CN110006533A - 用于抑制辐射源尺寸效应的器件及辐射测温计 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种用于抑制辐射源尺寸效应的器件及辐射温度计，用于抑制辐射源尺寸效应的器件包括内筒和外筒。内筒具有内壁面、外壁面以及贯穿内壁面与外壁面的多个贯通孔。外筒间隔地套设于内筒的外部，外筒的内壁面与内筒的外壁面相对设置且形成一空腔。其中，干扰辐射信号能够自内筒的一端进入内筒，并穿过多个贯通孔进入空腔。当背景干扰辐射信号进入内筒时，部分干扰辐射信号穿过贯通孔进入内筒和外筒共同构成的空腔内而无法再次穿出，空腔起到了屏蔽部分干扰辐射信号的作用。

Description

用于抑制辐射源尺寸效应的器件及辐射测温计

技术领域

本发明总体来说涉及辐射测温技术领域，具体而言，涉及一种用于抑制辐射源尺寸效应的器件及辐射测温计。

背景技术

辐射温度计属非接触式测温仪表，是基于物体的热辐射特性与温度之间的对应关系设计而成，通常用来测量移动、腐蚀环境或反应迅速的中、高温物体的温度或表面温度。

在辐射温度计的研制过程中，辐射源尺寸效应是评价辐射温度计性能的一个重要指标，辐射源尺寸效应的数值越小，则辐射温度计的性能越好。辐射源尺寸效应的影响因素主要在于两方面：一方面是辐射温度计接收外部辐射的散射和衍射；另一方面来源于辐射温度计内部光学系统设计的不完善。

现有技术中更多的偏重于辐射温度计内部光学系统的优化设计，主要分为两个方面：一是利用光路优化模拟软件，使光路系统理论上达到最优化设计；二是在光路透镜和滤光片的选择上，选择最优的产品(如消色差透镜和干涉滤光片)，以达到减小辐射源尺寸效应的目的。

然而，现有技术中的不足主要有两方面：一是虽然光路系统理论上达到了最优设计，但是在后续机械加工和装配调整光路系统的实际过程中，由于加工精度以及人为调整，光路系统会发生较大偏离。二是无论选择消色差透镜还是干涉滤光片，其结构都是由多层膜加工制成，由于不同膜结构热胀冷缩比不一样，因此环境温度变化对二者性能影响较大，在实际工作中，为了保证二者的性能稳定，都必须进行精确的温度控制，影响了使用范围和精度。

发明内容

本发明的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种能够抑制辐射源尺寸效应的器件。

本发明的另一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种安装上述器件的辐射温度计。

为实现上述发明目的，本发明采用如下技术方案：

根据本发明的一个方面，提供了一种用于抑制辐射源尺寸效应的器件，包括内筒和外筒。内筒具有内壁面、外壁面以及贯穿所述内壁面与所述外壁面的多个贯通孔；外筒间隔地套设于所述内筒的外部，所述外筒的内壁面与所述内筒的外壁面相对设置且形成一空腔；

其中，干扰辐射信号能够自所述内筒的一端进入所述内筒，并穿过多个所述贯通孔进入所述空腔。

根据本发明的一实施方式，所述内筒和所述外筒均呈圆筒形，且所述内筒和所述外筒同轴设置；在轴向方向上，所述内筒的两端与所述外筒的两端对齐。

根据本发明的一实施方式，所述贯通孔沿所述内筒的轴向呈多列设置，每列具有多个所述贯通孔。

根据本发明的一实施方式，每一列中的多个所述贯通孔沿所述内筒的周向均匀设置。

根据本发明的一实施方式，奇数列中的所述贯通孔与偶数列中的所述贯通孔沿轴向相互错开，两个相邻所述奇数列中的所述贯通孔沿轴向对齐，两个相邻偶数列中的所述贯通孔沿轴向对齐。

根据本发明的一实施方式，所述外筒具有多个设置在所述外筒的内壁面周缘的环形凸起；或

所述外筒具有多个设置在所述外筒的内壁面周缘的环形凹槽。

根据本发明的一实施方式，多个所述环形凸起或所述环形凹槽的轴截面呈矩形。

根据本发明的一实施方式，多个所述环形凸起或所述环形凹槽的轴截面呈三角形。

根据本发明的一实施方式，所述内筒的内壁面、所述内筒的外壁面以及所述外筒的内壁面进行氧化发黑处理；和/或，

所述内筒的内壁面、所述内筒的外壁面以及所述外筒的内壁面进行喷砂处理。

根据本发明的另一方面，提供一种辐射温度计，包括主物镜、测量系统以及瞄准系统，所述主物镜设置在所述测量系统的一侧，所述主物镜为上述任一项所述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件，且所述器件的内筒的轴线与所述测量系统形成的主光轴重合。

由上述技术方案可知，本发明的用于抑制辐射源尺寸效应的器件和辐射温度计的优点和积极效果在于：

本发明提供的用于抑制辐射源尺寸效应的器件包括内筒和外筒，内筒具有内壁面、外壁面以及贯穿内壁面与外壁面的多个贯通孔，外筒间隔地套设于内筒的外部，外筒的内壁面与内筒的外壁面相对设置且形成一空腔，干扰辐射信号能够自内筒的一端进入内筒，并穿过多个贯通孔进入空腔。通过上述设计，当背景干扰辐射信号进入内筒时，部分干扰辐射信号穿过贯通孔进入内筒和外筒共同构成的空腔内，该部分的干扰辐射信号在空腔内连续发生多次反射、衍射，根据能量守恒定律，经过多次漫反射后，被吸收的部分逐渐变大，相应地，反射和透过部分的能量逐渐变小，进而降低了干扰辐射信号对辐射温度计测量值准确性的影响。同时，位于空腔内的部分干扰辐射信号较难从空腔内部再次穿出，据此，内筒和外筒构成的空腔起到了屏蔽部分干扰辐射信号的作用。

而且，通过在外筒的内壁面设置多个依次交替设置的凸起和凹槽，使得外筒的内壁面形成凹凸不平的表面，进而增加了干扰辐射信号在该表面的散射和衍射次数。

另外，内筒和外筒的表面进行喷砂和/或氧化发黑处理，能够增加干扰辐射信号在表面上的反射、衍射的次数，以及增加内筒和外筒壁面的发射率。

附图说明

通过参照附图详细描述其示例实施方式，本发明的上述和其它特征及优点将变得更加明显。

图1是根据能量守恒定律示出的热辐射投射在普通背景时辐射信号路径的示意图。

图2是根据一示例性实施方式示出的一种用于抑制辐射源尺寸效应的器件的爆炸图。

图3是根据一示例性实施方式示出的一种用于抑制辐射源尺寸效应的器件的剖面图。

图4是根据一示例性实施方式示出的外筒的第一实施方式的局部剖面图。

图5是根据一示例性实施方式示出的外筒的第二实施方式的局部剖面图。

图6是根据一示例性实施方式示出的一种辐射温度计的示意图。

图7是根据图6示出的光路原理图。

图8是根据一示例性实施方式示出的测量辐射源尺寸效应的示意图。

其中，附图标记说明如下：

A、普通背景

1、内筒

11、贯通孔

12、内壁面

13、外壁面

2、外筒

21、凸起

22、凹槽

3、空腔

4、主物镜

41、视场光阑

42、第一测量光路物镜

43、干涉滤光片

44、第二测量光路物镜

45、探测器

46、瞄准系统反射镜

47、瞄准系统物镜

48、能量衰减片

49、观察目镜

5、积分球

6、实验光阑

7、辐射温度计

a、主光轴

b、瞄准光轴

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”、“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语，例如“顶”、“底”等也作具有类似含义。用语“一个”、“一”、“该”和“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”、“第二”、“第三”和“第四”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。

参阅图3，其代表性地示出了本发明提出的用于抑制辐射源尺寸效应的器件的剖面图。在该示例性实施方式中，本发明提出的用于抑制辐射源尺寸效应的器件是以应用于辐射温度计为例进行说明的。本领域技术人员容易理解的是，为将本发明的相关设计应用于其他类型的测量装置或其他工艺中，而对下述的具体实施方式做出多种改型、添加、替代、删除或其他变化，这些变化仍在本发明提出的用于抑制辐射源尺寸效应的器件的原理的范围内。

为了更全面地说明本发明的技术方案，下面先详细说明辐射温度计的测量原理以及本公开构思提出的背景。

首先，介绍照度辐射温度计的测量原理。普朗克定律给出物体的光谱辐射亮度与温度、波长之间的关系。亮度法辐射温度计利用普朗克定律，通过成像光路系统测量辐射源在给定方向上的已知投影面积和已知立体角发出的辐射通量，计算光谱辐射亮度，进而确定温度。而照度辐射温度计则在限定受光立体角的条件下，测量探测器接收的光谱辐射照度，利用普朗克定律来确定被测物体温度。照度辐射温度计通常在照度计的基础上辐射源一侧设置附加光阑来限定接受立体角，通过非成像光路系统测量辐射源对探测器面的辐照度。本设计的照度辐射温度计为单波段辐射温度计，通过限定探测面的受光立体角来测量辐照度，再根据辐照度与温度的单值函数关系确定辐射源的表观温度。

接着，介绍影响辐射温度计测量值准确度的因素，从而引出本发明构思的提出。在亮度辐射温度计的光学系统中，在光路上每增加一个面，都会不可避免的增加光线反射、衍射和散射的可能性，而辐射源尺寸效应(SSE)来源于辐射的衍射和散射，以及辐射温度计光学系统的不完美和光学畸变等影响。详细来说，辐射源尺寸效应可以定义为：当测量或比较两个尺寸不同但是具有相同温度的黑体辐射源的单色辐射亮度时会得到不同的信号，表现为辐射温度计显示值不同，即测量信号同辐射源的大小有关，此现象就是辐射源尺寸效应。

具体来说，本发明人发现测量光路系统以外的背景干扰辐射信号也是影响辐射温度计测量值准确度的重要因素，背景干扰辐射信号主要是通过光学反射、衍射以及散射等现象影响测量信号的准确性，据此，如何有效降低背景干扰辐射信号至关重要。

根据能量守恒定律，如图1所示，在实际环境中，热辐射Q投射到任一普通背景A时，热辐射Q会以三种形式达到能量守恒，第一部分被普通背景反射为Q1，第二部分被普通背景吸收为Q2，第三部分透过普通背景A为Q3，即Q＝Q1+Q2+Q3。在利用辐射测温时，为了降低背景干扰辐射信号的影响，需要使Q2尽可能变大，根据能量守恒定律，当Q2变得足够大时，分量Q1和Q3才能够足够小，从而保证足够小的Q1和Q3进入辐射温度计，减小对测量信号的影响。

基于上述原理，本发明人通过增加背景干扰辐射信号的漫反射次数，以及屏蔽吸收干扰信号，设计一种主物镜，从而提高辐射温度计的测量准确度。

其中，图2是根据一示例性实施方式示出的一种用于抑制辐射源尺寸效应的器件的爆炸图。图3是根据一示例性实施方式示出的一种用于抑制辐射源尺寸效应的器件的剖面图。图4是根据一示例性实施方式示出的外筒的第一实施方式的局部剖面图。图5是根据一示例性实施方式示出的外筒的第二实施方式的局部剖面图。图6是根据一示例性实施方式示出的一种辐射温度计的示意图。图7是根据图6示出的光路原理图。

下面结合上述附图，对本发明提出的用于抑制辐射源尺寸效应的器件和辐射温度计的各主要组成部分的结构、连接方式以及功能关系进行详细说明。

用于抑制辐射源尺寸效应的器件的实施方式

如图2所示，本发明提供一种用于抑制辐射源尺寸效应的器件，用以安装在辐射温度计上，该器件即为辐射温度计的主物镜4，其包括内筒1和外筒2。内筒1和外筒2的截面可以是圆形的、矩形的或其他形状的，本发明并不对此作特别限定，作为优选，内筒1和外筒2的截面是圆形的，以便于加工和安装。

其中，内筒1具有内壁面12、外壁面13以及贯穿内壁面12与外壁面13的多个贯通孔11。多个贯通孔11可以是沿内筒1的周向和轴向均匀地阵列排布，以使干扰辐射信号沿整个内筒1的内壁面均可穿过。内筒1的轴线可以是与辐射温度计的主光轴a重合。

外筒2间隔地套设在内筒1的外部，外筒2的内壁面与内筒1的外壁面相对设置且形成一空腔3，干扰辐射信号能够自内筒1的一端进入内筒1，并穿过多个贯通孔11进入空腔3。

其中，内筒1和外筒2可以是通过螺接连接件连接、卡接或其他方式连接在一起。内筒1和外筒2采用分体式的结构设计，可根据不同的测量环境而调整内筒1和外筒2的相对位置关系。举例来说，在轴向方向上，内筒1的两端与外筒2的两端可以是对齐，也可以是内筒1沿轴向突出于外筒2，或外筒2突出于内筒1。

内筒1和外筒2构成的空腔3的两端可以是封闭的。

其中，内筒1的轴线和外筒2的轴线可以是重合的，也可以是不重合的，例如平行的，或相交的，保证两者间隔设置且构成一空腔3即可。

当背景干扰辐射信号进入内筒1时，部分干扰辐射信号穿过贯通孔11进入内筒1和外筒2共同构成的空腔3内，该部分的干扰辐射信号在空腔3内连续发生多次反射和衍射，根据能量守恒定律，如图1所示，经过多次反射、衍射后，被吸收的部分Q2逐渐变大，相应地，反射和透过部分(Q1+Q3)的能量逐渐变小，进而降低了干扰辐射信号对辐射温度计测量值准确性的影响。同时，空腔3大致构成一封闭的，位于空腔3内的部分干扰辐射信号较难从内部再次穿出，据此，内筒1和外筒2构成的空腔3起到了屏蔽部分干扰辐射信号的作用。

进一步地，在本实施方式中，多个贯通孔11沿内筒1的轴向呈多列设置，每列具有多个贯通孔11。其中，每列中的多个贯通孔11构成的封闭曲线构成的平面与内筒1的轴线可以是正交的，也可以不是正交的。

进一步地，在本实施方式中，每一列中的多个贯通孔11沿内筒1的周向均匀设置，使得干扰辐射信号可以以多种角度进入内筒1，从而穿过贯通孔11。

当然，在其他实施方式中，每一列中的多个贯通孔11沿内筒1的周向也可以是不均匀设置的。

进一步地，在本实施方式中，奇数列中的贯通孔11与偶数列中的贯通孔11沿轴向相互错开，相邻两个奇数列中的贯通孔11沿轴向对齐，相邻两个偶数列中的贯通孔11沿轴向对齐。

具体来说，沿内筒1的轴向，自内筒1的一端向另一端观察，奇数列中的多个贯通孔11与相邻的两个偶数列中的多个贯通孔11相互错开、不重合。同时，两个相邻的奇数列和两个相邻的偶数列的多个贯通孔11自内筒1的一端向另一端观察是对齐的。这样的结构设计，使得干扰辐射信号自奇数列的贯通孔11(或偶数列的贯通孔11)进入空腔3后，由于奇数列与偶数列相互错开，使得经外筒2的内壁反射后不会从相邻的偶数列的贯通孔11(或奇数列的贯通孔11)穿出，而是持续在空腔3内多次的反射、衍射，空腔3起到了屏蔽辐射信号的作用。

进一步地，如图4和图5所示，在本实施方式中，外筒2具有多个设置在外筒2的内壁面周缘的环形凸起21，以使外筒2的内壁面形成凹凸不平的表面。通过在外筒2的内壁面形成多个依次交替设置的凸起21和凹槽22，使得外筒2的内壁面形成凹凸不平的表面，进而增加了干扰辐射信号在该表面的散射和衍射次数，根据能量守恒定律，散射和衍射次数的增加，干扰辐射信号的被吸收部分逐渐变大，相应地，反射和透过部分的能量逐渐变小，进而降低了干扰辐射信号对辐射温度计测量值准确性的影响。

进一步地，在本实施方式中，多个环形凸起21可以是共轴线且形成第一轴线，多个环形凹槽22可以是共轴线且形成第二轴线，第一轴线、第二轴线以及外筒2的轴线相互平行。

当然，在其他实施方式中，多个环形凸起21可以是不共轴线的，多个环形凹槽22可以是不共轴线的。

进一步地，在本实施方式中，多个环形凸起21形成的第一轴线、多个环形凹槽22形成的第二轴线和外筒2的轴线重合。

当然，应当理解的是，外筒2也可以是具有多个设置在外筒2的内壁面周缘的环形凹槽22，同样使使外筒2的内壁面形成凹凸不平的表面，其效果与在外筒2的内壁面设置环形凸起21类似，此处不再赘述。

进一步地，如图4所示，在本实施方式中，每一环形凸起21或每一环形凹槽22的轴截面(轴截面是指通过圆筒、圆锥、圆台的轴的截面，在本实施方式中，是指通过外筒2的轴的截面)呈矩形。

进一步地，如图5所示，在本实施方式中，每一环形凸起21或每一环形凹槽22的轴截面呈三角形。

进一步地，在本实施方式中，内筒1的内壁面、内筒1的外壁面以及外筒2的内壁面进行氧化发黑处理；和/或，内筒1的内壁面、内筒1的外壁面以及外筒2的内壁面进行喷砂处理。表面进行喷砂处理，能够增加干扰辐射信号在表面上的反射、衍射的次数，起到了衰减干扰辐射信号的能量。表面进行氧化发黑处理，能够增加内筒1和外筒2壁面的发射率，起到吸收干扰辐射信号的作用。

辐射温度计实施方式

如图6所示，本发明提供的辐射温度计包括主物镜4、测量系统以及瞄准系统，其中，测量系统包括视场光阑41、第一测量光路物镜42、干涉滤光片43、第二测量光路物镜44以及探测器45，以形成主光轴a。瞄准系统包括瞄准系统反射镜46、瞄准系统物镜47、能量衰减片48以及观察目镜49，以形成瞄准光轴b。其中，主物镜4为上述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件。器件中内筒1的轴线与主光轴a重合，以使待测光路系统信号进入辐射温度计。

如图7所示，视场光阑41、第一测量光路物镜42、干涉滤光片43、第二测量光路物镜44以及探测器45共同形成主光轴a，瞄准系统反射镜46、瞄准系统物镜47、能量衰减片48以及观察目镜49共同形成瞄准光轴b。

其中，该主物镜4安装在辐射温度计的前部，并且主物镜4的轴线与主光轴a同轴设置。

为了验证本发明的抑制辐射源尺寸效应的实际效果，本发明人进行了相关实验，如图8所示，提供一积分球5(模拟辐射源)以及一检测积分球5温度的辐射温度计。同时，通过加工一整套不同直径的实验光阑6(10mm至96mm)，共计10块，不同直径的实验光阑6依次设置在积分球5的前端，进而模拟温度相同而开口直径不同的黑体辐射源。

为了说明本发明提供的主物镜4的抑制辐射源尺寸效应的效果，特别进行了三种实验，分别为：

第一种是未安装本发明主物镜4的辐射温度计，在积分球5安装不同直径的光阑(10mm至96mm)的情况下，测量辐射源尺寸效应的结果，结果是0.23％。

第二种是安装如图3所示主物镜4的辐射温度计，在积分球5安装不同直径的光阑(10mm至96mm)的情况下，测量辐射源尺寸效应的结果，结果是0.18％。

第三种是安装如图4所示主物镜4的辐射温度计，在积分球5安装不同直径的光阑(10mm至96mm)的情况下，测量辐射源尺寸效应的结果，结果是0.17％。

据此，可以看出安装本发明提供的主物镜4的辐射温度计后，测量辐射源尺寸效应的结果均小于未安装的，其能够有效抑制辐射源尺寸效应，使得测量结果更加准确。

综上所述，本发明提供的主物镜4包括内筒1和外筒2，内筒1具有内壁面、外壁面以及贯穿内壁面与外壁面的多个贯通孔11，外筒2间隔地套设于内筒1的外部，外筒2的内壁面与内筒1的外壁面相对设置且形成一空腔3，干扰辐射信号能够自内筒1的一端进入内筒1，并穿过多个贯通孔11进入空腔3。通过上述设计，当背景干扰辐射信号进入内筒1时，部分干扰辐射信号穿过贯通孔11进入内筒1和外筒2共同构成的空腔3内，该部分的干扰辐射信号在空腔3内连续发生多次反射、衍射，根据能量守恒定律，经过多次漫反射后，被吸收的部分逐渐变大，相应地，反射和透过部分的能量逐渐变小，进而降低了干扰辐射信号对辐射温度计测量值准确性的影响。同时，位于空腔3内的部分干扰辐射信号较难从空腔3内部再次穿出，据此，内筒1和外筒2构成的空腔3起到了屏蔽部分干扰辐射信号的作用。

而且，通过在外筒2的内壁面设置多个依次交替设置的凸起21和凹槽22，使得外筒2的内壁面形成凹凸不平的表面，进而增加了干扰辐射信号在该表面的散射和衍射次数。

另外，内筒1和外筒2的表面进行喷砂和/或氧化发黑处理，能够增加干扰辐射信号在表面上的反射、衍射的次数，以及增加内筒1和外筒2壁面的发射率。

在此应注意，附图中示出而且在本说明书中描述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件仅仅是采用本发明的原理的一个示例。本领域的普通技术人员应当清楚地理解，本发明的原理并非仅限于附图中示出或说明书中描述的装置的任何细节或任何部件。

应可理解的是，本发明不将其应用限制到本说明书提出的部件的详细结构和布置方式。本发明能够具有其他实施方式，并且能够以多种方式实现并且执行。前述变形形式和修改形式落在本发明的范围内。应可理解的是，本说明书公开和限定的本发明延伸到文中和/或附图中提到或明显的两个或两个以上单独特征的所有可替代组合。所有这些不同的组合构成本发明的多个可替代方面。本说明书所述的实施方式说明了已知用于实现本发明的最佳方式，并且将使本领域技术人员能够利用本发明。

Claims (10)

1.一种用于抑制辐射源尺寸效应的器件，其中，包括：

内筒，具有内壁面、外壁面以及贯穿所述内壁面与所述外壁面的多个贯通孔；以及

外筒，间隔地套设于所述内筒的外部，所述外筒的内壁面与所述内筒的外壁面相对设置且形成一空腔；

其中，干扰辐射信号能够自所述内筒的一端进入所述内筒，并穿过多个所述贯通孔进入所述空腔。

2.根据权利要求1所述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件，其中，所述内筒和所述外筒均呈圆筒形，且所述内筒和所述外筒同轴设置；在轴向方向上，所述内筒的两端与所述外筒的两端对齐。

3.根据权利要求1所述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件，其中，所述贯通孔沿所述内筒的轴向呈多列设置，每列具有多个所述贯通孔。

4.根据权利要求3所述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件，其中，每一列中的多个所述贯通孔沿所述内筒的周向均匀设置。

5.根据权利要求3或4所述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件，其中，奇数列中的所述贯通孔与偶数列中的所述贯通孔沿轴向相互错开，两个相邻所述奇数列中的所述贯通孔沿轴向对齐，两个相邻偶数列中的所述贯通孔沿轴向对齐。

6.根据权利要求1至4任一项所述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件，其中，所述外筒具有多个设置在所述外筒的内壁面周缘的环形凸起；或所述外筒具有多个设置在所述外筒的内壁面周缘的环形凹槽。

7.根据权利要求6所述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件，其中，多个所述环形凸起或所述环形凹槽的轴截面呈矩形。

8.根据权利要求6所述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件，其中，多个所述环形凸起或所述环形凹槽的轴截面呈三角形。

9.根据权利要求1所述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件，其中，

所述内筒的内壁面、所述内筒的外壁面以及所述外筒的内壁面进行氧化发黑处理；和/或，

所述内筒的内壁面、所述内筒的外壁面以及所述外筒的内壁面进行喷砂处理。

10.一种辐射温度计，包括主物镜、测量系统以及瞄准系统，所述主物镜设置在所述测量系统的一侧，其中，所述主物镜为如权利要求1-9任一项所述的用于抑制辐射源尺寸效应的器件，且所述器件的内筒的轴线与所述测量系统形成的主光轴重合。