CN109752323A - 用于波谱寻址测调的fp波谱结构、制备方法和光学显微镜 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于波谱寻址测调的FP波谱结构用于显微成像测量，包括从上至下依次平行设置的第一增透膜、第一基片、图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、第二基片、以及第二增透膜，图案电极和公共电极彼此同心设置，且二者同时用作高反射膜，其均是由金属材料制成；图案电极包括多个以对称方式排列的矩形子电极，各个矩形子电极之间是电绝缘的；各个矩形子电极通过各自的电连接线从图案电极引出，并与从公共电极引出的电连接线一起，分别连接到各个外部控制信号的两端。本发明具有谱显微成像效能高、目标和光场适应性好、体积和质量小、易与其它光学光电机械结构耦合的优点。

Description

用于波谱寻址测调的FP波谱结构、制备方法和光学显微镜

技术领域

本发明属于光学显微成像与控制技术领域，更具体地，涉及一种用于波谱寻址测调的法布里-珀罗效应(Fabry-Perot effect，简称FP)波谱结构、制备方法和光学显微镜。

背景技术

迄今为止，光学显微镜成像技术在生成谱图像方面主要采用三种方式，第一种方式是从成像光路中分光束执行谱数据测量与解析，再对显微图像执行图谱数据处理，以获得微纳目标的序列谱显微图像信息；第二种方式是通过在显微成像面上构建干涉光场，执行可时序测谱与调谱的图谱一体化显微干涉成像；第三种方式是通过衍射分光执行高光谱分辨率显微成像。

然而，现有光学显微镜在生成谱图像方面均存在一些技术缺陷：上述第一种方式存在光路复杂、谱图像获取不具备实时性的缺点，上述第二种方式光源与成像光路配置复杂，对显微成像系统的结构和环境稳定性及可控性要求高，上述第三种方式则需要配置结构和驱控方式相对复杂的精密随动机构。

发明内容

针对现有技术的以上缺陷或改进需求，本发明提供了一种用于波谱寻址测调的FP波谱结构、制备方法和光学显微镜，其目的在于，解决上述现有光学显微镜在生成谱图像方面存在的上述技术问题，并具有谱显微成像效能高、目标和光场适应性好、体积和质量小、易与其它光学光电机械结构耦合的优点。

为实现上述目的，按照本发明的一个方面，提供了一种用于波谱寻址测调的FP波谱结构，包括从上至下依次平行设置的第一增透膜、第一基片、图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、第二基片、以及第二增透膜，图案电极和公共电极彼此同心设置，且二者同时用作高反射膜，其均是由金属材料制成，图案电极包括多个以对称方式排列的矩形子电极，各个矩形子电极之间是电绝缘的，各个矩形子电极通过各自的电连接线从图案电极引出，并与从公共电极引出的电连接线一起，分别连接到各个外部控制信号U_k的两端，用于在所述液晶微镜被接入光路从而形成光学显微镜时，实现以可寻址方式测量和调节波谱，其中k∈(1，p)，p表示图案电极中矩形子电极的个数。

按照本发明的另一个方面，提供了一种用于波谱寻址测调的FP波谱结构，包括从上至下依次平行设置的第一增透膜、第一基片、图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、第二基片、以及第二增透膜，图案电极和公共电极彼此同心设置，且二者同时用作高反射膜，其均是由金属材料制成，图案电极包括从内到外同心设置的一个圆形子电极、以及多个圆环形子电极，圆形子电极与其相邻的圆环形子电极之间、以及相邻圆环形子电极之间是电绝缘的，圆形子电极和各个圆环形子电极通过各自的电连接线从图案电极引出，并与从公共电极引出的电连接线一起，分别连接到各个外部控制信号U_i的两端，用于在所述液晶微镜被接入光路从而形成光学显微镜时，实现以可寻址方式测量和调节波谱，其中i表示该圆形子电极或圆环形子电极在整个图案电极中的层数序号，且有i∈(1，n)，其中n表示图案电极的层数。

按照本发明的另一个方面，提供了一种用于波谱寻址测调的FP波谱结构，包括从上至下依次平行设置的第一增透膜、第一基片、图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、第二基片、以及第二增透膜，图案电极和公共电极彼此同心设置，且二者同时用作高反射膜，其均是由金属材料制成，图案电极包括从内到外同心设置的一个圆形子电极、以及多个扇形子电极，圆形子电极与其相邻的各个扇形子电极之间、以及各个相邻的扇形子电极之间是电绝缘的，位于同一层的多个扇形子电极具有相同的圆心角，且同一层的所有扇形子电极组成一个完整的圆形，编号为(i，j)的圆形子电极和各个扇形子电极通过各自的电连接线从图案电极引出，并与从公共电极引出的电连接线一起，分别连接到各个外部控制信号U_i，j的两端，用于在所述液晶微镜被接入光路从而形成光学显微镜时，实现以可寻址方式测量和调节波谱，其中i表示该扇形子电极在图案电极中的层数序号，且有i∈(1，n)，其中n表示图案电极的层数，j表示该扇形子电极在图案电极第i层中的序号，且有j∈(1，m)，其中m表示图案电极每一层所包括的扇形子电极的总数。

优选地，第一增透膜和第二增透膜均是由常规光学增透膜制成，二者厚度相同，均为100纳米到700纳米，第一基片和第二基片均是由透光材料制成，其厚度均为1毫米到5毫米。

按照本发明的另一方面，提供了一种上述用于波谱寻址测调的FP波谱结构的制备方法，包括以下步骤：

(1)采用常规工艺分别制备矩形或圆形轮廓的第一基片和第二基片，并依次采用丙酮、酒精和去离子水溶剂对第一基片和第二基片进行超声清洗并烘干。

(2)在第一基片和第二基片的正面上，通过常规方法分别制备厚度在200纳米至1微米的金属(如铝或金)膜层，并对其进行清洁处理。

(3)在第一基片的正面上制备有金属(如铝或金)膜层的端面一侧，用匀胶机涂覆光刻胶，并烘干5至20分钟。

(4)将光刻版紧密覆盖在制备有金属膜层的第一基片上的光刻胶顶部，用光刻机的紫外光进行光刻10至30秒，并对其进行清洗和烘干处理。

(5)用显影液溶掉第一基片上感光或未感光部分的光刻胶，留下未感光或感光部分，然后用去离子水冲洗并烘干2至5分钟。

(6)用浓度在50％～30％的HCL溶液把第一基片上未受光刻胶保护的金属膜层腐蚀掉，将有光刻胶保护的金属膜保存下来，从而在第一基片上形成由金属膜构成的图案电极，并对其进行清洁和干燥处理。

(7)采用旋涂工艺在第一基片的图案电极和第二基片的公共电极表面制作厚约1毫米的抗腐蚀保护层，并对其进行清洁处理。

(8)在第一基片正面制备有图案电极和第二基片正面制备有公共电极的背面上分别制作厚约1微米的第一增透膜和第二增透膜，并对其进行清洁处理。

(9)将第一基片的图案电极和第二基片的公共电极上分别制作的抗腐蚀保护层去除，并对其进行清洁处理。

(10)用匀胶机在第一基片的图案电极和第二基片的公共电极上涂覆PI层，并对其进行清洁和干燥处理。

(12)把涂覆了PI层的第一基片和第二基片放入退火炉中进行退火固化处理。

(13)用绒布沿平行于第一基片和第二基片的同向边缘方向摩擦PI层，以形成第一液晶定向层和第二液晶定向层，并对其进行清洁和干燥处理，从而分别构成上、下电极板。

(14)将玻璃间隔子掺入上电极板的第一液晶定向层与下电极板的第二液晶定向层间，且位于二者的边缘处，用UV胶封住上电极板和下电极板的左右两侧，通过渗透法灌注向列型液晶在二者之间；

(15)用UV胶封住上电极板和下电极板的上下两侧并烘干。

按照本发明的另一方面，提供了一种光学显微镜，包括沿光轴依次设置的第一物镜、第二物镜、上述用于波谱寻址测调的FP波谱结构、以及光敏阵列。

按照本发明的另一方面，提供了一种光学显微镜，包括沿光轴依次设置的、根据上述用于波谱寻址测调的FP波谱结构、第一物镜、第二物镜、以及光敏阵列。

优选地，当使用矩形子电极时，矩形子电极的长和宽均大于光敏阵列中光敏元的尺寸；当使用环形子电极时，最外侧圆环形子电极轮廓的直径大于光敏阵列中光敏元的尺寸；当使用扇形子电极时，最外侧扇形子电极对应圆形轮廓的直径大于光敏阵列中光敏元的尺寸。

总体而言，通过本发明所构思的以上技术方案与现有技术相比，能够取得下列有益效果：

1、本发明的光学显微镜是通过将用于波谱寻址测调的FP波谱结构插入显微成像光路中即可实现，操作简单，方便，不需要额外配置结构和驱控方式相对复杂的精密随动机构。

2、本发明通过以寻址加电的方式，能够实时地确定谱图像对应的图案电极中的具体位置，并通过调节该具体位置处的外部控制信号，实现对谱图像的波谱进行调节。

3、本发明具有成像光场适应性好的特点，可采用宽谱段可见或红外光、窄谱段可视或红外LED波束、脉冲或连续激光等照射微纳目标执行显微成像操作，从而显著降低对像场光强及其频谱要求。

4、本发明能够通过电选电调成像波谱来主动适应微纳结构其特殊的光致荧光辐射，并能够将成像波谱准确指向或调控到图案电极上的特定区域或微纳目标，因而具有高效显微成像的优点。

5、本发明具有对成像波谱进行空间配置与调变，从而将成像手段对成像物质的影响显著降低甚至彻底摆脱的优点。

6、本发明能基于先验知识或根据成像情况，通过电控执行显微成像波谱的空间配置与调变，具有智能化优点。

7、本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构具有极高的结构、电学以及电光参数的稳定性，并具有控制精度高的特点。

8、本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构在显微成像光路中接插方便，易与其他光学光电机械结构等匹配耦合。

附图说明

图1是根据本发明一种实施方式的包括用于波谱寻址测调的FP波谱结构的光学显微镜的配置示意图。

图2是根据本发明另一种实施方式的包括用于波谱寻址测调的FP波谱结构的光学显微镜的配置示意图。

图3是本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构的示意图。

图4(a)到(c)是本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构中不同形态图案电极的示意图。

图5是本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构中公共电极的示意图。

在所有附图中，相同的附图标记用来表示相同的元件或结构，其中：

1-第一增透膜，2-第一基片，3-图案电极，4-第一液晶定向层，5-液晶层，6-第二液晶定向层，7-公共电极，8-第二基片，9-第二增透膜。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。此外，下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。

如图3所示，本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构包括从上至下依次平行设置的第一增透膜1、第一基片2、图案电极3、第一液晶定向层4、液晶层5、第二液晶定向层6、公共电极7、第二基片8、以及第二增透膜9。

第一增透膜1和第二增透膜9均是由常规光学增透膜制成，二者厚度相同，均为100纳米到700纳米。

第一基片2和第二基片8均是由透光材料(诸如石英、玻璃等)制成，其厚度均为1毫米到5毫米。

图案电极3和公共电极7彼此同心设置，且二者同时用作高反射膜，其均是由金属材料(例如金、铝、银等)制成，

图4(a)示出本发明的图案电极的第一种结构，其包括多个以对称方式排列的矩形子电极，各个矩形子电极之间是电绝缘的(在图中，中间的十字实线就是绝缘区域)，各个矩形子电极通过各自的电连接线从图案电极3引出，并与从公共电极7引出的电连接线一起，分别连接到各个外部控制信号U_k的两端，且有k∈(1，p)，其中p表示图案电极中矩形子电极的个数。

在本实施方式中，图案电极中矩形子电极的个数p的上限是20。

由于各个外部电压信号是与各个具体的矩形子电极相对应，因而当本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构被接入光路，从而形成光学显微镜时，能够实现以可寻址方式测量和调节波谱。

应该注意的是，在图4(a)中，出于示意的方便起见，仅仅示出了4个矩形子电极，但是其并不构成对本发明子电极数量的限定。

当采用本实施方式的图案电极的用于波谱寻址测调的FP波谱结构被用在光学显微镜时，矩形子电极的长和宽均略大于光敏阵列中光敏元的尺寸。

图4(b)示出本发明的图案电极的第二种结构，其包括从内到外同心设置的一个圆形子电极、以及多个圆环形子电极，圆形子电极与其相邻的圆环形子电极之间、以及相邻圆环形子电极之间是电绝缘的。圆形子电极和各个圆环形子电极通过各自的电连接线从图案电极3引出，并与从公共电极7引出的电连接线一起，分别连接到各个外部控制信号U_i的两端，其中i表示该圆形子电极或圆环形子电极在整个图案电极中的层数序号，且有i∈(1，n)，其中n表示图案电极的层数。

圆形子电极的直径和各个圆环形子电极的环径可以相同，也可以不同，

在本实施方式中，图案电极的层数n的上限是20。

由于各个外部电压信号是与圆形子电极、以及各个具体的圆环形子电极相对应，因而当本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构被接入光路，从而形成光学显微镜时，能够实现以可寻址方式测量和调节波谱。

应该注意的是，在图4(b)中，出于示意的方便起见，仅仅示出了3个圆环形子电极，但是其并不构成对本发明子电极数量的限定。

当采用本实施方式的图案电极的用于波谱寻址测调的FP波谱结构被用在光学显微镜时，最外侧圆环形子电极轮廓的直径略大于光敏阵列中光敏元的尺寸。

图4(c)示出本发明的图案电极的第三种结构，该结构是对上述第二种结构的进一步改进，即，沿着圆形子电极的径向对上述多个环形子电极进行平均分割(在图中是将其分割成八个部分)，从而将多个圆环形子电极分割成多个扇形子电极，圆形子电极与其相邻的各个扇形子电极之间、以及各个相邻的扇形子电极之间是电绝缘的。从图4(c)中可以看出，分割后所形成的扇形子电极的编号用(i，j)表示，其中i表示该扇形子电极在图案电极中的层数序号(从内到外)，且有i∈(1，n)，其中n表示图案电极的层数，j表示该扇形子电极在图案电极的第i层中的序号，且有j∈(1，m)，其中m表示图案电极每一层所包括的扇形子电极的总数。

针对图4(c)而言，最内层的圆形子电极，其区域编号为(1，1)，该圆形子电极外层的各个扇形子电极，其区域编号为(2，1)、(2，2)、…、(2，8)。

区域编号为(i，j)的圆形子电极和各个扇形子电极通过各自的电连接线从图案电极3引出，并与从公共电极7引出的电连接线一起，分别连接到各个外部控制信号U_i，j的两端。

由于各个外部电压信号是与圆形子电极、以及各个具体的扇形子电极相对应，因而当本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构被接入光路，从而形成光学显微镜时，能够实现以可寻址方式测量和调节波谱。

应该注意的是，在图4(c)中，出于示意的方便起见，仅仅示出了将单个环形子电极平均分割为8个部分后得到的扇形子电极，但是其并不构成对本发明子电极数量的限定。

在本实施方式中，图案电极的层数n的上限是20，单个环形子电极被分割后得到的扇形子电极总数m的上限是16。

当采用本实施方式的图案电极的用于波谱寻址测调的FP波谱结构被用在光学显微镜时，最外侧扇形子电极对应圆形轮廓的直径略大于光敏阵列中光敏元的尺寸。

图5示出了从本发明的公共电极所引出的多个电连接线。

本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构的制备方法包括以下步骤：

(1)采用常规工艺分别制备矩形或圆形轮廓的第一基片和第二基片，并依次采用丙酮、酒精和去离子水溶剂对第一基片和第二基片进行超声清洗并烘干。

(2)在第一基片和第二基片的正面上，通过常规方法分别制备厚度在200纳米至1微米的金属(如铝或金)膜层，并对其进行清洁处理。

(3)在第一基片的正面上制备有金属(如铝或金)膜层的端面一侧，用匀胶机涂覆光刻胶，并烘干5至20分钟。

(4)将光刻版紧密覆盖在制备有金属膜层的第一基片上的光刻胶顶部，用光刻机的紫外光进行光刻10至30秒，并对其进行清洗和烘干处理。

(5)用显影液溶掉第一基片上感光或未感光部分的光刻胶，留下未感光或感光部分，然后用去离子水冲洗并烘干2至5分钟。

(6)用浓度在50％～30％的HCL溶液把第一基片上未受光刻胶保护的金属膜层腐蚀掉，将有光刻胶保护的金属膜保存下来，从而在第一基片上形成由金属膜构成的图案电极，并对其进行清洁和干燥处理。

(7)采用旋涂工艺在第一基片的图案电极和第二基片的公共电极表面制作厚约1毫米的抗腐蚀保护层，并对其进行清洁处理。

具体而言，矩形轮廓第一基片正面上的矩形图案电极层由多个相同结构尺寸和形貌的子矩形电极对称排布构成，其具有超过95％的填充系数，并通过与每单元子矩形电极相连的独立电连接线引出；

可选地，圆形轮廓第一基片正面上的同心圆环形图案电极，由环径逐渐增大环面尺寸逐渐减小的多个同心圆环电极密排构成，其具有超过95％的填充系数，并通过与每单元圆环形电极相连的独立电连接线引出；

可选地，圆形轮廓第一基片正面上的图案电极由一个中心小圆形电极和周围多个圆对称扇形电极密排构成，其具有超过95％的填充系数，同样通过与各子电极相连的独立电连接线引出。

(8)在第一基片正面制备有图案电极和第二基片正面制备有公共电极的背面上分别制作厚约1微米的第一增透膜和第二增透膜，并对其进行清洁处理。

(9)将第一基片的图案电极和第二基片的公共电极上分别制作的抗腐蚀保护层去除，并对其进行清洁处理。

(10)用匀胶机在第一基片的图案电极和第二基片的公共电极上涂覆PI层，并对其进行清洁和干燥处理。

(12)把涂覆了PI层的第一基片和第二基片放入退火炉中进行退火固化处理。

(13)用绒布沿平行于第一基片和第二基片的同向边缘方向摩擦PI层，以形成第一液晶定向层和第二液晶定向层，并对其进行清洁和干燥处理，从而分别构成上、下电极板。

(14)将玻璃间隔子掺入上电极板的第一液晶定向层与下电极板的第二液晶定向层间，且位于二者的边缘处，用UV胶封住上电极板和下电极板的左右两侧，通过渗透法灌注向列型液晶在二者之间；

(15)用UV胶封住上电极板和下电极板的上下两侧并烘干。

图1示出了根据本发明第一种实施方式的光学显微镜，其包括沿光轴依次设置的第一物镜、第二物镜、如上所述的用于波谱寻址测调的FP波谱结构、以及光敏阵列，其中待测物放置在第一物镜远离第二物镜的一侧。

如图1所示，本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构是设置在第二物镜和光敏阵列之间，以时序方式检测待测物的波谱，当检测到待测物的波谱出现异常时，首先以可寻址的方式确定用于波谱寻址测调的FP波谱结构中图案电极上的具体区域，并对该具体区域施加外部控制信号进行调节，从而实现对波谱的可寻址调节，进而使得成像焦点位于光敏阵列的焦点-A上，并获得清晰化的显微图像。

图2示出了根据本发明第二种实施方式的光学显微镜，其包括沿光轴依次设置的、如上所述的用于波谱寻址测调的FP波谱结构、第一物镜、第二物镜、以及光敏阵列，其中待测物放置在用于波谱寻址测调的FP波谱结构远离第一物镜的一侧。

如图2所示，本发明用于波谱寻址测调的FP波谱结构是设置在待测物和第一物镜之间，以时序方式检测待测物的波谱，当检测到待测物的波谱出现异常时，首先以可寻址的方式确定用于波谱寻址测调的FP波谱结构中图案电极上的具体区域，并对该具体区域施加外部控制信号进行调节，从而实现对波谱的可寻址调节，进而使得成像焦点位于光敏阵列的焦点-B上，进而获得清晰化的显微图像。

本领域的技术人员容易理解，以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种用于波谱寻址测调的FP波谱结构，包括从上至下依次平行设置的第一增透膜、第一基片、图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、第二基片、以及第二增透膜，其特征在于，

图案电极和公共电极彼此同心设置，且二者同时用作高反射膜，其均是由金属材料制成；

图案电极包括多个以对称方式排列的矩形子电极，各个矩形子电极之间是电绝缘的；

各个矩形子电极通过各自的电连接线从图案电极引出，并与从公共电极引出的电连接线一起，分别连接到各个外部控制信号U_k的两端，用于在所述液晶微镜被接入光路从而形成光学显微镜时，实现以可寻址方式测量和调节波谱，其中k∈(1，p)，p表示图案电极中矩形子电极的个数。

2.一种用于波谱寻址测调的FP波谱结构，包括从上至下依次平行设置的第一增透膜、第一基片、图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、第二基片、以及第二增透膜，其特征在于，

图案电极和公共电极彼此同心设置，且二者同时用作高反射膜，其均是由金属材料制成；

图案电极包括从内到外同心设置的一个圆形子电极、以及多个圆环形子电极，圆形子电极与其相邻的圆环形子电极之间、以及相邻圆环形子电极之间是电绝缘的；

圆形子电极和各个圆环形子电极通过各自的电连接线从图案电极引出，并与从公共电极引出的电连接线一起，分别连接到各个外部控制信号U_i的两端，用于在所述液晶微镜被接入光路从而形成光学显微镜时，实现以可寻址方式测量和调节波谱，其中i表示该圆形子电极或圆环形子电极在整个图案电极中的层数序号，且有i∈(1，n)，其中n表示图案电极的层数。

3.一种用于波谱寻址测调的FP波谱结构，包括从上至下依次平行设置的第一增透膜、第一基片、图案电极、第一液晶定向层、液晶层、第二液晶定向层、公共电极、第二基片、以及第二增透膜，其特征在于，

图案电极和公共电极彼此同心设置，且二者同时用作高反射膜，其均是由金属材料制成；

图案电极包括从内到外同心设置的一个圆形子电极、以及多个扇形子电极，圆形子电极与其相邻的各个扇形子电极之间、以及各个相邻的扇形子电极之间是电绝缘的；

位于同一层的多个扇形子电极具有相同的圆心角，且同一层的所有扇形子电极组成一个完整的圆形；

编号为(i，j)的圆形子电极和各个扇形子电极通过各自的电连接线从图案电极引出，并与从公共电极引出的电连接线一起，分别连接到各个外部控制信号U_i，j的两端，用于在所述液晶微镜被接入光路从而形成光学显微镜时，实现以可寻址方式测量和调节波谱，其中i表示该扇形子电极在图案电极中的层数序号，且有i∈(1，n)，其中n表示图案电极的层数，j表示该扇形子电极在图案电极第i层中的序号，且有j∈(1，m)，其中m表示图案电极每一层所包括的扇形子电极的总数。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的FP波谱结构，其特征在于，

第一增透膜和第二增透膜均是由常规光学增透膜制成，二者厚度相同，均为100纳米到700纳米；

第一基片和第二基片均是由透光材料制成，其厚度均为1毫米到5毫米。

5.一种根据权利要求1至3中任意一项所述用于波谱寻址测调的FP波谱结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)采用常规工艺分别制备矩形或圆形轮廓的第一基片和第二基片，并依次采用丙酮、酒精和去离子水溶剂对第一基片和第二基片进行超声清洗并烘干。

(2)在第一基片和第二基片的正面上，通过常规方法分别制备厚度在200纳米至1微米的金属(如铝或金)膜层，并对其进行清洁处理。

(3)在第一基片的正面上制备有金属(如铝或金)膜层的端面一侧，用匀胶机涂覆光刻胶，并烘干5至20分钟。

(4)将光刻版紧密覆盖在制备有金属膜层的第一基片上的光刻胶顶部，用光刻机的紫外光进行光刻10至30秒，并对其进行清洗和烘干处理。

(5)用显影液溶掉第一基片上感光或未感光部分的光刻胶，留下未感光或感光部分，然后用去离子水冲洗并烘干2至5分钟。

(6)用浓度在50％～30％的HCL溶液把第一基片上未受光刻胶保护的金属膜层腐蚀掉，将有光刻胶保护的金属膜保存下来，从而在第一基片上形成由金属膜构成的图案电极，并对其进行清洁和干燥处理。

(7)采用旋涂工艺在第一基片的图案电极和第二基片的公共电极表面制作厚约1毫米的抗腐蚀保护层，并对其进行清洁处理。

(8)在第一基片正面制备有图案电极和第二基片正面制备有公共电极的背面上分别制作厚约1微米的第一增透膜和第二增透膜，并对其进行清洁处理。

(9)将第一基片的图案电极和第二基片的公共电极上分别制作的抗腐蚀保护层去除，并对其进行清洁处理。

(10)用匀胶机在第一基片的图案电极和第二基片的公共电极上涂覆PI层，并对其进行清洁和干燥处理。

(12)把涂覆了PI层的第一基片和第二基片放入退火炉中进行退火固化处理。

(13)用绒布沿平行于第一基片和第二基片的同向边缘方向摩擦PI层，以形成第一液晶定向层和第二液晶定向层，并对其进行清洁和干燥处理，从而分别构成上、下电极板。

(14)将玻璃间隔子掺入上电极板的第一液晶定向层与下电极板的第二液晶定向层间，且位于二者的边缘处，用UV胶封住上电极板和下电极板的左右两侧，通过渗透法灌注向列型液晶在二者之间；

(15)用UV胶封住上电极板和下电极板的上下两侧并烘干。

6.一种光学显微镜，其特征在于，包括沿光轴依次设置的第一物镜、第二物镜、根据权利要求1至3中任意一项所述的用于波谱寻址测调的FP波谱结构、以及光敏阵列。

7.根据权利要求6所述的光学显微镜，其特征在于，

当使用矩形子电极时，矩形子电极的长和宽均大于光敏阵列中光敏元的尺寸；

当使用环形子电极时，最外侧圆环形子电极轮廓的直径大于光敏阵列中光敏元的尺寸；

当使用扇形子电极时，最外侧扇形子电极对应圆形轮廓的直径大于光敏阵列中光敏元的尺寸。

8.一种光学显微镜，其特征在于，包括沿光轴依次设置的、根据权利要求1至3中任意一项所述的用于波谱寻址测调的FP波谱结构、第一物镜、第二物镜、以及光敏阵列。

9.根据权利要求8所述的光学显微镜，其特征在于，

当使用矩形子电极时，矩形子电极的长和宽均大于光敏阵列中光敏元的尺寸；

当使用环形子电极时，最外侧圆环形子电极轮廓的直径大于光敏阵列中光敏元的尺寸；

当使用扇形子电极时，最外侧扇形子电极对应圆形轮廓的直径大于光敏阵列中光敏元的尺寸。