CN109765604A - 场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法及系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法及系统，其中，该方法包括以下步骤：分析场所伽玛剂量仪现场校准时引入环境散射的因素，构建现场校准的环境因素参数组；建立场所伽玛剂量仪现场校准的蒙特卡罗模型，分析不同环境因素对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律；筛选有效的环境散射贡献数据，采用交叉实验的方式，蒙特卡罗方法模拟得到大量样本数据；采用机器学习方法构建环境因素参数组和环境散射贡献之间的关系模型；通过关系模型，结合测量数据可实现对场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射的校正。该方法可快速校正场所伽玛射线剂量仪现场校准过程中环境散射对校准量值产生的影响，使校准结果准确可靠。
Description
技术领域
本发明涉及辐射防护技术领域，特别涉及一种场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法及系统。
背景技术
伽玛射线剂量(率)仪是为保障大型核设施、核装置、射线应用装置和设备的安全，核武器的使用安全以及涉核工作人员的安全与健康的一类监测预警仪器。主要通过监测核武器及核设施周围的伽玛射线剂量情况，进而判断核武器和核设施周围环境是否安全。由于其固定的安装方式以及探头和二次仪表分离式布置方式，使得其不能整体拆卸并送至电离辐射计量技术机构进行定期的校准，因而其性能得不到及时有效的保障，给辐射安全埋下隐患。
相关技术中，该类仪表的质量保证方式通常采用便携式辐照装置到现场对其进行现场校准。便携式辐照装置在仪器校准现场产生的伽玛参考辐射，不符合JJG393-2003《辐射防护用X、辐射剂量当量(率)仪和监测仪检定规程》、国标GB/T 12162.1-2000《用于校准剂量仪和剂量率仪及确定其能量响应的X和γ参考辐射—辐射特性及产生方法》、GB/T12162.3-2004《用于校准剂量仪和剂量率仪及确定其能量响应的X和γ参考辐射—场所剂量仪和个人剂量计的校准及其能量响应和角响应的测定》规定的检定条件和方法的要求。且现场的环境复杂多变，不同的环境因素产生的散射射线会对仪器的校准量值产生影响。
因此，当现场应用条件不一致时，带来的直接后果就是现场复杂多变的环境因素导致的散射射线对量值确定的干扰无法确定。同时，量值的准确度和仪表性能的保证自然无从谈起，这是目前所有的现场检定方法没有解决的问题。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
为此，本发明的一个目的在于提出一种场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法。该方法可以快速校正场所伽玛射线剂量仪现场校准过程中环境散射对校准量值产生的影响，使校准结果准确可靠。
本发明的另一个目的在于提出一种场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正系统。
为达到上述目的，本发明一方面提出了场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，包括以下步骤：S1，获取场所伽玛剂量仪现场校准的多个环境散射因素，并根据所述多个环境散射因素构建所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境参数组；S2，构建所述场所伽玛剂量仪现场校准的蒙特卡罗模型，以得到不同环境因素对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律；S3，采用交叉实验的方式，筛选环境散射贡献的数据，并结合所述蒙特卡罗模型得到样本数据；S4，通过机器学习方法构建所述环境参数组和所述环境散射贡献间的关系模型，以获取环境散射对所述场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子，并根据所述贡献因子对所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射进行校正。
本发明实施例的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，通过建立关系模型并结合测量数据实现对场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正，使得可以快速校正场所伽玛射线剂量仪现场校正过程中环境散射对校准量产生的影响，且校准结果准确可靠。
另外，根据本发明上述实施例的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法还可以具有以下附加的技术特征：
可选地，在本发明的一个实施例中，所述多个环境散射因素的环境散射因素为天花板-探测器的距离、天花板的材料、地面-探测器的距离、地面材料、墙壁-探测器的距离、墙壁材料、探测器的半径、放射源种类、放射源强度、放射源-探测器的距离、障碍物形状、障碍物尺寸或障碍物-探测器的距离。
可选地，在本发明的一个实施例中，所述天花板、所述地面和所述墙壁的材料均为混凝土、碳钢或铅皮中任意一种或多种组合的形式。
进一步地，在本发明的一个实施例中，所述天花板-探测器的距离取值范围为大于1m且小于3m，所述地面-探测器的距离取值范围为大于1m小于2.5m，所述墙壁-探测器的距离取值范围为大于1cm小于20cm，所述探测器的半径取值范围为大于2.5cm小于10cm，所述放射源-探测器的距离取值范围为大于50cm小于150cm，障碍物-探测器的距离取值范围为大于5cm小于30cm。
进一步地，在本发明的一个实施例中，所述障碍物形状为正方体或圆柱体时，且在所述障碍物形状为正方体时，所述障碍物形状的长×宽×高的取值范围分别为大于10cm小于50cm、大于10cm小于50cm、大于5cm小于15cm，当所述障碍物形状为圆柱体时，则底面半径与高的取值范围分别为大于2.5cm小于10cm、大于10cm小于30cm。
进一步地，在本发明的一个实施例中，所述步骤S2进一步包括：根据所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境物理模型和预设梯度确定所述多个环境散射因素的每个环境散射因素值；通过蒙特卡罗方法模拟不同取值的环境散射因素产生的所述环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律。
其中，所述通过蒙特卡罗方法模拟不同取值的环境散射因素产生的所述环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律，进一步包括：依次在取值范围内改变所述环境散射因素值，以得到所述环境散射对现场校准量值的贡献因子随着环境因素的改变而变化的规律。
进一步地，在本发明的一个实施例中，在所述步骤S3中，所述筛选环境散射贡献的数据为环境因素产生的环境散射对现场校准量值贡献大于0.2％的数据。
进一步地，在本发明的一个实施例中，所述步骤S4进一步包括：获取所述场所伽玛剂量仪现场校准的所述环境参数组；将所述环境参数组代入所述关系模型，以得到环境散射对所述场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子；通过A＝A’/C对所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射进行校正，其中，A为经过环境散射校正后的场所伽玛剂量仪校准因子，A’为经过环境散射校正前的场所伽玛剂量仪校准因子，C为环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子。
为达到上述目的，本发明另一方面提出了一种场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正系统，包括：构建模块，用于获取场所伽玛剂量仪现场校准的多个环境散射因素，并根据所述多个环境散射因素构建所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境参数组；分析模块，用于构建所述场所伽玛剂量仪现场校准的蒙特卡罗模型，以得到不同环境因素对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律；筛选模块，用于采用交叉实验的方式，筛选环境散射贡献的数据，并结合所述蒙特卡罗模型得到样本数据；校正模块，用于通过机器学习方法构建所述环境参数组和所述环境散射贡献间的关系模型，以获取环境散射对所述场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子，并根据所述贡献因子对所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射进行校正。
本发明实施例的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正系统，通过建立关系模型并结合测量数据实现对场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正，使得可以快速校正场所伽玛射线剂量仪现场校正过程中环境散射对校准量产生的影响，且校准结果准确可靠。
本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
本发明上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1为根据本发明实施例的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法流程图；
图2为根据本发明实施例的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
下面参照附图描述根据本发明实施例提出的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法及系统，首先将参照附图描述根据本发明实施例提出的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法。
图1是本发明一个实施例的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法流程图。
如图1所示，该场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法包括以下步骤：
在步骤S1中，获取场所伽玛剂量仪现场校准的多个环境散射因素，并根据多个环境散射因素构建场所伽玛剂量仪现场校准的环境参数组。
需要说明的是，多个环境散射因素的环境散射因素可以为天花板-探测器的距离、天花板的材料、地面-探测器的距离、地面材料、墙壁-探测器的距离、墙壁材料、探测器的半径、放射源种类、放射源强度、放射源-探测器的距离、障碍物形状、障碍物尺寸或障碍物-探测器的距离等等。
举例而言，分析场所伽玛剂量仪现场校准时引入环境散射的因素，包括天花板-探测器的距离d1，天花板的材料m1，地面-探测器的距离d2，地面材料m2，墙壁-探测器的距离d3，墙壁材料m3，探测器的半径r，放射源种类t，放射源强度i，放射源-探测器的距离d4，障碍物形状s，障碍物尺寸l，障碍物-探测器的距离d5；各个环境因素共同组合得到环境因素参数组D，D＝[d1,m1,d2,m2,d3,m3,r,t,i,d4,s,L,d5]1×13。
需要说明的是，天花板、地面和墙壁的材料均为混凝土、碳钢或铅皮中任意一种或多种组合的形式。天花板-探测器的距离取值范围为大于1m且小于3m，地面-探测器的距离取值范围为大于1m小于2.5m，墙壁-探测器的距离取值范围为大于1cm小于20cm，探测器的半径取值范围为大于2.5cm小于10cm，放射源-探测器的距离取值范围为大于50cm小于150cm，障碍物-探测器的距离取值范围为大于5cm小于30cm。
结合上述举例而言，天花板-探测器的距离d1，其取值范围为1m-3m，天花板的材料m1为混凝土、碳钢或铅皮；的地面-探测器的距离d2，其取值范围为1m-2.5m，地面的材料m2为混凝土、碳钢或铅皮；墙壁-探测器的距离d3，其取值范围为1cm-20cm，墙壁的材料m3为混凝土、碳钢或铅皮；探测器的半径r，其取值范围为2.5cm-10cm，放射源种类t为137Cs或60Co，放射源强度i，此处以距离放射源50cm时产生的剂量率确定，其取值范围为10uGy/h-1mGy/h，放射源-探测器的距离d4，其取值范围为50cm-150cm，障碍物的形状s，取长方体或圆柱体，障碍物的尺寸L，当为正方体时，其长×宽×高的取值范围分别为10cm-50cm，10cm-50cm，5cm-15cm；当为圆柱体时，其底面半径r1与高的取值范围分别为2.5cm-10cm，10cm-30cm；障碍物-探测器的距离d5的取值范围为5cm-30cm。
另外，障碍物形状为正方体或圆柱体时，且在障碍物形状为正方体时，障碍物形状的长×宽×高的取值范围分别为大于10cm小于50cm、大于10cm小于50cm、大于5cm小于15cm，当障碍物形状为圆柱体时，则底面半径与高的取值范围分别为大于2.5cm小于10cm、大于10cm小于30cm。
在步骤S2中，构建场所伽玛剂量仪现场校准的蒙特卡罗模型，以得到不同环境因素对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律。
进一步地，在本发明的一个实施例中，步骤S2包括：根据场所伽玛剂量仪现场校准的环境物理模型和预设梯度确定多个环境散射因素的每个环境散射因素值；通过蒙特卡罗方法模拟不同取值的环境散射因素产生的环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律。其中，贡献规律依次在取值范围内改变环境散射因素值，以得到环境散射对现场校准量值的贡献因子随着环境因素的改变而变化的规律。
也就是说，构建场所伽玛剂量仪现场校准的典型环境物理模型，依次按照一定的梯度改变各个环境因素值，采用蒙特卡罗模拟的方法模拟各个环境因素对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律。
结合上述举例而言，步骤S2包括如下步骤：
步骤S2-1：场所伽玛剂量仪现场校准的典型环境物理模型，其环境参数取值为D＝[1.6m，混凝土，1.6m，混凝土，5cm，混凝土，5cm，137Cs，100uGy/h，50cm，长方体，(40cm，30cm，10cm)]；
步骤S2-2：按照一定的梯度改变各个环境因素值，对于天花板-探测器的距离d1，在其取值范围内以10cm为间隔取值；对于地面-探测器的距离d2，在其取值范围内以10cm为间隔取值；对于墙壁-探测器的距离d3，在其取值范围内以1cm为间隔取值；探测器的半径，在其取值范围内以0.5cm为间隔取值；放射源-探测器的距离d4，在其取值范围内以5cm为间隔取值；障碍物尺寸L，对于长方体而言，l1在其取值范围内以10cm为间隔进行取值，l2在其取值范围内以10cm为间隔进行取值，l3在其取值范围内以5cm为间隔进行取值；对与圆柱体而言，r1在其取值范围内以2.5cm为间隔进行取值；l4在其取值范围内以5cm为间隔进行取值；障碍物-探测器的距离d5在其取值范围内以5cm为间隔进行取值；
步骤S2-3：采用蒙特卡罗方法，模拟不同取值的环境散射因素产生的环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律，即是逐次在取值范围内改变每个环境因素i，得到环境散射对现场校准量值的贡献因子随着环境因素i的改变而变化的规律。
在步骤S3中，采用交叉实验的方式，筛选环境散射贡献的数据，并结合蒙特卡罗模型得到样本数据。
进一步地，在步骤S3中，有效的筛选环境散射贡献的数据为环境因素产生的环境散射对现场校准量值贡献大于0.2％的数据。
举例而言，根据模拟得到的规律，筛选有效的环境散射贡献数据，采用交叉实验的方式，选择m种环境因素组合Dj，j＝1，2，…，m并通过蒙特卡罗方法模拟该组合条件下环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子Cj，j＝1，2，…，m，每组Dj和Cj作为一组样本数据。
在步骤S4中，通过机器学习方法构建环境参数组和环境散射贡献间的关系模型，以获取环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子，并根据贡献因子对场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射进行校正。
也就是说，将m组样本数据组合，得到样本数据矩阵Dm×13和Cm×1，采用机器学习方法，训练环境因素参数组D和环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值贡献因子C之间的数学关系模型C＝f(D)。
具体而言，选择支持向量机作为回归的方法获得C的预测模型f(D)的具体方法为：训练回归预测模型所选择的核函数为径向基核，核函数的参数通过交叉验证的方法确定，建立模型时，样本数据矩阵按照大于等于1：1的比例分配给训练集和测试集，当测试误差不小于5％时，结束训练，确定预测模型为C＝f(D)。
可以理解的是，获取场所伽玛剂量仪现场校准的环境参数组Di；将环境参数组Di代入训练的预测模型C＝f(D)，得到环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准的量值贡献因子；通过A＝A’/C即可对场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射进行校正，其中，A为经过环境散射校正后的场所伽玛剂量仪校准因子，A’为经过环境散射校正前的场所伽玛剂量仪校准因子，C为环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子。
根据本发明实施例提出的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，通过建立关系模型并结合测量数据实现对场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正，使得可以快速校正场所伽玛射线剂量仪现场校正过程中环境散射对校准量产生的影响，且校准结果准确可靠。
其次参照附图描述根据本发明实施例提出的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正系统。
图2是本发明一个实施例的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正系统结构示意图。
如图2所示，该场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正系统100包括：构建模块100、分析模块200、筛选模块300和校正模块400。
其中，构建模块100用于获取场所伽玛剂量仪现场校准的多个环境散射因素，并根据多个环境散射因素构建场所伽玛剂量仪现场校准的环境参数组。分析模块200用于构建场所伽玛剂量仪现场校准的蒙特卡罗模型，以得到不同环境因素对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律。筛选模块300用于采用交叉实验的方式，筛选环境散射贡献的数据，并结合蒙特卡罗模型得到样本数据。校正模块400用于通过机器学习方法构建环境参数组和环境散射贡献间的关系模型，以获取环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子，并根据贡献因子对场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射进行校正。
需要说明的是，前述对场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法实施例的解释说明也适用于该系统，此处不再赘述。
根据本发明实施例提出的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正系统，通过建立关系模型并结合测量数据实现对场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正，使得可以快速校正场所伽玛射线剂量仪现场校正过程中环境散射对校准量产生的影响，且校准结果准确可靠。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (10)
1.一种场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1，获取场所伽玛剂量仪现场校准的多个环境散射因素，并根据所述多个环境散射因素构建所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境参数组；
S2，构建所述场所伽玛剂量仪现场校准的蒙特卡罗模型，以得到不同环境因素对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律；
S3，采用交叉实验的方式，筛选环境散射贡献的数据，并结合所述蒙特卡罗模型得到样本数据；以及
S4，通过机器学习方法构建所述环境参数组和所述环境散射贡献间的关系模型，以获取环境散射对所述场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子，并根据所述贡献因子对所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射进行校正。
2.根据权利要求1所述的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，其特征在于，所述多个环境散射因素的环境散射因素为天花板-探测器的距离、天花板的材料、地面-探测器的距离、地面材料、墙壁-探测器的距离、墙壁材料、探测器的半径、放射源种类、放射源强度、放射源-探测器的距离、障碍物形状、障碍物尺寸或障碍物-探测器的距离。
3.根据权利要求2所述的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，其特征在于，所述天花板、所述地面和所述墙壁的材料均为混凝土、碳钢或铅皮中任意一种或多种组合的形式。
4.根据权利要求2所述的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，其特征在于，所述天花板-探测器的距离取值范围为大于1m且小于3m，所述地面-探测器的距离取值范围为大于1m小于2.5m，所述墙壁-探测器的距离取值范围为大于1cm小于20cm，所述探测器的半径取值范围为大于2.5cm小于10cm，所述放射源-探测器的距离取值范围为大于50cm小于150cm，障碍物-探测器的距离取值范围为大于5cm小于30cm。
5.根据权利要求2所述的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，其特征在于，所述障碍物形状为正方体或圆柱体时，且在所述障碍物形状为正方体时，所述障碍物形状的长×宽×高的取值范围分别为大于10cm小于50cm、大于10cm小于50cm、大于5cm小于15cm，当所述障碍物形状为圆柱体时，则底面半径与高的取值范围分别为大于2.5cm小于10cm、大于10cm小于30cm。
6.根据权利要求1所述的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，其特征在于，所述步骤S2进一步包括：
根据所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境物理模型和预设梯度确定所述多个环境散射因素的每个环境散射因素值；
通过蒙特卡罗方法模拟不同取值的环境散射因素产生的所述环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律。
7.根据权利要求6所述的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，其特征在于，其中，所述通过蒙特卡罗方法模拟不同取值的环境散射因素产生的所述环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律，进一步包括：
依次在取值范围内改变所述环境散射因素值，以得到所述环境散射对现场校准量值的贡献因子随着环境因素的改变而变化的规律。
8.根据权利要求1所述的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，其特征在于，在所述步骤S3中，所述筛选环境散射贡献的数据为环境因素产生的环境散射对现场校准量值贡献大于0.2％的数据。
9.根据权利要求1所述的场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正方法，其特征在于，所述步骤S4进一步包括：
获取所述场所伽玛剂量仪现场校准的所述环境参数组；
将所述环境参数组代入所述关系模型，以得到环境散射对所述场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子；以及
通过A＝A’/C对所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射进行校正，其中，A为经过环境散射校正后的场所伽玛剂量仪校准因子，A’为经过环境散射校正前的场所伽玛剂量仪校准因子，C为环境散射对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子。
10.一种场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射校正系统，其特征在于，包括：
构建模块，用于获取场所伽玛剂量仪现场校准的多个环境散射因素，并根据所述多个环境散射因素构建所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境参数组；
分析模块，用于构建所述场所伽玛剂量仪现场校准的蒙特卡罗模型，以得到不同环境因素对场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献规律；
筛选模块，用于采用交叉实验的方式，筛选环境散射贡献的数据，并结合所述蒙特卡罗模型得到样本数据；以及
校正模块，用于通过机器学习方法构建所述环境参数组和所述环境散射贡献间的关系模型，以获取环境散射对所述场所伽玛剂量仪现场校准量值的贡献因子，并根据所述贡献因子对所述场所伽玛剂量仪现场校准的环境散射进行校正。
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|---|---|
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