CN109566387A - 一种基质栽培营养液的灌溉决策方法及灌溉系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种基质栽培营养液的灌溉决策方法及灌溉系统。方法包括:获取多次采集照射在作物冠层的光辐射值;将多次采集的所述光辐射值进行累加获得累积值,并在所述累积值符合预设累积阈值时获取基质的含水率;在所述基质含水率小于基质的预设含水率时,根据所述基质的含水率和所述基质的预设含水率计算基质栽培营养液的灌溉量;按照所述灌溉量对基质上的作物进行基质栽培营养液的灌溉。本发明充分考虑作物需求,及基质条件和环境因子的影响,实现灌溉过程的智能控制、灌溉液的精准供给,提高作物生长中营养液利用率的同时达到省时省工的目的,有利于基质栽培作物的提产、节本、增效。
Description
技术领域
本发明涉及灌溉技术领域,具体涉及一种基质栽培营养液的灌溉决策方法及灌溉系统。
背景技术
基质栽培是指用固体基质固定植物根系,并通过基质吸收营养液和氧的一种无土栽培方式。基质栽培与土壤栽培相比,在土地、水、肥等资源有效利用和病虫害防治等多方面有明显优势;基质的理化性状较土壤存在差异,其持水性、缓冲性等较差,而且水肥管理主要依靠人工控制,在基质栽培中易出现水分、养分供给不足或过量,且费工费时。
因此,需要综合考虑以上灌溉过程中存在的问题,研发出一种现代化的农业节水智能灌溉,实现灌溉过程的智能控制、灌溉用液的精准计量等功能,同时达到省时省工、节约用液的目的。
发明内容
针对现有技术中的缺陷,本发明提供一种基质栽培营养液的灌溉决策方法及灌溉系统,通过灌溉决策进行营养液自动灌溉,实现可有效提高营养液管理的精准性和效率。
为实现上述目的,本发明提供以下技术方案:
一方面,本发明提供了一种基质栽培营养液的灌溉决策方法,包括:
获取多次采集照射在作物冠层的光辐射值;
将多次采集的所述光辐射值进行累加获得累积值,并在所述累积值符合预设累积阈值时获取基质的含水率;
在所述基质含水率小于基质的预设含水率时,根据所述基质的含水率和所述基质的预设含水率计算基质栽培营养液的灌溉量;
按照所述灌溉量对基质上的作物进行基质栽培营养液的灌溉。
进一步的,所述按照所述灌溉量对基质上的作物进行灌溉的步骤,之前还包括:
检测灌溉营养液的电导率和排出营养液的电导率;
计算所述排出营养液的电导率和所述灌溉营养液的电导率之间的差值;
当所述差值大于或等于预设电导率阈值时,对基质进行基质盐分淋洗;
按照所述灌溉量乘以预设的基质盐分淋洗系数,获得实际灌溉量对基质上的作物进行营养液灌溉。
进一步的,采用基质栽培营养液对所述基质进行基质盐分淋洗。
进一步的,采用下式计算基质栽培营养液的灌溉量:
其中,M1为灌溉量;V为基质体积;p为基质湿润比;η为水分利用效率;q1为基质的预设含水率,q2为检测的基质含率量。
进一步的,所述多次采集太阳光的光辐射值的步骤,包括:
通过光辐射传感器以1次/s的频率采集太阳光的光辐射值。
进一步的,所述光辐射值的累积值采用下式进行计算:
∑Rsi=Rs1+Rs2+Rs3+...+Rsi(i=1、2、3......)
其中,∑Rsi为光辐射值的累积值,Rsi为第i次采集的光辐射值。
另一方面,本发明还提供了一种基质栽培营养液的灌溉系统,包括:栽培装置、灌溉装置和控制装置;
所述栽培装置包括:栽培槽9,所述栽培槽9底部沿长度方向上设有排出液导流槽13;所述栽培槽9底部设置底板12,在所述底板12上方放置基质定植条10,所述基质定植条10上定植孔11;所述排出液导流槽13上的排出液出口14的下方设有排出液接收容器16;
所述灌溉装置包括:施肥机1,所述施肥机1的出液口连接传输营养液的主管道7,所述主管道7上设有电磁阀2和流量计3,所述主管道7的出液口连接支路管道5,所述支路管道5上多个滴箭6,所述滴箭6用于向所述定植孔11中的作物传输营养液;
控制装置包括:
处理器,用于接收光辐射值数据、基质含水率数据和灌溉液、排出液电导率数据和输出控制信号至控制器;还用于执行上述基质栽培营养液的灌溉决策方法;
控制器,用于接收控制信号,并根据控制信号控制电磁阀的开关;
光辐射传感器,用于采集光辐射值数据,并发送光辐射值数据至处理器;
水分传感器,用于采集基质含水率数据,并发送含水率数据至处理器;
电导率传感器,用于采集灌溉液和排出液电导率数据,并发送电导率数据至处理器。
进一步的,所述光辐射传感器设置在温室中作物冠层的上方;所述水分传感器设置在所述基质定植条内;所述电导率传感器,包括:设置在施肥机出液口第一电导率传感器,以及设置在排出液接收容器中的第二电导率传感器。
另一方面,本发明还提供了一种电子设备,包括:处理器、存储器和总线;其中,
处理器和存储器通过总线完成相互间的通信;
处理器用于调用存储器中的程序指令,以执行上述基质栽培营养液的灌溉决策方法。
另一方面,本发明还提供了一种非暂态计算机可读存储介质,所述非暂态计算机可读存储介质存储计算机指令,所述计算机指令使所述计算机执行上述基质栽培营养液的灌溉决策方法。
由上述技术方案可知,本发明所述的一种基质栽培营养液的灌溉决策方法及灌溉系统,通过采集太阳光的光辐射值,根据光辐射值的累积值判断是否检测基质的含水率并根据含水率盘算是否进行灌溉,实现灌溉过程的智能控制;在需要进行灌溉时,根据检测含水率和预设含水率计算出基质栽培营养液的灌溉量,根据灌溉液和排出液电导率差值判断实际的灌溉量,实现灌溉用水的精准计量,对基质上的作物进行精准计量的基质栽培营养液的灌溉,提高作物生长中营养液的利用率,同时达到省时省工、节约用料的目的,有利于基质栽培作物的提产、节本、增效。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种基质栽培营养液的灌溉决策方法的流程示意图;
图2是本发明实施例提供的另一种基质栽培营养液的灌溉决策方法的流程示意图;
图3是本发明实施例提供的另一种基质栽培营养液的灌溉系统的结构示意图;
图4是本发明实施例提供的电子设备的结构示意图。
其中,1-施肥机,2-电磁阀,3-流量计,4-光辐射传感器,5-支路管道,6-滴箭,7-主管道,8-水分传感器,9-栽培槽,10-基质定植条,11-定植孔,12-底板,13-排出液导流槽,14-排出液出口,15-电导率传感器,16-排出液接收容器。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种基质栽培营养液的灌溉决策方法,参见图1,具体包括:
S101:获取多次采集照射在作物冠层的光辐射值;
在本步骤中,通过光辐射传感器以1次/s的频率采集太阳光的光辐射值,其中将光辐射传感器置于距离地面2米高处,或着置于作物冠层上方。
S102:将多次采集的所述光辐射值进行累加获得累积值,并在所述累积值符合预设累积阈值时获取基质的含水率;
在本步骤中,根据光辐射值的采集频率不同,设置不同的预设累积阈值,采集频率越高,预设累积阈值越大。在本实施例中,通过光辐射传感器以1次/s采集频率采集温室内太阳光辐射值Rs,将采集的太阳光辐射值累加,即∑Rsi=Rs1+Rs2+Rs3+...+Rsi(i=1、2、3......),当温室内太阳光辐射累积值∑Rsi达到或大于预设累积阈值,例如:预设累积阈值为1MJ时,即为达到灌溉启动点,此时检测基质栽培营养液的基质含水率,并将∑Rsi归零,重新累积太阳光辐射值。
其中,Rsi为第i次采集的光辐射值,光辐射值的累积值∑Rsi的最大阈值于作物种类、基质种类等有关,可以通过试验获得。
因此,通过步骤S102中的累积光辐射的灌溉启动点决策,实现是否到达灌溉启动点,实现灌溉过程的智能控制。
S103:在所述基质含水率小于基质的预设含水率时,根据所述基质含水率和所述基质的预设含水率计算基质栽培营养液的灌溉量;
在本步骤中,通过水分传感器检测基质栽培营养液中的基质含水率。在S102中达到灌溉启动点后,检测基质栽培营养液的基质含水率,当基质含水率q2小于基质的预设含水率q1时,根据水分传感器采集的基质含水率q2和设定基质的预设含水率q1,计算需要灌溉营养液的理论体积值,该理论体积值即为基质栽培营养液的灌溉量M1。
需要说明的是,预设含水率q1是根据基质栽培的作物的需水特征和基质的物理性状来设置。
采用下式计算基质栽培营养液的灌溉量:
其中,M1为灌溉量;V为基质体积;p为基质湿润比,为100%;η为水分利用效率,为0.9;q1为基质的预设含水率,q2为检测的基质含水率。
当基质含水率q2大于或等于基质的预设含水率q1时,则默认理论灌溉量为0,即不需要进行灌溉。
通过步骤S103的基质含水率变化的灌溉量决策,实现判断是否进行灌溉营养液,以及灌溉用水的精准计量
S104:按照所述灌溉量对基质上的作物进行基质栽培营养液的灌溉。
在本步骤中,采用现有的灌溉装置,按照步骤S103中计算的灌溉量对基质上的作物进行基质栽培营养液的灌溉。
从上述描述可知,本实施例提供的一种基质栽培营养液的灌溉决策方法,实现灌溉过程的智能控制、灌溉用水的精准计量,提高作物生长和营养液利用率的同时达到省时省工、节约用水的目的。
本发明实施例提供了另一种基质栽培营养液的灌溉决策方法,参见图2,在上述实施例步骤S104之前,还具体包括:
S105:检测灌溉营养液的电导率和排出营养液的电导率;
在本步骤中,采用两个电导率传感器分别检测排出营养液的电导率和灌溉营养液的电导率。具体使用电导率传感器采集同一灌溉周期的灌溉营养液电导率EC1和排出液电导率EC2。
需要说明的是,灌溉营养液是准备向栽培作物的基质中进行灌溉的基质栽培营养液;排出营养液是经栽培作物吸收后,由栽培作物的基质渗透并收集的基质栽培营养液。
S106:计算所述排出营养液的电导率和所述灌溉营养液的电导率之间的差值;
S107:当所述差值大于或等于预设电导率阈值时,对基质进行基质盐分淋洗;
在本步骤中,当排出液电导率EC2与灌溉营养液电导率EC1的差值大于或等于预设电导率阈值时,采用基质栽培营养液对所述基质进行基质盐分淋洗,即实际灌溉量为理论灌溉量M1乘以淋洗系数;当排出液电导率EC2与灌溉营养液电导率EC1的差值小于预设电导率阈值时,则不进行基质盐分淋洗,实际灌溉量为理论灌溉量M1。
其中,根据不同的作物、基质种类选取不同的预设电导率阈值或者预设电导率阈值为1ms/cm;在进行基质盐分淋洗时,选择0.3倍的灌溉量M1营养液进行基质盐分淋洗。
在实际生产中,空气温度和湿度也是影响作物蒸腾作用的主要环境因子,导致营养液管理与作物的实际需求存在偏差,进而影响作物生长和营养液利用率,因此通过灌溉液和排出液电导率差值的基质盐分淋洗决策,充分考虑了作物需水特点、环境因子及栽培基质等影响,适时、适量为作物供应营养液,使营养液的管理更符合作物实际需求。
S108:按照所述灌溉量乘以预设的基质盐分淋洗系数,获得实际灌溉量对基质上的作物进行营养液灌溉。
在本步骤中,采用现有的灌溉装置,按照步骤S103中计算的灌溉量对基质上的作物进行基质栽培营养液的灌溉。
从上述描述可知,本实施例提供的一种基质栽培营养液的灌溉决策方法,通过对灌溉启动点和灌溉量的共同决策,弱化了人为经验干扰,并充分考虑了作物需水特点、环境因子及栽培基质等影响,适时、适量为作物供应营养液,使营养液的管理更符合作物实际需求,可确保作物生长良好和保产提质,有效减低营养液灌溉量,提高灌溉营养液的利用效率。
本发明实施例提供了一种基质栽培营养液的灌溉系统,参见图3,具体包括:
栽培装置、灌溉装置和控制装置;
所述栽培装置包括:栽培槽9,所述栽培槽9底部沿长度方向上设有排出液导流槽13;所述栽培槽9底部设置底板12,底板12将排出液导流槽13隔开,将基质定植条10放置在栽培槽9中,且放置在所述底板12上方,所述基质定植条10上定植孔11;所述排出液导流槽13上的排出液出口14的下方设有排出液接收容器16;
所述灌溉装置包括:施肥机1,所述施肥机1的出液口连接传输营养液的主管道7,所述主管道7上设有电磁阀2和流量计3,所述主管道7的出液口连接支路管道5,所述支路管道5上多个滴箭6,所述滴箭6用于向所述定植孔11中的作物传输营养液;
在具体实施时,主管道7选择32PE管,支路管道5选择16PE管,营养液依次通过电磁阀2和流量计3到达滴箭6中,支路管道5上多个滴箭6插入定植孔11中距离作物植株2cm位置处,将营养液输准确地送至作物根部;
控制装置包括:
处理器,用于接收光辐射值数据、基质含水率数据和灌溉液、排出液电导率数据和输出控制信号至控制器;还用于执行上述的基质栽培营养液的灌溉决策方法;
控制器,用于接收控制信号,并根据控制信号控制电磁阀的开关;
光辐射传感器4,用于采集光辐射值数据,并发送光辐射值数据至处理器;
水分传感器8,用于采集基质含水率数据,并发送含水率数据至处理器;
电导率传感器15,用于采集灌溉液和排出液电导率数据,并发送电导率数据至处理器。
所述光辐射传感器4设置在温室中作物冠层的上方;所述水分传感器8设置在所述基质定植条内,或者从基质侧面(剖面)水平插入基质中;所述电导率传感器15,包括:设置在施肥机出液口第一电导率传感器,以及设置在排出液接收容器中的第二电导率传感器。
从上述描述可知,本实施例提供的基质栽培营养液的灌溉系统,实现了对灌溉启动点和灌溉量的共同决策,弱化了人为经验干扰,并充分考虑了作物需水特点、环境因子及栽培基质等影响,与常规的灌溉决策方法相比,基于该方法的营养液灌溉更符合作物实际需求,不仅适时、适量为作物供应营养液,确保作物生长良好和保产提质,更可有效降低营养液灌溉量,可有效提高灌溉营养液管理的精准性和提高灌溉营养液的利用效率,有利于基质栽培作物的提产、节本和增效,为基质栽培作物的优质高效产出和农业双减提供技术保证。
本发明实施例提供了一种电子设备,参见图4,该电子设备可以包括:处理器411、存储器412、总线413及存储在存储器412上并可在处理器411上运行的计算机程序;
其中,所述处理器411,存储器412通过所述总线413完成相互间的通信;
所述处理器411执行所述计算机程序时实现上述各方法实施例所提供的方法,例如包括:多次采集太阳光的光辐射值;将多次采集的所述光辐射值进行累加获得累积值,并在所述累积值大于预设累积阈值时检测基质的含水率;在所述基质含水率小于基质的预设含水率时,根据所述基质的含水率和所述基质的预设含水率计算基质栽培营养液的灌溉量;按照所述灌溉量对基质上的作物进行基质栽培营养液的灌溉。
本发明实施例提供了一种非暂态计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,该计算机程序被处理器执行时实现上述各方法实施例所提供的方法,例如包括:多次采集太阳光的光辐射值;将多次采集的所述光辐射值进行累加获得累积值,并在所述累积值大于预设累积阈值时检测基质的含水率;在所述基质含水率小于基质的预设含水率时,根据所述基质的含水率和所述基质的预设含水率计算基质栽培营养液的灌溉量;按照所述灌溉量对基质上的作物进行基质栽培营养液的灌溉。
本领域内的技术人员应明白,本申请的实施例可提供为方法、装置、或计算机程序产品。因此,本申请可采用完全硬件实施例、完全软件实施例、或结合软件和硬件方面的实施例的形式。而且,本申请可采用在一个或多个其中包含有计算机可用程序代码的计算机可用存储介质(包括但不限于磁盘存储器、CD-ROM、光学存储器等)上实施的计算机程序产品的形式。
本申请是参照根据本申请实施例的方法、装置、和计算机程序产品的流程图和/或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和/或方框图中的每一流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中的流程和/或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理设备的处理器以产生一个机器,使得通过计算机或其他可编程数据处理设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的装置/系统。
这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理设备以特定方式工作的计算机可读存储器中,使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品,该指令装置实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能。
这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理设备上,使得在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理,从而在计算机或其他可编程设备上执行的指令提供用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
本发明的说明书中,说明了大量具体细节。然而能够理解的是,本发明的实施例可以在没有这些具体细节的情况下实践。在一些实例中,并未详细示出公知的方法、结构和技术,以便不模糊对本说明书的理解。类似地,应当理解,为了精简本发明公开并帮助理解各个发明方面中的一个或多个,在上面对本发明的示例性实施例的描述中,本发明的各个特征有时被一起分组到单个实施例、图、或者对其的描述中。然而,并不应将该公开的方法解释呈反映如下意图:即所要求保护的本发明要求比在每个权利要求中所明确记载的特征更多的特征。更确切地说,如权利要求书所反映的那样,发明方面在于少于前面公开的单个实施例的所有特征。因此,遵循具体实施方式的权利要求书由此明确地并入该具体实施方式,其中每个权利要求本身都作为本发明的单独实施例。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。本发明并不局限于任何单一的方面,也不局限于任何单一的实施例,也不局限于这些方面和/或实施例的任意组合和/或置换。而且,可以单独使用本发明的每个方面和/或实施例或者与一个或更多其他方面和/或其实施例结合使用。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围,其均应涵盖在本发明的权利要求和说明书的范围当中。
Claims (10)
1.一种基质栽培营养液的灌溉决策方法,其特征在于,包括:
获取多次采集照射在作物冠层的光辐射值;
将多次采集的所述光辐射值进行累加获得累积值,并在所述累积值符合预设累积阈值时获取基质的含水率;
在所述基质含水率小于基质的预设含水率时,根据所述基质的含水率和所述基质的预设含水率计算基质栽培营养液的灌溉量;
按照所述灌溉量对基质上的作物进行基质栽培营养液的灌溉。
2.根据权利要求1所述的灌溉决策方法,其特征在于,所述按照所述灌溉量对基质上的作物进行灌溉的步骤,之前还包括:
检测灌溉营养液的电导率和排出营养液的电导率;
计算所述排出营养液的电导率和所述灌溉营养液的电导率之间的差值;
当所述差值大于或等于预设电导率阈值时,对基质进行基质盐分淋洗;
按照所述灌溉量乘以预设的基质盐分淋洗系数,获得实际灌溉量对基质上的作物进行营养液灌溉。
3.根据权利要求2所述的灌溉决策方法,其特征在于,采用基质栽培营养液对所述基质进行基质盐分淋洗。
4.根据权利要求1所述的灌溉决策方法,其特征在于,采用下式计算基质栽培营养液的灌溉量:
其中,M1为灌溉量;V为基质体积;p为基质湿润比;η为水分利用效率;q1为基质的预设含水率,q2为检测的基质含水率。
5.根据权利要求1所述的灌溉决策方法,其特征在于,所述多次采集太阳光的光辐射值的步骤,包括:
通过光辐射传感器以1次/s的频率采集太阳光的光辐射值。
6.根据权利要求1所述的灌溉决策方法,其特征在于,所述光辐射值的累积值采用下式进行计算:
∑Rsi=Rs1+Rs2+Rs3+...+Rsi(i=1、2、3......)
其中,∑Rsi为光辐射值的累积值,Rsi为第i次采集的光辐射值。
7.一种基质栽培营养液的灌溉系统,其特征在于,包括:栽培装置、灌溉装置和控制装置;
所述栽培装置包括:栽培槽(9),所述栽培槽(9)底部沿长度方向上设有排出液导流槽(13);所述栽培槽(9)底部设置底板(12),在所述底板(12)上方放置基质定植条(10),所述基质定植条(10)上定植孔(11);所述排出液导流槽(13)上的排出液出口(14)的下方设有排出液接收容器(16);
所述灌溉装置包括:施肥机(1),所述施肥机(1)的出液口连接传输营养液的主管道(7),所述主管道(7)上设有电磁阀(2)和流量计(3),所述主管道(7)的出液口连接支路管道(5),所述支路管道(5)上多个滴箭(6),所述滴箭(6)用于向所述定植孔(11)中的作物传输营养液;
控制装置包括:
处理器,用于接收光辐射值数据、基质含水率数据和灌溉液、排出液电导率数据和输出控制信号至控制器;还用于执行权利要求1-6任一项所述的基质栽培营养液的灌溉决策方法;
控制器,用于接收控制信号,并根据控制信号控制电磁阀的开关;
光辐射传感器,用于采集光辐射值数据,并发送光辐射值数据至处理器;
水分传感器,用于采集基质含水率数据,并发送含水率数据至处理器;
电导率传感器,用于采集灌溉液和排出液电导率数据,并发送电导率数据至处理器。
8.根据权利要求7所述的灌溉系统,其特征在于,所述光辐射传感器设置在温室中作物冠层的上方;所述水分传感器设置在所述基质定植条内;所述电导率传感器,包括:设置在施肥机出液口第一电导率传感器,以及设置在排出液接收容器中的第二电导率传感器。
9.一种电子设备,其特征在于,包括:处理器、存储器和总线;其中,
处理器和存储器通过总线完成相互间的通信;
处理器用于调用存储器中的程序指令,以执行权利要求1-6任一项所述的基质栽培营养液的灌溉决策方法。
10.一种非暂态计算机可读存储介质,所述非暂态计算机可读存储介质存储计算机指令,所述计算机指令使所述计算机执行权利要求1-6任一项所述的基质栽培营养液的灌溉决策方法。
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