CN110289543A - 一种微纳光纤锁模器件及其制备方法、全光纤激光器 - Google Patents

一种微纳光纤锁模器件及其制备方法、全光纤激光器 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种微纳光纤锁模器件及其制备方法、全光纤激光器,属于激光技术领域。微纳光纤锁模器件的制备方法包括步骤:制备微纳光纤段和给微纳光纤段镀膜。制备微纳光纤段的步骤又包括:制备若干根中间部位为裸光纤段的光纤;将其放入盛有光纤刻蚀液的烧杯中对裸光纤段进行腐蚀,使腐蚀后的裸光纤段成为微纳光纤段;等等。本发明方法从微纳光纤的制作到可饱和吸收体的制作,都是简单的可重复性高的过程,极大地降低了现有微纳光纤和可饱吸收体的制作难度和成本。本发明提供的微纳光纤锁模器件是由上述制备方法所制备,并将其应用于全光纤激光器,使用该微纳光纤锁模器件可以得到稳定的锁模脉冲和锁模状态,且输出的激光中没有异常脉冲。

Description

一种微纳光纤锁模器件及其制备方法、全光纤激光器
技术领域
本发明涉及一种微纳光纤锁模器件及其制备方法、全光纤激光器,属于激光技术领域。
背景技术
光纤锁模激光器可输出飞秒或皮秒脉冲,且具有结构紧凑、体积小、光束质量好等优势,在工业、医学及科学研究等方面具有广泛应用。目前实现锁模的方式包括非线性偏振旋转锁模、非线性光纤环镜锁模以及可饱和吸收体锁模。其中可饱和吸收体包括半导体可饱和吸收镜、二维纳米材料(石墨烯、拓扑绝缘体、过渡金属硫化物、黑鳞等)和可共振饱和吸收的纳米颗粒。由于可饱和吸收体有锁模稳定、易启动、锁模参数丰富等优势,商业化非常成功。但是,可饱和吸收体的制备过程普遍十分复杂,通常需要用到化学气相沉积、纳米结构生长、激光烧蚀等工艺,制作成本高昂。
在现有技术中,制备可饱和吸收体锁模器件的方式,通常是将可饱和吸收体涂敷或包裹在拉锥光纤上,实现锁模。这种技术存在不足之处包括:①可饱和吸收体的制备过程复杂且昂贵;②制作拉锥光纤需要用到光纤拉锥机,而光纤拉锥机价格不菲,最大的缺点的是成品率非常低,每次拉锥只能制作一根光纤,拉锥后的光纤由于直径只有十几微米,在从拉锥的夹具上取下来的时候,需要十分小心,否则就会断掉。
发明内容
本发明的第一发明目的是提供一种微纳光纤锁模器件的制备方法,用以解决现有技术中存在的可饱和吸收体制备过程复杂且昂贵,微纳光纤制备成本高且成品率低等问题。
本发明为实现其第一发明目的所采取的技术方案如下:
一种微纳光纤锁模器件的制备方法,包括步骤:
S1、制备微纳光纤段,包括如下具体步骤:
S1-1、准备好普通商用单模光纤,用剥纤钳将普通商用单模光纤位于中间部位的一段涂覆层剥离,得到中间部位为裸光纤段的光纤,并用蘸了酒精的光纤擦拭纸擦除残留在裸光纤段上的杂物;
S1-2、将处理好的中间部位为裸光纤段的光纤放入盛有光纤刻蚀液的烧杯中对裸光纤段进行腐蚀,通过调整腐蚀时间来控制光纤刻蚀液对裸光纤段的腐蚀量,使腐蚀后的裸光纤段成为微纳光纤段;
S1-3、用去离子水清洗腐蚀得到的中间部位为微纳光纤段的光纤表面的残留废液;
S2、给微纳光纤段镀膜:将制作好的中间部位为微纳光纤段的光纤放入离子溅射仪中,利用离子溅射法在所述微纳光纤段的表面沉积铂金膜层或金膜层,通过设置离子溅射仪的镀膜参数控制铂金膜层或金膜层的厚度为所需厚度。
与现有技术相比,本发明方法的有益效果是:
(1)制备微纳光纤段的材料(普通商用单模光纤、光纤刻蚀液)都可以在市场直接购买得到,且价格低廉。制备过程简单易操作,可批量生产,且成品率高。
(2)采用离子溅射法给微纳光纤段镀膜,相比于其他的光纤镀膜技术如纳米颗粒附着、纳米颗粒生长、化学沉积,其制作过程简单、成膜质量高、可重复性强,是使用最广泛的平面镀膜技术。
(3)采用离子溅射法给微纳光纤段镀膜,首次实现铂金属膜锁模。相比纳米颗粒锁模等,本发明采用铂金属膜或金膜锁模,制备工艺简单,成本低,生产效率高。
(4)本发明方法从微纳光纤的制作到可饱和吸收体的制作,都是简单的可重复性高的过程,极大的降低了现有微纳光纤和可饱吸收体的制作难度和成本。
优选的,所述裸光纤段的长度为5~10mm;所述微纳光纤段的直径为13~14μm;所述铂金膜层或金膜层的厚度为30~50nm。
裸光纤段的长度为5~10mm,且微纳光纤段的直径为13~14μm时,可饱和吸收体对激光腔内的脉冲调制作用较强,且激光腔内的光损耗较小,可以保证激光器在合适的效率下实现稳定的锁模。铂金膜层或金膜层的厚度为该范围为30~50nm时,倏逝波与金属的相互作用效果最明显。
优选的,所述裸光纤段的长度为3~5mm;所述微纳光纤段的直径为11~13μm;所述铂金膜层或金膜层的厚度为30~50nm。
裸光纤段的长度和微纳光纤段的直径相互影响。当减小裸光纤段的长度为3~5mm,同时减小微纳光纤段的直径为11~13μm,也可以实现同样的锁模效果。铂金膜层或金膜层的厚度为该范围为30~50nm时,倏逝波与金属的相互作用效果最明显。
优选的,步骤S1中还包括:在对中间部位为裸光纤段的光纤上的裸光纤段进行腐蚀之前,将中间部位为裸光纤段的光纤用自制的夹具固定。
将中间部位为裸光纤段的光纤用自制的夹具固定,可以起到保护该裸光纤段的作用,极大降低该裸光纤段在后续工艺中被易断的风险,进一步提高微纳光纤锁模器件的成品率,同时方便光纤在后续工艺中的夹取。
优选的,所述自制的夹具包括固定部件和夹持部件,所述固定部件分别将所述夹持部件的两端与中间部位为裸光纤段的光纤两侧的尾纤固定;所述夹持部件与所述裸光纤段之间留有一定间隔;所述尾纤为未被剥纤钳剥离涂覆层的光纤段。
夹持部件与裸光纤段之间留有一定间隔,有利于光纤的夹取,同时保证裸光纤段在靠近夹持部件的一侧在后续工艺中不受影响。
优选的,所述固定部件为热缩管;所述夹持部件为金属条。
采用热缩管固定金属条与尾纤,其操作过程简单,且材料来源广,成本低。
本发明的第二发明目的是提供一种微纳光纤锁模器件,所述微纳光纤锁模器件是由本发明为实现第一发明目的所采取的任一所述微纳光纤锁模器件的制备方法所制备。
与现有技术相比,其有益效果是:本发明所提供的一种微纳光纤锁模器件,从微纳光纤的制作到可饱和吸收体的制作,都是简单的可重复性高的过程,极大的降低了现有微纳光纤和可饱吸收体的制作难度和成本,从整体上提高了微纳光纤锁模器件的成品率,降低了微纳光纤锁模器件的成本。同时使用该方法制备的微纳光纤锁模器件可以得到稳定的锁模脉冲和锁模状态。
本发明的第三发明目的是提供一种全光纤激光器,所述全光纤激光器包括顺次连接的激光二极管、波分复用器、掺镱增益光纤、偏振无关光隔离器、耦合输出器、由本发明为实现第一发明目的所采取的任一所述微纳光纤锁模器件的制备方法所制备的微纳光纤锁模器件、偏振控制器,且所述偏振控制器与所述波分复用器连接形成环形腔;所述偏振无关光隔离器控制光在所述环形腔内单向传输。
所述激光二极管:作为泵浦源,用于输出泵浦光。
所述波分复用器:将两个波长不同的光合并到一根光纤中。
所述掺镱增益光纤:掺杂了镱离子的光纤,用于输出波长1μm左右的激光,是增益介质。
所述偏振无关光隔离器:对于任何偏振的光,只允许单向光通过的无源光器件。
所述耦合输出器:其两个光输出端的光输出比例是90%:10%,90%的光输出端连接到环形腔,10%的光输出端用于输出激光。
所述微纳光纤锁模器件:用于实现稳定的锁模脉冲。
所述偏振控制器:用于改变光纤中传输光的偏振态。
与现有技术相比,其有益效果是:本发明所提供的全光纤激光器中,使用的锁模器件是由本发明为实现第一发明目的所采取的任一所述微纳光纤锁模器件的制备方法所制备的微纳光纤锁模器件,可以得到稳定的锁模脉冲和锁模状态,且输出的激光中没有异常脉冲,该全光纤激光器的输出功率稳定。同时,微纳光纤锁模器件制备成本的降低使得该全光纤激光器的整体成本相应降低。
下面通过具体实施方式及附图对本发明作进一步详细说明,但并不意味着对本发明保护范围的限制。
附图说明
图1是本发明实施例中待腐蚀的中间部位为裸光纤段的光纤及自制的夹具结构示意图。
图2是本发明实施例中全光纤激光器结构示意图。
图3是本发明实施例一中微纳光纤锁模器件的锁模结果图,其中,图(a)为纳秒范围内的脉冲序列,图(b)为微秒范围内的脉冲序列,图(c)为基频射频谱,图(d)为大范围射频谱,图(e)为光谱图,图(f)为自相关曲线。
图4是本发明实施例一中全光纤激光器的稳定性测试结果图,其中,图(a)为全光纤激光器输出功率与泵浦功率关系图,图(b)为全光纤激光器输出功率稳定性曲线。
具体实施方式
下面结合附图,通过对实施例的描述,对本发明的具体实施方式作进一步的说明。
实施例一
本实施例给出的一种微纳光纤锁模器件的制备方法,包括步骤:
S1、制备微纳光纤段,包括如下具体步骤:
S1-1、准备好普通商用单模光纤,用剥纤钳将普通商用单模光纤位于中间部位的一段涂覆层剥离,得到中间部位为裸光纤段的光纤,并用蘸了酒精的光纤擦拭纸擦除残留在裸光纤段上的杂物。
本实施例中,所使用的普通商用单模光纤为商用康宁光纤;裸光纤段的长度为5~10mm。
本实施例中,在对中间部位为裸光纤段的光纤上的裸光纤段进行腐蚀之前,还包括步骤:将中间部位为裸光纤段的光纤用自制的夹具固定。如图1所示,所述自制的夹具包括固定部件2a、2b和夹持部件3,所述固定部件2a、2b分别将所述夹持部件3的两端与中间部位为裸光纤段的光纤两侧的尾纤1a、1b固定;所述夹持部件3与所述裸光纤段4之间留有一定间隔;所述尾纤1a、1b为未被剥纤钳剥离涂覆层的光纤段;所述固定部件2a、2b为热缩管;所述夹持部件3为金属条。本实施例中,自制的夹具中夹持部件3即金属条的长度约为5cm,夹持部件3的中间部位与裸光纤段4的距离约为1cm。
S1-2、将处理好的中间部位为裸光纤段的光纤放入盛有光纤刻蚀液的烧杯中对裸光纤段进行腐蚀,通过调整腐蚀时间来控制光纤刻蚀液对裸光纤段的腐蚀量,使腐蚀后的裸光纤段成为微纳光纤段。
本实施例中,所使用的光纤刻蚀液为缓冲氧化物刻蚀液;腐蚀时间为7.5h;得到的微纳光纤段的直径为13~14μm。
S1-3、用去离子水清洗腐蚀得到的中间部位为微纳光纤段的光纤表面的残留废液。
S2、给微纳光纤段镀膜:将制作好的中间部位为微纳光纤段的光纤放入离子溅射仪中,利用离子溅射法在所述微纳光纤段的表面沉积铂金膜层,通过设置离子溅射仪的镀膜参数控制铂金膜层的厚度为所需厚度。
本实施例中,在微纳光纤段的表面沉积的膜层为铂金膜层,且厚度为30~50nm;设置离子溅射仪的真空度为6Pa,初始放电电流为2mA;对微纳光纤段的上下表面分别溅射880s,使微纳光纤段表面均匀的镀上一层铂金膜层。
本实施例给出的一种微纳光纤锁模器件是由上述本实施例给出的一种微纳光纤锁模器件的制备方法所制备。
本实施例给出的一种全光纤激光器,如图2所示,所述全光纤激光器包括顺次连接的激光二极管5、波分复用器7、掺镱增益光纤8、偏振无关光隔离器9、耦合输出器10、微纳光纤锁模器件11、偏振控制器6,且所述偏振控制器6与所述波分复用器7连接形成环腔;所述偏振无关光隔离器9控制光在所述环形腔内单向传输。其中,所述微纳光纤锁模器件11是由上述本实施例给出的一种微纳光纤锁模器件的制备方法所制备。
所述激光二极管5:作为泵浦源,用于输出泵浦光。
所述波分复用器7:将两个波长不同的光合并到一根光纤中。
所述掺镱增益光纤8:掺杂了镱离子的光纤,用于输出波长1μm左右的激光,是增益介质。
所述偏振无关光隔离器9:对于任何偏振的光,只允许单向光通过的无源光器件。
所述耦合输出器10:其两个光输出端的光输出比例是90%:10%,90%的光输出端连接到环形腔,10%的光输出端用于输出激光。
所述微纳光纤锁模器件11:用于实现稳定的锁模脉冲。
所述偏振控制器6:用于改变光纤中传输光的偏振态。
图3是本实施例中微纳光纤锁模器件的锁模结果图,其中,图(a)为纳秒范围内的脉冲序列,图(b)为微秒范围内的脉冲序列,图(c)为基频射频谱,图(d)为大范围射频谱,图(e)为光谱图,图(f)为自相关曲线。由图(a)和图(b)可以看出,该锁模的脉冲序列强度在短时间以及长时间都非常稳定。由图(c)可以看出,该锁模状态稳定。由图(d)可以看出,该锁模状态只有单一的重频,没有多余频率的脉冲。上述结果表明,该微纳光纤锁模器件可以用于实现稳定的锁模脉冲。
图4是本实施例中全光纤激光器的稳定性测试结果图,其中,图(a)为全光纤激光器输出功率与泵浦功率关系图,图(b)为全光纤激光器输出功率稳定性曲线。由图4可以看出,该全光纤激光器在长时间内都能保持稳定运转,更有实际应用的潜力。
实施例二
本实施例给出的一种微纳光纤锁模器件的制备方法,包括步骤:
S1、制备微纳光纤段,包括如下具体步骤:
S1-1、准备好普通商用单模光纤,用剥纤钳将普通商用单模光纤位于中间部位的一段涂覆层剥离,得到中间部位为裸光纤段的光纤,并用蘸了酒精的光纤擦拭纸擦除残留在裸光纤段上的杂物。
本实施例中,所使用的普通商用单模光纤为商用康宁光纤;裸光纤段的长度为3~5mm。
本实施例中,在对中间部位为裸光纤段的光纤上的裸光纤段进行腐蚀之前,还包括步骤:将中间部位为裸光纤段的光纤用自制的夹具固定。如图1所示,所述自制的夹具包括固定部件2a、2b和夹持部件3,所述固定部件2a、2b分别将所述夹持部件3的两端与中间部位为裸光纤段的光纤两侧的尾纤1a、1b固定;所述夹持部件3与所述裸光纤段4之间留有一定间隔;所述尾纤1a、1b为未被剥纤钳剥离涂覆层的光纤段;所述固定部件2a、2b为热缩管;所述夹持部件3为金属条。本实施例中,自制的夹具中夹持部件3即金属条的长度约为5cm,夹持部件3的中间部位与裸光纤段4的距离约为1cm。
S1-2、将处理好的中间部位为裸光纤段的光纤放入盛有光纤刻蚀液的烧杯中对裸光纤段进行腐蚀,通过调整腐蚀时间来控制光纤刻蚀液对裸光纤段的腐蚀量,使腐蚀后的裸光纤段成为微纳光纤段。
本实施例中,所使用的光纤刻蚀液为缓冲氧化物刻蚀液;通过腐蚀得到的微纳光纤段的直径约为11~13μm。
S1-3、用去离子水清洗腐蚀得到的中间部位为微纳光纤段的光纤表面的残留废液。
S2、给微纳光纤段镀膜:将制作好的中间部位为微纳光纤段的光纤放入离子溅射仪中,利用离子溅射法在所述微纳光纤段的表面沉积金膜层,通过设置离子溅射仪的镀膜参数控制金膜层的厚度为所需厚度。
本实施例中,在微纳光纤段的表面沉积的膜层为金膜层,且厚度为30~50nm;设置离子溅射仪的真空度为6Pa,初始放电电流为2mA;对微纳光纤段的上下表面分别溅射880s,使微纳光纤段表面均匀的镀上一层金膜层。
本实施例给出的一种微纳光纤锁模器件是由上述本实施例给出的一种微纳光纤锁模器件的制备方法所制备。
本实施例给出的一种全光纤激光器,如图2所示,所述全光纤激光器包括顺次连接的激光二极管5、波分复用器7、掺镱增益光纤8、偏振无关光隔离器9、耦合输出器10、微纳光纤锁模器件11、偏振控制器6,且所述偏振控制器6与所述波分复用器7连接形成环腔;所述偏振无关光隔离器9控制光在所述环形腔内单向传输。其中,所述微纳光纤锁模器件11是由上述本实施例给出的一种微纳光纤锁模器件的制备方法所制备。
所述激光二极管5:作为泵浦源,用于输出泵浦光。
所述波分复用器7:将两个波长不同的光合并到一根光纤中。
所述掺镱增益光纤8:掺杂了镱离子的光纤,用于输出波长1μm左右的激光,是增益介质。
所述偏振无关光隔离器9:对于任何偏振的光,只允许单向光通过的无源光器件。
所述耦合输出器10:其两个光输出端的光输出比例是90%:10%,90%的光输出端连接到环形腔,10%的光输出端用于输出激光。
所述微纳光纤锁模器件11:用于实现稳定的锁模脉冲。
所述偏振控制器6:用于改变光纤中传输光的偏振态。
在本实施例中,所提供的微纳光纤锁模器件可以用于实现稳定的锁模脉冲;所提供的全光纤激光器输出功率稳定,在长时间内都能保持稳定运转。
上述结合附图对本发明进行了示例性描述,显然本发明的具体实现并不受本文所示的实施例限制。

Claims (8)

1.一种微纳光纤锁模器件的制备方法,其特征在于,包括步骤:
S1、制备微纳光纤段,包括如下具体步骤:
S1-1、准备好普通商用单模光纤,用剥纤钳将普通商用单模光纤位于中间部位的一段涂覆层剥离,得到中间部位为裸光纤段的光纤,并用蘸了酒精的光纤擦拭纸擦除残留在裸光纤段上的杂物;
S1-2、将处理好的中间部位为裸光纤段的光纤放入盛有光纤刻蚀液的烧杯中对裸光纤段进行腐蚀,通过调整腐蚀时间来控制光纤刻液对裸光纤段的腐蚀量,使腐蚀后的裸光纤段成为微纳光纤段;
S1-3、用去离子水清洗腐蚀得到的中间部位为微纳光纤段的光纤表面的残留废液;
S2、给微纳光纤段镀膜:将制作好的中间部位为微纳光纤段的光纤放入离子溅射仪中,利用离子溅射法在所述微纳光纤段的表面沉积泊金膜层或金膜层,通过设置离子溅射仪的镀膜参数控制铂金膜层或金膜层的厚度为所需厚度。
2.根据权利要求1所述的微纳光纤锁模器件的制备方法,其特征在于,所述裸光纤段的长度为5~10mm;所述微纳光纤段的直径为13~14μm;所述铂金膜层或金膜层的厚度为30~50nm。
3.根据权利要求1所述的微纳光纤锁模器件的制备方法,其特征在于,所述裸光纤段的长度为3~5mm;所述微纳光纤段的直径为11~13μm;所述铂金膜层或金膜层的厚度为30~50nm。
4.根据权利要求1-3任一所述的微纳光纤锁模器件的制备方法,其特征在于,步骤S1中还包括:在对中间部位为裸光纤段的光纤上的裸光纤段进行腐蚀之前,将中间部位为裸光纤段的光纤用自制的夹具固定。
5.根据权利要求4所述的微纳光纤锁模器件的制备方法,其特征在于,所述自制的夹具包括固定部件和夹持部件,所述固定部件分别将所述夹持部件的两端与中间部位为裸光纤段的光纤两侧的尾纤固定;所述夹持部件与所述裸光纤段之间留有一定间隔;所述尾纤为未被剥纤钳剥离涂覆层的光纤段。
6.根据权利要求5所述的微纳光纤锁模器件的制备方法,其特征在于,所述固定部件为热缩管;所述夹持部件为金属条。
7.一种微纳光纤锁模器件,其特征在于,所述微纳光纤锁模器件由权利要求1-6任一所述的微纳光纤锁模器件的制备方法所制备。
8.一种全光纤激光器,其特征在于,所述全光纤激光器包括顺次连接的激光二极管、波分复用器、掺意增益光纤、偏振无关光隔离器、耦合输出器、权利要求7任一所述的微纳光纤锁模器件、偏振控制器,且所述偏振控制器与所述波分复用器连接形成环形腔;所述偏振无关光隔离器控制光在所述环形腔内单向传输。
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