CN109541802A - 一种双光路双远心光学系统 - Google Patents

一种双光路双远心光学系统 Download PDF

Info

Publication number
CN109541802A
CN109541802A CN201910055291.7A CN201910055291A CN109541802A CN 109541802 A CN109541802 A CN 109541802A CN 201910055291 A CN201910055291 A CN 201910055291A CN 109541802 A CN109541802 A CN 109541802A
Authority
CN
China
Prior art keywords
lens
double
optical
strength
light path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201910055291.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109541802B (zh
Inventor
韦晓孝
李雪宸
万新军
吕元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
University of Shanghai for Science and Technology
Original Assignee
University of Shanghai for Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by University of Shanghai for Science and Technology filed Critical University of Shanghai for Science and Technology
Priority to CN201910055291.7A priority Critical patent/CN109541802B/zh
Publication of CN109541802A publication Critical patent/CN109541802A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109541802B publication Critical patent/CN109541802B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/001—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras
    • G02B13/0015—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras characterised by the lens design
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/001—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras
    • G02B13/0055—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras employing a special optical element
    • G02B13/006—Miniaturised objectives for electronic devices, e.g. portable telephones, webcams, PDAs, small digital cameras employing a special optical element at least one element being a compound optical element, e.g. cemented elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/22—Telecentric objectives or lens systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14—Details
    • G03B21/142—Adjusting of projection optics

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)

Abstract

本发明公开了一种双光路双远心光学系统，包括投影系统和成像系统，所述成像系统从物面到像面依次设置有共光路物镜组、分光棱镜、光阑一和成像物镜组，所述投影系统从照明系统到物面包括有照明系统、投影物镜组、光阑二、分光棱镜和共光路物镜组，所述投影系统将所述照明系统产生的调制条纹光投影到物面上，所述成像系统将物面反射的条纹光信息成像在像面上；本发明集成度高、精度高、分辨率高、远心度高、畸变小，可有效提高成像质量，可应用于光学镜头的高精度检测领域；另外，本发明中透镜所用的材料重复率较高，利于加工和节省成本。

Description

一种双光路双远心光学系统
技术领域
本发明涉及一种光学系统，具体地说，是涉及一种高精度、高远心度的双光路双远心光学系统，特别适用于基于SMT表面贴装技术的PCB板产品的机器视觉检测设备中，属于光学成像技术领域。
背景技术
在大规模的工业生产中，基于机器视觉的在线检测可以极大地提高生产效率和工业自动化水平。成像镜头作为检测系统的重要组成部分，其设计要求也越来越高。随着SMT封装技术的发展，使得PCB逐渐趋向于密集化与精细化，并提高了对SMT封装电路板生产质量的要求，这就使及时发现检测SMT封装电路板的缺陷尤为重要。传统的AOI检测系统仅限于对PCB板的表面二维检测，无法获得SMT封装电路纵向、深度方向的参数和尺寸信息，而基于结构光三维成像技术可以解决这一问题。结构光三维成像技术是三维重构技术中一种重要的方法。它使用投影仪对被测表面投影结构光，然后用相机捕捉图案，通过图案的扭曲形变，计算出表面形状。故本发明采用双光路来分别满足结构光三维成像技术的投影系统和成像系统。
双远心光路是将孔径光阑放置在既是前镜组的像方焦平面，又是后镜组的物方焦平面的位置，使主光线一定通过孔径中心，则物方和像方的主光线一定平行于光轴。这使其拥有了成像的高度也就是放大倍率不会产生变化的特性，有利于针对尺寸大小的检测。双远心镜头集合了物方远心和像方远心的优点，消除了物方畸变和像方畸变，可有效提高检测精度。
发明内容
针对现有技术存在的上述问题和需求，本发明的目的是提供一种双光路双远心光学系统，具有高精度、高远心度的优点。
一种双光路双远心光学系统，其特征在于：包括投影系统和成像系统，所述成像系统从物面到像面依次设置有共光路物镜组、分光棱镜、光阑一和成像物镜组，所述投影系统从照明系统到物面包括有照明系统、投影物镜组、光阑二、分光棱镜和共光路物镜组，所述成像系统和所述投影系统共用所述共光路物镜组和分光棱镜，所述投影系统将所述照明系统产生的调制条纹光投影到物面上，所述成像系统将物面反射的条纹光信息成像在像面上。
作为优选方案，所述共光路物镜组包括具有正光焦度第一透镜、具有正光焦度第二透镜、具有负光焦度的第三透镜、具有负光焦度的第四透镜和具有正光焦度的第五透镜，所述第二透镜和所述第三透镜为双胶合透镜。
作为进一步优选方案，所述第一透镜光焦度为0.00874～0.00966，所述第二透镜光焦度为0.002565～0.002835，所述第三透镜光焦度为-0.0147～-0.0133，所述第四透镜光焦度为-0.00483～-0.00437，所述第五透镜光焦度为0.00589～0.00651。
作为优选方案，所述投影物镜组包括具有正光焦度第六透镜、具有负光焦度第七透镜、具有正光焦度的第八透镜、具有正光焦度的第九透镜、平行平板第十镜片和平行平板第十一镜片，所述第八透镜为双胶合透镜。
作为进一步优选方案，所述第六透镜光焦度为0.03135～0.03465，所述第七透镜光焦度为-0.085155～-0.077045，所述第八透镜光焦度为0.017765～0.019635，所述第九透镜光焦度为0.03116～0.03444。
作为优选方案，所述成像物镜组包括具有负光焦度的第十二透镜、具有正光焦度的第十三透镜、具有负光焦度的第十四透镜、具有正光焦度的第十五透镜和具有正光焦度的第十六透镜，所述第十四透镜和所述第十五透镜为双胶合透镜。
作为进一步优选方案，所述第十二透镜光焦度为--0.00231～-0.00209，所述第十三透镜光焦度为0.007505～0.008295，所述第十四透镜光焦度为-0.00042～-0.00038，所述第十五透镜光焦度为0.005225～0.005775，所述第十六透镜光焦度为0.00456～0.00504。
作为优选方案，所述共光路物镜组的物方远心度为0.00516，所述投影物镜组的像方远心度为0.7，所述成像物镜组的像方远心度约为0.00482。
作为优选方案，所述双光路双远心光学系统的物方工作距离为160mm-180mm，像方工作距离为20mm，工作波段为450mm-650nm。
与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：
本发明所述双光路双远心光学系统集成度高、精度高、分辨率高、远心度高、畸变小，可有效提高成像质量，测得待测物体表面信息精准，为精密检测领域提供了技术保障，可应用于光学镜头的高精度检测领域；另外，本发明中透镜所用的材料重复率较高，利于加工和节省成本，具有突出的实质性特点和显著的进步性。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种双光路双远心光学系统的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的共光路物镜组结构示意图；
图3为本发明实施例提供的投影物镜组结构示意图；
图4为本发明实施例提供的成像物镜组结构示意图；
图5为本发明实施例提供的成像系统的点列图；
图6为本发明实施例提供的投影物镜组的点列图；
图7为本发明实施例提供的成像系统的场曲和畸变图；
图8为本发明实施例提供的投影物镜组的场曲和畸变图；
图9为本发明实施例提供的成像系统在80lp/mm的调制传递函数图；
图10为本发明实施例提供的投影物镜组在40lp/mm的调制传递函数图。
图中标号示意如下：1、共光路物镜组；11、第一透镜；12、第二透镜；13、第三透镜；14、第四透镜；15、第五透镜；2、分光棱镜；3、光阑一；4、成像物镜组；41、第十二透镜；42、第十三透镜；43、第十四透镜；44、第十五透镜；45、第十六透镜；5、照明系统；6、投影物镜组；61、第六透镜；62、第七透镜；63、第八透镜；64、第九透镜；65、第十镜片；66、第十一镜片；7、光阑二；8、电路板样品。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本发明的技术方案做进一步详细描述。
实施例1
结合图1至图10所示，本实施例提供的一种双光路双远心光学系统，所述双光路双远心光学系统包括投影系统和成像系统，所述成像系统从物面到像面依次设置有共光路物镜组1、分光棱镜2、光阑一3和成像物镜组4，所述投影系统从照明系统到物面包括有照明系统5、投影物镜组6、光阑二7、分光棱镜2和共光路物镜组1，所述成像系统和所述投影系统共用所述共光路物镜组1和所述分光棱镜2，所述投影系统将所述照明系统5产生的调制条纹光投影到物面上，所述成像系统将物面反射的条纹光信息成像在像面上；本实施例中，使用时，所述双光路双远心光学系统位于电路板样品7的正上方，所述照明系统5产生的调制条纹光通过所述投影系统中投影到电路板样品2上，调制条纹光经待测样品反射后，进入所述成像系统后，将携带物体表面信息的条纹光成像于图像传感器上。
在本实施例中，如图2所示，所述共光路物镜组1包括具有正光焦度第一透镜11、具有正光焦度第二透镜12、具有负光焦度的第三透镜13、具有负光焦度的第四透镜14和具有正光焦度的第五透镜15，所述第二透镜12和所述第三透镜13为双胶合透镜；所述第一透镜11光焦度为0.00874～0.00966，所述第二透镜12光焦度为0.002565～0.002835，所述第三透镜13光焦度为-0.0147～-0.0133，所述第四透镜14光焦度为-0.00483～-0.00437，所述第五透镜15光焦度为0.00589～0.00651。
在本实施例中，如图3所示，所述投影物镜组6包括具有正光焦度第六透镜61、具有负光焦度第七透镜62、具有正光焦度的第八透镜63、具有正光焦度的第九透镜64、平行平板第十镜片65和平行平板第十一镜片66，所述第八透镜63为双胶合透镜；所述第六透镜61光焦度为0.03135～0.03465，所述第七透镜62光焦度为-0.085155～-0.077045，所述第八透镜63光焦度为0.017765～0.019635，所述第九透镜64光焦度为0.03116～0.03444。
在本实施例中，如图3所示，所述成像物镜组4包括具有负光焦度的第十二透镜41、具有正光焦度的第十三透镜42、具有负光焦度的第十四透镜43、具有正光焦度的第十五透镜44和具有正光焦度的第十六透镜45，所述第十四透镜43和所述第十五透镜44为双胶合透镜；所述第十二透镜41光焦度为-0.00231～-0.00209，所述第十三透镜42光焦度为0.007505～0.008295，所述第十四透镜43光焦度为-0.00042～-0.00038，所述第十五透镜44光焦度为0.005225～0.005775，所述第十六透镜45光焦度为0.00456～0.00504。
在本实施例中，所述共光路物镜组1的物方远心度为0.00516，所述投影物镜组6的像方远心度为0.7，所述成像物镜组4的像方远心度约为0.00482。
在本实施例中，所述双光路双远心光学系统的物方工作距离为160mm-180mm，像方工作距离为20mm，工作波段为450mm-650nm。
如图5和图6所示，依次为所述成像系统和所述投影物镜组的光学弥散斑图，其中OBJ表示物方视场，IMA表示像方视场，单位均为毫米，AIRY RADIUS表示艾里斑半径，RMSRADIUS表示弥散斑均方根半径，单位均为微米。从图5可以得到，所述成像系统的艾里斑半径6.641m，弥散斑均方根半径中心视场4.058um，边缘视场5.947um。从图6可以得到所述投影物镜组6的艾里斑半径5.786um，弥散斑均方根半径中心视场2.881um，边缘视场5.549um，都小于艾里斑半径，轴上和轴外点能量集中度和像差矫正均较好。
如图7和图8所示，依次为成像系统和投影物镜组6的场曲和畸变图。畸变图的纵坐标为视场，横坐标为畸变值。所述成像系统全视场内畸变值小于0.05％，所述光路二全视场内畸变小于0.5％，可以看出成像系统和投影物镜组6畸变低。
如图9和图10所示，依次为成像系统和投影物镜组6的调制传递函数MTF，横坐标为分辨率，单位为线对/毫米，纵坐标为对比度，值域为0-1。其中，图9几乎各视场MTF平均值在分辨率80线对/毫米处的对比度大于0.3，整个MTF曲线较紧凑；图10各视场MTF平均值在分辨率40线对/毫米处的对比度大于0.6，整个MTF曲线紧凑，可以看出成像系统和投影物镜组6具有高分辨率。
实施例2
本实施例提供的一种双光路双远心光学系统，与实施例1的不同之处仅在于：所述第一透镜11光焦度为0.0092，所述第二透镜12光焦度为0.0027，所述第三透镜13光焦度为-0.0140，所述第四透镜14光焦度为-0.0046，所述第五透镜15光焦度为0.0062；所述第六透镜61光焦度为0.0330，所述第七透镜62光焦度为-0.0811，所述第八透镜63光焦度为0.0187，所述第九透镜64光焦度为0.0328；所述第十二透镜41光焦度为-0.0022，所述第十三透镜42光焦度为0.0079，所述第十四透镜43光焦度为-0.0004，所述第十五透镜44光焦度为0.0055，所述第十六透镜46光焦度为0.0048。
综上所述可见：本发明所述双光路双远心光学系统集成度高、精度高、分辨率高、远心度高、畸变小，可有效提高成像质量，测得待测物体表面信息精准，为精密检测领域提供了技术保障，可应用于光学镜头的高精度检测领域；另外，本发明中透镜所用的材料重复率较高，利于加工和节省成本。
最后有必要在此指出的是：以上所述仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种双光路双远心光学系统，其特征在于：包括投影系统和成像系统，所述成像系统从物面到像面依次设置有共光路物镜组、分光棱镜、光阑一和成像物镜组，所述投影系统从照明系统到物面包括有照明系统、投影物镜组、光阑二、分光棱镜和共光路物镜组，所述成像系统和所述投影系统共用所述共光路物镜组和分光棱镜，所述投影系统将所述照明系统产生的调制条纹光投影到物面上，所述成像系统将物面反射的条纹光信息成像在像面上。
2.根据权利要求1所述的双光路双远心光学系统，其特征在于：所述共光路物镜组包括具有正光焦度第一透镜、具有正光焦度第二透镜、具有负光焦度的第三透镜、具有负光焦度的第四透镜和具有正光焦度的第五透镜，所述第二透镜和所述第三透镜为双胶合透镜。
3.根据权利要求2所述的双光路双远心光学系统，其特征在于：所述第一透镜光焦度为0.00874～0.00966，所述第二透镜光焦度为0.002565～0.002835，所述第三透镜光焦度为-0.0147～-0.0133，所述第四透镜光焦度为-0.00483～-0.00437，所述第五透镜光焦度为0.00589～0.00651。
4.根据权利要求1所述的双光路双远心光学系统，其特征在于：所述投影物镜组包括具有正光焦度第六透镜、具有负光焦度第七透镜、具有正光焦度的第八透镜、具有正光焦度的第九透镜、平行平板第十镜片和平行平板第十一镜片，所述第八透镜为双胶合透镜。
5.根据权利要求4所述的双光路双远心光学系统，其特征在于：所述第六透镜光焦度为0.03135～0.03465，所述第七透镜光焦度为-0.085155～-0.077045，所述第八透镜光焦度为0.017765～0.019635，所述第九透镜光焦度为0.03116～0.03444。
6.根据权利要求1所述的双光路双远心光学系统，其特征在于：所述成像物镜组包括具有负光焦度的第十二透镜、具有正光焦度的第十三透镜、具有负光焦度的第十四透镜、具有正光焦度的第十五透镜和具有正光焦度的第十六透镜，所述第十四透镜和所述第十五透镜为双胶合透镜。
7.根据权利要求6所述的双光路双远心光学系统，其特征在于：所述第十二透镜光焦度为-0.00231～-0.00209，所述第十三透镜光焦度为0.007505～0.008295，所述第十四透镜光焦度为-0.00042～-0.00038，所述第十五透镜光焦度为0.005225～0.005775，所述第十六透镜光焦度为0.00456～0.00504。
8.根据权利要求1所述的双光路双远心光学系统，其特征在于：所述共光路物镜组的物方远心度为0.00516，所述投影物镜组的像方远心度为0.7，所述成像物镜组的像方远心度约为0.00482。
9.根据权利要求1所述的双光路双远心光学系统，其特征在于：所述双光路双远心光学系统的物方工作距离为160mm-180mm，像方工作距离为20mm，工作波段为450mm-650nm。
CN201910055291.7A 2019-01-21 2019-01-21 一种双光路双远心光学系统 Active CN109541802B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910055291.7A CN109541802B (zh) 2019-01-21 2019-01-21 一种双光路双远心光学系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910055291.7A CN109541802B (zh) 2019-01-21 2019-01-21 一种双光路双远心光学系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109541802A true CN109541802A (zh) 2019-03-29
CN109541802B CN109541802B (zh) 2021-03-16

Family

ID=65838258

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910055291.7A Active CN109541802B (zh) 2019-01-21 2019-01-21 一种双光路双远心光学系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109541802B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115128782A (zh) * 2022-07-06 2022-09-30 闽都创新实验室 一种高倍率长工作距同轴照明远心光学系统及镜头

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014115496A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Seiwa Optical Co Ltd 同軸照明変倍光学装置及びこれを用いた製造装置又は検査装置、並びに同軸照明変倍光学装置のテレセントリシティ補正方法
CN104360463A (zh) * 2014-12-05 2015-02-18 桂林电子科技大学 三远心同轴照明成像光学系统
CN104520669A (zh) * 2012-08-07 2015-04-15 卡尔蔡司工业测量技术有限公司 用于测量测量对象的测量装置、设备及方法
CN105890547A (zh) * 2016-06-03 2016-08-24 杭州汉振科技有限公司 三维轮廓测量仪
CN105953749A (zh) * 2016-06-21 2016-09-21 西安交通大学 一种光学三维形貌测量方法
CN106123807A (zh) * 2016-06-30 2016-11-16 苏州图锐智能科技有限公司 一种产品3d检测系统及相应检测方法
CN107144240A (zh) * 2017-05-12 2017-09-08 电子科技大学 一种检测玻璃面板表面缺陷的系统及方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104520669A (zh) * 2012-08-07 2015-04-15 卡尔蔡司工业测量技术有限公司 用于测量测量对象的测量装置、设备及方法
JP2014115496A (ja) * 2012-12-11 2014-06-26 Seiwa Optical Co Ltd 同軸照明変倍光学装置及びこれを用いた製造装置又は検査装置、並びに同軸照明変倍光学装置のテレセントリシティ補正方法
CN104360463A (zh) * 2014-12-05 2015-02-18 桂林电子科技大学 三远心同轴照明成像光学系统
CN105890547A (zh) * 2016-06-03 2016-08-24 杭州汉振科技有限公司 三维轮廓测量仪
CN105953749A (zh) * 2016-06-21 2016-09-21 西安交通大学 一种光学三维形貌测量方法
CN106123807A (zh) * 2016-06-30 2016-11-16 苏州图锐智能科技有限公司 一种产品3d检测系统及相应检测方法
CN107144240A (zh) * 2017-05-12 2017-09-08 电子科技大学 一种检测玻璃面板表面缺陷的系统及方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
王雅楠 等: ""双远心数字条纹投影的光学系统设计"", 《光学技术》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115128782A (zh) * 2022-07-06 2022-09-30 闽都创新实验室 一种高倍率长工作距同轴照明远心光学系统及镜头
CN115128782B (zh) * 2022-07-06 2024-02-02 闽都创新实验室 一种高倍率长工作距同轴照明远心光学系统及镜头

Also Published As

Publication number Publication date
CN109541802B (zh) 2021-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101900691B (zh) 玻璃板检查系统
CN103615980B (zh) 一种板件上圆孔参数的测量方法及系统
CN103115568B (zh) 一种光纤涂覆层几何参数的检测方法
CN109751964B (zh) 一种高精度非接触式管径测量方法及装置
CN112097642B (zh) 一种三维十字交叉孔位置度检测仪器及检测方法
CN110487214A (zh) 一种基于光度立体技术和结构光技术相结合的产品合格率的检测系统及其检测方法
CN108563003A (zh) 远心镜头
CN109541802A (zh) 一种双光路双远心光学系统
CN101086442A (zh) 光学非接触式三维形状测量仪
CN216595711U (zh) 一种用于3d测量的大视野多倍率双远心镜头
CN107607050A (zh) 激光测厚装置
CN208953254U (zh) 一种镜头检测装置
CN107561671B (zh) 一种双光路双远心镜头
CN104913731A (zh) 一种激光差动共焦显微测控系统
CN109632869A (zh) 基于机器视觉的耐火材料图像采集装置
CN2914032Y (zh) 光学非接触式三维形状测量仪
CN109579748B (zh) 微通道板平面度的检测装置及检测方法
CN116105638A (zh) 一种u型转台同轴度检测系统及检测方法
CN103309017B (zh) 傅里叶变换物镜
CN109596626A (zh) 高光磁环工件视觉检测方法
CN211205208U (zh) 一种应用于工业测量的投影仪装置
CN103105285B (zh) 基于暗影剔除的光纤面板极限分辨率测试方法及仪器
CN208569170U (zh) 远心镜头
CN110567391B (zh) 一种计算机图像测量系统及测量方法
CN207051150U (zh) 一种污染颗粒观察及测试装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant