CN110119227A - 光学触控装置 - Google Patents

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Abstract

一种光学触控装置，包括光源单元、光信号处理单元以及位置计算单元。光源单元发射出光线并于不同位置产生三基准光点。光信号处理单元接收由三基准光点分别反光传出的三反射光信息、并分析三反射光信息以对应产生三光分析信息，各光分析信息包括一振动波信息及一振动时间点信息，其中振动波信息包括一触碰振动波。位置计算单元接收各光分析信息、并取得各基准光点的一光点位置信息及一振动波速信息，位置计算单元更根据各光点位置信息、各振动时间点信息及振动波速信息计算出触控位置信息。

Description

光学触控装置
技术领域
本发明是关于一种触控装置，特别是指一种光学触控装置。
背景技术
目前现有的投射式光触控装置，主要由光源、摄影机及处理器所组成，光源可将光线投射于幕，在幕被照射的区域形成操作区，当有一对象在操作区时，由于对象阻挡光源射向幕的部分光线，而在幕上形成一对应于对象的对象影子，利用摄影机撷取对象及对象影子及操作区的影像，籍由处理器读取对象与对象影子接触而有一接触点的影像，进而使处理器籍由影像分析技术分析影像中接触点的位置信息。
另一现有的投射式触控装置具有界定一检测区域的外框体，外框体于侧壁处设有多个发光元件及设置用于将发光元件所产生的光源进行均光的均光层，以及于外框体的角落处设置有用于摄录检测区域的摄影机，摄影机电性连接至用于分析影像定位的控制装置。当用户点选触碰而进入检测区域时，亦于触碰位置处将光源遮断，同时摄影机将检测区域摄录下的画面传递至控制装置进行影像定位分析以判断触碰位置。
上述两种现有的投射式触控装置，都是利用光遮断的方式判断触控位置，因此容易受到周遭其他光线影响而造成判断失准的问题。再者，现有的投影式触控装置也必须将光源投射至平坦的表面，以避免光线反射不均而影响判断的精确度。
发明内容
有鉴于此，于一实施例中，提供一种光学触控装置，包括光源单元、光信号处理单元以及位置计算单元。光源单元发射出光线并于不同位置产生三基准光点。光信号处理单元接收由三基准光点分别反光传出的三反射光信息，光信号处理单元并分析三反射光信息以对应产生三光分析信息，各光分析信息包括一振动波信息以及一振动时间点信息，其中振动波信息包括一触碰振动波，振动时间点信息是指触碰振动波传递抵达各基准光点的时间点。位置计算单元电连接于光信号处理单元、并接收各光分析信息，位置计算单元更取得各基准光点的一光点位置信息以及一振动波速信息，其中振动波速信息指触碰振动波的传递速度，位置计算单元更根据各光点位置信息、各振动时间点信息及振动波速信息计算出一触控位置信息，触控位置信息是指产生触碰振动波的相对震央位置。
综上，本发明实施例的光学触控装置通过光源单元产生三基准光点，当有触控行为时，可通过光信号处理单元分析三基准光点反光传出的反射光信息，以取得触控所造成的触碰振动波传递抵达各基准光点的时间点，并根据各个时间点、触碰振动波的波速以及三基准光点的位置计算出触碰位置。藉此，本发明实施例可达到不受周遭其他光线影响而提高位置判断的准确性，此外，也能不局限于使用在平坦的触控面，而大幅增加实用性。
附图说明
图1为本发明光学触控装置一实施例的触控示意图。
图2为本发明光学触控装置一实施例的硬件方块图。
图3为本发明光学触控装置一实施例的触碰振动波传递示意图。
图4为本发明光学触控装置另一实施例的硬件方块图。
图5为本发明光学触控装置一实施例的照射示意图。
图6为本发明光学触控装置另一实施例的照射示意图。
图7为本发明光学触控装置另一实施例的触碰振动波传递示意图。
其中，附图标记位：
1 光学触控装置
10、10’ 光源单元
20 光信号处理单元
21 感光元件
30 位置计算单元
A 操作区域
A1 触碰点
L1、L2、L3 雷射光束
M1、M2、M3 基准光点
M4 辅助光点
R1、R2、R3 反射光信息
R4 辅助反射光信息
D1、D2、D3 光分析信息
D4 辅助光分析信息
V 振动波速信息
W 触碰振动波
具体实施方式
图1为本发明光学触控装置一实施例的触控示意图，图2为本发明光学触控装置一实施例的硬件方块图。如图1与图2所示，在本实施例中，光学触控装置1包括光源单元10、光信号处理单元20以及位置计算单元30。
在一实施例中，光源单元10具体上可为投射光源(例如雷射单元、红外线单元或紫外线单元)，以发出光线照射物体。例如图1所示，光源单元10可为一雷射单元以发射出雷射光束，在本实施例中，光源单元10发射出三雷射光束L1、L2、L3以对应照射于一具有反射功能的操作区域A(例如桌面、墙面、地面或布幕等)的表面，而在操作区域A上产生位于不同位置的三个基准光点M1、M2、M3。在图1的实施例中，三个基准光点M1、M2、M3是分别位在操作区域A的三个角落，但本实施例并不限制，三个基准光点M1、M2、M3可分别位于操作区域A的其他任意位置，其中，操作区域A可提供用户进行触控输入。
在一实施例中，光信号处理单元20具体上可为微处理器、微控制器、场编程门阵列或逻辑电路等。如图1与图2所示，在本实施例中，光信号处理单元20与光源单元10是位于操作区域A的同一侧，以接收由三基准光点M1、M2、M3分别反光传出的三反射光信息R1、R2、R3。如图1所示，在一实施例中，光信号处理单元20可包括一感光元件21，例如感光元件21可为一感光耦合元件(charge-coupled device,CCD)、一互补式金属氧化物半导体(Complementary Metal-Oxide Semiconductor,CMOS)、一互补式金属氧化物半导体主动像素传感器(CMOS Active pixel sensor)、一光电二极管(Photodiode)、或一光电阻器(photoresistor)，以经由感光元件21接收反射光信息R1、R2、R3。
再如图1与图2所示，光信号处理单元20能分析这些反射光信息R1、R2、R3以分别对应产生三个光分析信息D1、D2、D3，其中各个光分析信息D1、D2、D3包括一振动波信息与振动时间点信息，其中振动波信息包括一触碰振动波W，振动时间点信息为触碰振动波W传递抵达各基准光点M1、M2、M3的时间点。
具体而言，如图1与图3所示，当用户在操作区域A上进行触控输入时，可使操作区域A上受到触碰的位置产生一振动波信息，例如在图1的实施例中，用户是以手指接触操作区域A上的一位置而形成一触碰点A1，受到触碰的触碰点A1会产生包含有触碰振动波W的振动波信息，详言之，触碰振动波W为物体受到碰触所产生的振动波，且触碰振动波W会往四面八方逐渐扩散，假设操作区域A的表面为均匀的平坦面时，触碰振动波W会以触碰点A1为中心平均地向四周扩散传递。因此，如图3所示，触碰振动波W会朝各基准光点M1、M2、M3传递，当触碰振动波W分别传递抵达各基准光点M1、M2、M3时，振动波信息会伴随着各基准光点M1、M2、M3所反光传出的反射光信息R1、R2、R3而传递至光信号处理单元20，光信号处理单元20即可分别分析夹带振动波信息的各反射光信息R1、R2、R3而取得振动波信息中的触碰振动波W以及触碰振动波W分别传递抵达至各基准光点M1、M2、M3的时间点。
在图1与图3的实施例中，基于各基准光点M1、M2、M3至触碰点A1距离不同，因此，触碰振动波W分别传递抵达至各基准光点M1、M2、M3的时间点也会不相同。如图3所示，在本实施例中，由于基准光点M1相较于基准光点M2远离触碰点A1，因此触碰振动波W传递抵达至基准光点M1的时间点会晚于触碰振动波W传递抵达至基准光点M2的时间点。
光信号处理单元20可通过以下方式得知反射光信息R1、R2、R3夹带有振动波信息，以取得各光分析信息D1、D2、D3中所包括的振动波信息。例如在一实施例中，触碰振动波W是有别于雷射光束L1、L2、L3的频域，举例来说，光源单元10发出的雷射光束L1、L2、L3的频域可为高频(如3MHz至300MHz)，触碰振动波W的频域可为低频(如3kHz以下)，然而上述频率数值仅为举例，并不限制本发明，低频也可为3kHz～30kHz、300Hz～3kHz或30Hz～300Hz。光信号处理单元20可通过触碰振动波W与雷射光束L1、L2、L3两者频域的不同而分辨出夹带有触碰振动波W的反射光信息R1、R2、R3。上述触碰振动波W与雷射光束L1、L2、L3的频域仅为举例，实际上两者为不同频域即可辨别，例如触碰振动波W的频域可为低频(LF)、甚低频(VLF)、特低频(ULF)或超低频(SLF)，投影光线L1的频域可为中频(MF)、高频(HF)、甚高频(VHF)、特高频(UHF)或超高频(SHF)，本实施例并不限制。
在另一实施例中，光源单元10也可为光调变单元而使发出的雷射光束L1、L2、L3为调变信号光束(modulation lighting)，举例来说，雷射光束L1、L2、L3可为介于3MHz至300MHz之间的高频信号光束，各基准光点M1、M2、M3所反光传出的反射光信息R1、R2、R3则对应为调变反射光信息(夹带有振动波信息)，光信号处理单元20可根据一傅立叶变换式解调变(demodulate)此调变反射光信息以产生光分析信息D1、D2、D3。此外，通过雷射光束L1、L2、L3与反射光信息R1、R2、R3为调变信号光线，可避免与周遭其他频率信号的光线产生干扰，使光信号处理单元20能更精确、快速地分析产生光分析信息D1、D2、D3。
或者，在一实施例中，光信号处理单元20也可根据各反射光信息R1、R2、R3而取得一雷射光斑信息，并通过分析雷射光斑信息以对应取得各光分析信息D1、D2、D3中的振动波信息。例如光信号处理单元20可为一雷射光分析仪，以分析各雷射光斑信息而取得雷射光束L1、L2、L3照射操作区域A所对应产生的雷射光斑的周期、波长、振福、频率、相位或其组合。光信号处理单元20即可通过触碰振动波W与雷射光斑的周期、波长、振福、频率、相位或其组合的不同而分辨出夹带有触碰振动波W的反射光信息R1、R2、R3进而取得上述振动波信息。
如图1至图3所示，位置计算单元30具体上可为微处理器、微控制器、场编程门阵列或逻辑电路等。位置计算单元30电连接于光信号处理单元20以接收光信号处理单元20分析的光分析信息D1、D2、D3。位置计算单元30更取得各基准光点M1、M2、M3的一光点位置信息(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)以及一振动波速信息V，其中振动波速信息V是指触碰振动波W的传递速度。举例来说，如图3所示，当操作区域A上的一位置受到碰触时会产生触碰振动波W，触碰振动波W会以操作区域A作为介质往四面八方传递，振动波速信息V即是指触碰振动波W传递的波速(例如5公尺/秒、10公尺/秒或15公尺/秒)，其中触碰振动波W的波速会根据操作区域A(例如桌面、墙面、地面或布幕等)的材质而有所不同。在一些实施例中，振动波速信息V可内建于位置计算单元30中或者由外部输入至位置计算单元30(如图2所示)，本发明并不局限。
在一些实施例中，位置计算单元30可通过下述方式取得各基准光点M1、M2、M3的光点位置信息(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)。如图1至图3所示，光信号处理单元20可通过分析三基准光点M1、M2、M3分别反光传出的三反射光信息R1、R2、R3，进而得知三基准光点M1、M2、M3的位置以取得各光点位置信息(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)并传送至位置计算单元30，使位置计算单元30能够取得三基准光点M1、M2、M3的光点位置信息(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)。
或者，如图4所示，在另一实施例中，位置计算单元30可电连接于光源单元10，位置计算单元30所取得的各光点位置信息(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)是由光源单元10传送出。具体而言，由于光源单元10可默认好光线照射在操作区域A的位置，例如在图1的实施例中，光源单元10所发射的三雷射光束L1、L2、L3的方向与角度皆可为预先设定，以分别对应照射在操作区域A上的预定位置而形成三个基准光点M1、M2、M3，故光源单元10即可预先取得三个基准光点M1、M2、M3的光点位置信息(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)并传送至位置计算单元30。
再如图1至图3所示，位置计算单元30可根据上述的各个光点位置信息(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)、触碰振动波W分别传递抵达至各基准光点M1、M2、M3的振动时间点信息以及振动波速信息V计算出触控位置信息(Xc,Yc)。如图3所示，触控位置信息(Xc,Yc)是指产生触碰振动波W的相对震央位置(即触碰点A1的位置)。其中触控位置信息(Xc,Yc)的计算方式配合图式说明如下。
请参见图1至图3所示，根据上述实施例说明，位置计算单元30可分别取得三个基准光点M1、M2、M3的光点位置信息(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)以及触碰振动波W的振动波速信息V，且当有触控行为产生时(例如用户以手指接触操作区域A上的一位置而形成触碰点A1)，光信号处理单元20可分析由三基准光点M1、M2、M3分别反光传出的三反射光信息R1、R2、R3而取得触碰振动波W传递抵达各基准光点M1、M2、M3的时间点，例如触碰振动波W传递抵达基准光点M1的时间点为T1，触碰振动波W传递抵达基准光点M2的时间点为T2，触碰振动波W传递抵达基准光点M3的时间点为T3。据此，假设触碰点A1的触碰时间点为Tc，而且已知触碰点A1(Xc,Yc)与三个光点位置信息(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)间的距离、以及振动波速信息V之间具有下列三个方程式的关系：
其中，(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)以及V均为已知数，T1、T2、T3为已知的时间点。故由上述三个联立方程式可求得三个未知数Tc、Xc、Yc的解，从而可计算取得触碰点A1(Xc,Yc)。例如在一实施例中，可通过最小平方法(TheMethod of Least Square)以及藉由假设Tc为某一时间点，并利用迭代运算以求得Xc、Yc的近似解，从而取得触碰点A1(Xc,Yc)。
以下为三个联立方程式使用最小平方法(The Method of Least Square)的计算方法例子，假设触碰点A1的触碰时间点为Tc，触碰振动波W传递的时间为ti(X,Y)，以理论计算可得知第i个基准光点M1、M2、M3量到的时间应为τi＝ti(X,Y)+Tc，其中，
其中理论计算和实际测量之间会存在有一误差值resi如下：
resi＝Ti-τi＝ci-ti(x，y) (1)
其中ci为实际上触碰振动波W分别传至基准光点M1、M2、M3的实际测量传递时间，根据最小平方法的计算方式，将X＝x+dx,Y＝y+dy,c＝t+dt代入上揭(1)式，经改写成泰勒展开式后，可整理成下式：
其中，
将上揭(2)式以最小平方法处理，先令
为使误差为最小值，须使
将上揭(3)式代入f(x,y)后可得到三组方程式，并改写成矩阵形式如下：
选定适当的数值x＝x0，y＝y0，t＝t0代入上揭(4)式，resi代入上揭(1)式的值，可计算出dx、dy及dt值，再将x＝x1＝x0+dx,y＝y1＝y0+dy,t＝t1＝t0+dt代入(4)式计算出新的dx、dy及dt值，重复迭代直到其中m定为计算式收敛后的误差数量级，最终得到触碰点A1(Xc,Yc)的坐标近似值。
以一实际例子来说，请参考图3所示，假设未知的触碰点A1(Xc,Yc)的坐标为(2,7)，已知的三个基准光点M1、M2、M3的光点位置信息(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)分别为(0,8)、(10,8)、(10,0)，触碰振动波W传递抵达各基准光点M1、M2、M3的时间点T1、T2、T3分别为3时5分10.063秒、3时5分9.224秒以及3时5分9.806秒，振动波速信息V为10mm/s。首先可先猜测触碰点A1(Xc,Yc)的坐标可能为(5,4)，例如猜测的坐标可为分别与(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)三点距离相同的坐标，并假设触碰时间点Tc为3时5分8秒。由此可计算出触碰振动波W传递至基准光点M1的传递时间为1.224秒，触碰振动波W传递至基准光点M2的传递时间为1.806秒，触碰振动波W传递至基准光点M3的传递时间为2.063秒，将猜测的数值代入上述(1)至(3)式中，可计算出以下参数：
再将上述参数代入上述(4)式中可得出：
解联立后可计算出dx＝-3.7266，dy＝2.0570，dt＝0.2102，藉此可得到一坐标点为(x+dx,y+dy)＝(5-3.7266,4+2.0570)＝(1.2734,6.0570)，再将(1.2734,6.0570)代入上式中进行迭代运算，即可再次得到一个新的坐标点(2.1818,7.0058)，此坐标点(2.1818,7.0058)已与触碰点A1(Xc,Yc)坐标(2,7)差距不大，于多次迭代运算后得到坐标点(2.0036,7.0016)，且继续再迭代运算下去的坐标点变动已小于0.0001时，即可得到与触碰点A1(Xc,Yc)坐标(2,7)的差距在1％以内的最终坐标点(2.0036,7.0016)。
综上，本发明实施例的光学触控装置1通过光源单元10产生三基准光点M1、M2、M3，当有触控行为时，可通过光信号处理单元20分析三基准光点M1、M2、M3反光传出的反射光信息R1、R2、R3以取得触控所造成的触碰振动波W传递抵达各基准光点M1、M2、M3的时间点，以根据各个时间点、触碰振动波W的波速以及三基准光点M1、M2、M3的位置(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)计算出触碰位置(Xc,Yc)。藉此，本发明实施例相较于传统通过光遮断方式判断触碰点来说，可不受周遭其他光线影响而提高触碰位置判断的准确性，此外，也能不局限于使用在平坦的触控面，而大幅增加实用性。
如图5所示，为本发明光学触控装置另一实施例的照射示意图。本实施例与上述图1实施例的差异在于，光源单元10’为一投影光源，例如发光二极管(Light-emittingdiode,LED)或其他发光源(如卤素灯或红外线灯)，或者光源单元10’也可为一投影机(例如LED微投影机或雷射微投影机)以发出投影光线对应投射整个操作区域A，而在操作区域A产生多个光点，光信号处理单元20可选择接收至少其中三个光点(在此为基准光点M1、M2、M3)所反光传出的反射光信息R1、R2、R3据以分析。
如图6与图7所示，本发明光学触控装置另一实施例的照射示意图与触碰振动波传递示意图。本实施例与上述图1的实施例差异在于，光源单元10也可发射三个以上的雷射光束以产生更多光点。例如在本实施例中，光源单元10发出四个雷射光束L1、L2、L3、L4以对应照射于操作区域A的四个角落，而在操作区域A上产生位于不同位置(在此为四个角落)的三个基准光点M1、M2、M3以及一个辅助光点M4，光信号处理单元20更接收由辅助光点M4反光传出的一辅助反射光信息R4、且分析辅助反射光信息R4并对应产生一辅助光分析信息D4并传送至位置计算单元30(如图4所示)，辅助光分析信息D4包括振动波信息与时间点信息，时间点信息指触碰振动波W传递抵达辅助光点M4的时间点。也就是说，光信号处理单元20除了分析反射光信息R1、R2、R3以取得触碰振动波W分别传递抵达至各基准光点M1、M2、M3的时间点之外，更分析辅助反射光信息R4以取得触碰振动波W传递抵达辅助光点M4的时间点。
此外，位置计算单元30可同步取得辅助光点M4的一位置信息(X4,Y4)且更根据辅助光分析信息与位置信息(X4,Y4)计算出触控位置信息(Xc,Yc)。也就是说，位置计算单元30可取得四个光点(三个基准光点M1、M2、M3以及一个辅助光点M4)的信息(包括位置信息、触碰振动波W传递至各光点的时间点以及触碰振动波W的波速)。
在一实施例中，位置计算单元30根据上述三个基准光点M1、M2、M3的光点位置信息(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)、触碰振动波W分别传递抵达至各基准光点M1、M2、M3的振动时间点信息以及振动波速信息V计算出第一个触控位置信息(Xc,Yc)后，可进一步通过辅助光点M4的信息作验证的动作。举例来说，位置计算单元30可进一步以基准光点M1、M2以及辅助光点M4的信息计算出第二个触控位置信息(Xc,Yc)以与上述第一个触控位置信息(Xc,Yc)作比较验证，达到进一步提高触控位置计算的准确性。
在另一实施例中，位置计算单元30也可分别取不同的三个光点的信息以进行多次触控位置信息(Xc,Yc)计算，例如位置计算单元30能以三个基准光点M1、M2、M3的信息计算出第一个触控位置信息(Xc,Yc)、以基准光点M1、M2与辅助光点M4的信息计算出第二个触控位置信息(Xc,Yc)、以及以基准光点M2、M3与辅助光点M4的信息计算出第三个触控位置信息(Xc,Yc)。此外，位置计算单元30可将上述计算出的多个触控位置信息(Xc,Yc)进行交互比对与确认，以输出最终的触控位置信息(Xc,Yc)，达到进一步提高触控位置计算的准确性。举例来说，假设位置计算单元30计算出的多个触控位置信息(Xc,Yc)都相同，位置计算单元30可选择其中一个作为最终的触控位置信息(Xc,Yc)。假设位置计算单元30计算出的多个触控位置信息(Xc,Yc)之间有些微偏差，位置计算单元30可取多个触控位置信息(Xc,Yc)的相对中心点以作为最终的触控位置信息(Xc,Yc)。
虽然本发明的技术内容已经以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何熟悉本领域的相关技术人员，在不脱离本发明的精神所作些许的更动与润饰，皆应涵盖于本发明的范畴内，因此本发明的保护范围当视所附权利要求的保护范围所界定者为准。

Claims (9)

1.一种光学触控装置，其特征在于，包括：
一光源单元，发射出光线并于不同位置产生三基准光点；
一光信号处理单元，接收由该三基准光点分别反光传出的三反射光信息，该光信号处理单元并分析该三反射光信息以对应产生三光分析信息，各该光分析信息包括一振动波信息以及一振动时间点信息，其中该振动波信息包括一触碰振动波，该振动时间点信息指该触碰振动波传递抵达各该基准光点的时间点；以及
一位置计算单元，电连接于该光信号处理单元、并接收该些光分析信息，该位置计算单元更取得各该基准光点的一光点位置信息以及一振动波速信息，其中该振动波速信息指该触碰振动波的传递速度，该位置计算单元更根据该些光点位置信息、该些振动时间点信息及该振动波速信息计算出一触控位置信息，该触控位置信息是指产生该触碰振动波的相对震央位置。
2.如权利要求1所述的光学触控装置，其特征在于，该光源单元为一雷射单元以对应发射出三雷射光束而产生该三基准光点。
3.如权利要求2所述的光学触控装置，其特征在于，该位置计算单元电连接于该光源单元，该位置计算单元由该光源单元取得该些光点位置信息。
4.如权利要求2所述的光学触控装置，其特征在于，该光信号处理单元根据各该反射光信息而取得一雷射光斑信息，且该光信号处理单元分析该雷射光斑信息以对应取得各该光分析信息中的该振动波信息。
5.如权利要求4所述的光学触控装置，其特征在于，该雷射光斑信息包括各该雷射光束所对应的一雷射光斑的周期、波长、振福、频率、相位或其组合。
6.如权利要求1所述的光学触控装置，其特征在于，该光信号处理单元更分析该些反射光信息而得到该些光点位置信息，该位置计算单元由该光信号处理单元取得该些光点位置信息。
7.如权利要求1所述的光学触控装置，其特征在于，该光源单元为一光调变单元以对应发出调变信号光线而产生该三基准光点，各该反射光信息则分别为一调变反射光信息。
8.如权利要求7所述的光学触控装置，其特征在于，该光信号处理单元根据一傅立叶变换式解调变该些调变反射光信息以产生该些光分析信息。
9.如权利要求1所述的光学触控装置，其特征在于，该光源单元发射出光线更产生一辅助光点，该辅助光点与该些基准光点分别位于不同位置，该光信号处理单元接收由该辅助光点反光传出的一辅助反射光信息并分析该辅助反射光信息以对应产生一辅助光分析信息，该辅助光分析信息包括该振动波信息与一时间点信息，该时间点信息指该触碰振动波传递抵达该辅助光点的时间点，该位置计算单元取得该辅助光点的一位置信息且更根据该辅助光分析信息与该位置信息计算出该触控位置信息。
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