导的外径。
6.如权利要求1所述的设备,其特征在于,在使用期间生成的气体经由所述一个或多个孔、所述一个或多个狭缝、所述一个或多个开口、和/或所述一个或多个通气孔从所述光学漫射器的内部区域逸出并且冲洗流体冷却所述光学漫射器。
7.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述壳体包括聚四氟乙烯(PTFE)。
8.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述第一温度传感器是微温度传感器。
9.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述第一温度传感器是集成温度传感器。
10.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述第一温度传感器是热电偶。
11.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述第一温度传感器是红外温度传感器。
12.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述第一温度传感器被适配成测量所述光学漫射器外部的第一温度。
13.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述光学波导包括内层和外层,其中所述外层径向围绕所述内层。
14.如权利要求13所述的设备,其特征在于,所述光学波导是光纤。
15.如权利要求14所述的设备,其特征在于,所述内层包括芯层和包层,并且其中所述包层径向围绕所述芯层。
16.如权利要求14所述的设备,其特征在于,所述光学输出端被剥去所述外层。
17.如权利要求16所述的设备,其特征在于,所述光学输出端具有介于1mm与2mm之间的纵向长度。
18.如权利要求14所述的设备,其特征在于,所述光学波导的所述第一纵向部分至少部分地剥去所述外层以用于容纳所述第一温度传感器。
19.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述设备进一步包括附接到所述光学波导的第二温度传感器。
20.如权利要求19所述的设备,其特征在于,所述第二温度传感器被固定在所述光学波导的第二纵向部分内。
21.如权利要求19所述的设备,其特征在于,所述第二温度传感器被布置成邻近于所述光学漫射器的所述开口端。
22.如权利要求19所述的设备,其特征在于,所述第一温度传感器和所述第二温度传感器纵向偏移4mm至6mm。
23.如权利要求19所述的设备,其特征在于,所述第一温度传感器和所述第二温度传感器被适配成测量温度差。
24.如权利要求19所述的设备,其特征在于,所述第二温度传感器被适配成测量所述光学漫射器外部的第二温度。
25.如权利要求19所述的设备,其特征在于,所述中心纵向轴不与所述第一温度传感器和/或所述第二温度传感器相交。
26.如权利要求19所述的设备,其特征在于,所述第一温度传感器和/或所述第二温度传感器被定位成与所述光学输出端分开。
27.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述第一温度传感器被定位成邻近或邻接所述光学漫射器的内表面。
28.如权利要求19所述的设备,其特征在于,所述第二温度传感器被定位在所述光学漫射器的所述纵向范围之外。
29.如权利要求1所述的设备,其特征在于,进一步包括用于将所述设备递送到治疗区域的插管。
30.如权利要求29所述的设备,其特征在于,所述插管的至少一个端部是透明或半透明的。
31.如权利要求29或30所述的设备,其特征在于,所述插管包括用于接收冲洗流体的冲洗入口。
32.如权利要求29或30所述的设备,其特征在于,所述插管包括或被附接到套管针或尖端。
33.如权利要求32所述的设备,其特征在于,所述套管针是透明或半透明的并被光学地耦合到所述光学输出端,使得所述套管针提供另一光学漫射器。
34.如权利要求31所述的设备,其特征在于,所述冲洗流体在出口处离开所述插管,使得激光能量导致的烧蚀区域在一定程度上被所述冲洗流体限制在所述出口之外。
35.如权利要求32所述的设备,其特征在于,所述套管针具有封闭端并且所述套管针包括用于接收冲洗流体的冲洗入口。
36.一种用于间质激光治疗的系统,包括:
权利要求1至35中任一项所述的设备;
光学地耦合到所述光学波导的功率可调光源;以及
处理系统,所述处理系统被配置成:
获得来自所述第一温度传感器的温度测量值;以及
调整所述光源的光学输出功率。
37.一种用于间质激光治疗的系统,包括:
权利要求19至26、28中任一项所述的设备;
光学地耦合到所述光学波导的功率可调光源;以及
处理系统,所述处理系统被配置成:
获得来自所述第一温度传感器和来自所述第二温度传感器的温度测量值;以及
调整所述光源的光学输出功率。
38.如权利要求36或37中任一项所述的系统,其特征在于,所述系统进一步包括用于定位所述设备的超声扫描仪。
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