CN109496050A - 一种分层等离子体产生装置 - Google Patents

一种分层等离子体产生装置 Download PDF

Info

Publication number
CN109496050A
CN109496050A CN201910003321.XA CN201910003321A CN109496050A CN 109496050 A CN109496050 A CN 109496050A CN 201910003321 A CN201910003321 A CN 201910003321A CN 109496050 A CN109496050 A CN 109496050A
Authority
CN
China
Prior art keywords
plasma generator
plasma
layer
layering
generator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910003321.XA
Other languages
English (en)
Inventor
刘汝兵
刘震
周严东
林麒
梁子长
许勇刚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xiamen University
Original Assignee
Xiamen University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xiamen University filed Critical Xiamen University
Priority to CN201910003321.XA priority Critical patent/CN109496050A/zh
Publication of CN109496050A publication Critical patent/CN109496050A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

一种分层等离子体产生装置,涉及一种等离子体发生装置,包括:至少一层等离子体发生器以及电源模块,所述电源模块与至少一层所述等离子发生器电连接;所述等离子体发生器设置在飞行器模型外且相邻层的所述等离子体发生器交错贴合布置;在强电场作用下,充入所述等离子体发生器内的气体放电产生等离子体,所述电源模块用于通过调节输出参数改变所述等离子体发生器的工作状态,以使得等离子体的参数按规律分布。本发明采用外包覆式的分层设计,可通过改变电源的输出功率实时调节各层等离子体参数,实现预期的分布规律;采用模块化设计,便于使用维护。

Description

一种分层等离子体产生装置
技术领域
本发明涉及一种分层的状态可调节的等离子体产生装置,尤其是涉及一种分层等离子体产生装置。
背景技术
等离子体是不同于固体、液体和气体的物质第四态,它占了整个宇宙的99%。最常见的等离子体是高温电离气体,如太阳、电弧、闪电等。等离子体在冶炼、喷涂、焊接、催化、表面处理等方面具有广泛应用。
在航天飞船和返回式卫星返回地球,再入大气层的过程中,飞行器高速飞行,由于气动加热,周围气体被电离,使得飞行器外表面包裹一层等离子体。该等离子体层屏蔽了飞行器与外界的通讯信号,使得飞行器与外界的联系中断,地面观测站无法掌控飞行器的工作状态,俗称为“黑障”。这给飞行器的安全带来巨大挑战。为此,需要在地面产生类似的等离子体来研究其特性,以解决航天飞行器返回大气层时的通信问题。
发明内容
本发明旨在提供一种结构简单、电子密度可调节的分层等离子体产生装置,已解决现有技术中无法在地面模拟飞行器再入大气层时探测其表面不同状态等离子体的分布,从而无法解决航天飞行器返回大气层时通信的问题。
本发明提供一种分层等离子体产生装置,包括:至少一层等离子体发生器以及电源模块,所述电源模块与至少一层所述等离子发生器电连接;所述等离子体发生器设置在飞行器模型外且相邻层的所述等离子体发生器交错贴合布置;
在强电场作用下,充入所述等离子体发生器内的气体放电产生等离子体,所述电源模块用于通过调节输出参数改变所述等离子体发生器的工作状态,以使得等离子体的参数按规律分布。
进一步的,至少一层所述等离子体发生器,包括:
钝头体、第一层等离子体发生器、第二层等离子体发生器以及第N(N为大于1的整数)层等离子体发生器;
所述钝头体用于模拟飞行器的外形,所述第一层等离子体发生器位于飞行器的内层并与所述钝头体外表面贴合,所述第二层等离子体发生器位于飞行器的外层并与所述第一层等离子体发生器交错贴合,所述第N层等离子体发生器位于飞行器的外层并与所述第N-1层等离子体发生器交错贴合。
进一步的,所述电源模块,包括:
第一数控电源模块、第二数控电源模块以及第N数控电源模块;
所述第一数控电源模块与所述第一层等离子体发生器的两个电极电连接;
所述第二数控电源模块与所述第二层等离子体发生器的两个电极点连接;
所述第N数控电源模块与所述第N层等离子体发生器的两个电极点连接。
进一步的,所述等离子体发生器采用:
封闭式管状等离子体发生器。
进一步的,所述封闭式管状等离子体发生器内充入的气体包括:
惰性气体、汞蒸气、或惰性气体与汞蒸气的混合气体
进一步的,所述封闭式管状等离子体发生器的外形包括:
环形、直线形、弧形、或螺旋形。
进一步的,所述封闭式管状等离子体发生器的管体采用:
石英玻璃、普通玻璃、或玻璃钢材料制成。
上述等离子体发生器均采用密闭管内气体放电产生等离子体,放电气体可选但不限于惰性气体(如氩气、氦气、氖气等)、汞蒸气、或惰性气体与汞蒸气的混合气体等。上述等离子体发生器的外形可选但不限于环形、直线形、弧形,或螺旋形等。上述封闭式管状等离子体发生器的管体可选但不限于石英玻璃、普通玻璃、玻璃钢等透波材料制成。上述电源模块可定制或采购市售产品。
本发明基本工作原理是:根据等离子体参数与电参数之间的对应关系,当电源接通后,调节电源模块输出电参数,改变相连接的等离子体发生器的工作状态,从而改变发生器中等离子体参数,如电子密度和电子温度等,使得各层等离子体参数按特定规律分布,从而可模拟再入飞行器表面不同状态的等离子体分布。
本发明的有益效果如下:
本发明涉及一种分层等离子体产生装置,应用场合广泛,特别是在需要大面积大体积非均匀分布等离子体的应用场合更能体现其优势,例如可以应用于模拟飞行器再入大气层时头部表面等离子体分布状态。
本发明的突出优点是:
(1)采用闭式环状玻璃管充气放电产生等离子体,且管内等离子体不仅电子密度比较高,而且分布比较均匀;
(2)采用外包覆式的分层设计,可通过改变电源的输出功率实时调节各层等离子体参数,实现预期的分布规律;
(3)采用电参数控制,可根据需要开启和关闭等离子体发生器,便于操控;
(4)采用模块化设计,扩展性强,使用方便,维护成本低。
附图说明
图1为本发明实施例示意图。
具体实施方式
下面结合附图介绍本申请实施例中提供的一个具体的分层等离子体产生装置。
本发明提供一种分层等离子体产生装置,包括:至少一层等离子体发生器以及电源模块,所述电源模块与至少一层所述等离子发生器电连接;所述等离子体发生器设置在飞行器模型外且相邻层的所述等离子体发生器交错贴合布置;
在强电场作用下,充入所述等离子体发生器内的气体放电产生等离子体,所述电源模块用于通过调节输出参数改变所述等离子体发生器的工作状态,以使得等离子体的参数按规律分布。
本发明基本工作原理是:根据等离子体参数与电参数之间的对应关系,当电源接通后,调节电源模块输出电参数,改变相连接的等离子体发生器的工作状态,从而改变发生器中等离子体参数,如电子密度和电子温度等,使得各层等离子体参数按特定规律分布,从而可模拟再入飞行器表面不同状态的等离子体分布。
需要说明的是,等离子体发生器均采用密闭管内气体放电产生等离子体,放电气体可选但不限于惰性气体(如氩气、氦气、氖气等)、汞蒸气、或惰性气体与汞蒸气的混合气体等。上述等离子体发生器的外形可选但不限于环形、直线形、弧形,或螺旋形等。上述封闭式管状等离子体发生器的管体可选但不限于石英玻璃、普通玻璃、玻璃钢等透波材料制成。上述电源模块可定制或采购市售产品。
参见图1,本发明提供一种双层管等离子体发生器,包括:钝头体1、第一层螺旋形等离子体发生器2、第二层螺旋形等离子体发生器3、第一数控电源模块4和第二数控电源模块5。钝头体1呈锥形,用于模拟返回式飞行器的外形,其中,钝头体1可采用金属材料加工,例如:铝、钢等材料制成;第一层螺旋形等离子体发生器2位于内层,第一螺旋形等离子体发生器2与钝头体1外表面贴合;第二层螺旋形等离子体发生器3位于最外层,与第一层螺旋形等离子体发生器2交错贴合。其中,本申请中提供的等离子体发生器选用闭式低气压汞蒸气放电管,第一层螺旋形等离子体发生器2的两个电极与第一数控电源模块4电相连,第二层螺旋形等离子体发生器3的两个电极与第二数控电源模块5电相连。
当电路接通后,通过调节第一电控电源模块5的输出功率为30W,使得第二层螺旋形等离子体发生器3中等离子体电子密度约为1011cm-3;调节第二数控电源模块4的输出功率为40W,使得第一层螺旋形等离子体发生器2中等离子体电子密度约为1012cm-3,这样,两层螺旋锥形等离子体发生器的电子密度呈梯度分布,可以在地面模拟飞行器再入大气层过程中的外表面等离子体分布状态。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (7)

1.一种分层等离子体产生装置,其特征在于,包括:至少一层等离子体发生器以及电源模块,所述电源模块与至少一层所述等离子体发生器电连接;所述等离子体发生器设置在飞行器模型外且相邻层的所述等离子体发生器交错贴合布置;
在强电场作用下,充入所述等离子体发生器内的气体放电产生等离子体,所述电源模块用于通过调节输出参数改变所述等离子体发生器的工作状态,以使得等离子体的参数按规律分布。
2.根据权利要求1所述的一种分层等离子体产生装置,其特征在于,至少一层所述等离子体发生器,包括:
钝头体、第一层等离子体发生器、第二层等离子体发生器以及第N(N为大于1的整数)层等离子体发生器;
所述钝头体用于模拟飞行器的外形,所述第一层等离子体发生器位于内层并与所述钝头体外表面贴合,所述第二层等离子体发生器位于外层并与所述第一层等离子体发生器交错贴合,所述第N层等离子体发生器位于外层并与所述第N-1层等离子体发生器交错贴合。
3.根据权利要求1所述的一种分层等离子体产生装置,其特征在于,所述电源模块,包括:
第一数控电源模块、第二数控电源模块以及第N数控电源模块;
所述第一数控电源模块与所述第一层等离子体发生器的两个电极电连接;
所述第二数控电源模块与所述第二层等离子体发生器的两个电极点连接;
所述第N数控电源模块与所述第N层等离子体发生器的两个电极点连接。
4.根据权利要求1所述的一种分层等离子体产生装置,其特征在于,所述等离子体发生器采用:
封闭式管状等离子体发生器。
5.根据权利要求4所述的一种分层等离子体产生装置,其特征在于,所述封闭式管状等离子体发生器内充入的气体包括:
惰性气体、汞蒸气、或惰性气体与汞蒸气的混合气体。
6.根据权利要求4所述的一种分层等离子体产生装置,其特征在于,所述封闭式管状等离子体发生器的外形包括:
环形、直线形、弧形、或螺旋形。
7.根据权利要求4所述的一种分层等离子体产生装置,其特征在于,所述封闭式管状等离子体发生器的管体采用:
石英玻璃、普通玻璃、或玻璃钢材料制成。
CN201910003321.XA 2019-01-03 2019-01-03 一种分层等离子体产生装置 Pending CN109496050A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910003321.XA CN109496050A (zh) 2019-01-03 2019-01-03 一种分层等离子体产生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910003321.XA CN109496050A (zh) 2019-01-03 2019-01-03 一种分层等离子体产生装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109496050A true CN109496050A (zh) 2019-03-19

Family

ID=65713795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910003321.XA Pending CN109496050A (zh) 2019-01-03 2019-01-03 一种分层等离子体产生装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109496050A (zh)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005057607A2 (de) * 2003-12-13 2005-06-23 Roth & Rau Ag Plasmaquelle zur erzeugung eines induktiv gekoppelten plasmas
CN1852631A (zh) * 2005-12-08 2006-10-25 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 多螺线管等离子体源
CN101515498A (zh) * 2008-02-18 2009-08-26 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种电感耦合线圈及采用该耦合线圈的等离子体处理装置
CN101789354A (zh) * 2010-02-11 2010-07-28 中微半导体设备(上海)有限公司 带扩散解离区域的等离子体处理装置
CN201869431U (zh) * 2010-11-26 2011-06-15 中微半导体设备(上海)有限公司 电感耦合型等离子体处理装置
US20130062311A1 (en) * 2011-09-13 2013-03-14 Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc, Shanghai Inductively coupled plasma processing apparatus and method for processing substrate with the same
CN108037173A (zh) * 2017-12-06 2018-05-15 上海无线电设备研究所 一种超高声速二维等离子体鞘套的测试系统及方法
CN108668422A (zh) * 2017-03-30 2018-10-16 北京北方华创微电子装备有限公司 一种等离子体产生腔室和等离子体处理装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005057607A2 (de) * 2003-12-13 2005-06-23 Roth & Rau Ag Plasmaquelle zur erzeugung eines induktiv gekoppelten plasmas
CN1852631A (zh) * 2005-12-08 2006-10-25 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 多螺线管等离子体源
CN101515498A (zh) * 2008-02-18 2009-08-26 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种电感耦合线圈及采用该耦合线圈的等离子体处理装置
CN101789354A (zh) * 2010-02-11 2010-07-28 中微半导体设备(上海)有限公司 带扩散解离区域的等离子体处理装置
CN201869431U (zh) * 2010-11-26 2011-06-15 中微半导体设备(上海)有限公司 电感耦合型等离子体处理装置
US20130062311A1 (en) * 2011-09-13 2013-03-14 Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc, Shanghai Inductively coupled plasma processing apparatus and method for processing substrate with the same
CN108668422A (zh) * 2017-03-30 2018-10-16 北京北方华创微电子装备有限公司 一种等离子体产生腔室和等离子体处理装置
CN108037173A (zh) * 2017-12-06 2018-05-15 上海无线电设备研究所 一种超高声速二维等离子体鞘套的测试系统及方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Liu et al. Numerical and experimental study on a pulsed-dc plasma jet
CN106068053B (zh) 一种可产生均匀连续放电或等离子体光子晶体的装置及方法
Xiong et al. Atmospheric-pressure plasma transfer across dielectric channels and tubes
Charles et al. Investigation of radiofrequency plasma sources for space travel
CN100358198C (zh) 一种用于实现大气压下空气中均匀辉光放电的方法
CN102774511A (zh) 基于螺旋波等离子体的航天器电位主动控制装置及其应用
WO1998052390A1 (en) Method and apparatus for a large volume plasma processor that can utilize any feedstock material
Li et al. Nonlocal electron kinetics and spatial transport in radio-frequency two-chamber inductively coupled plasmas with argon discharges
CN102307426A (zh) 一种等离子体发生装置
CN105848399A (zh) 一种辉光放电射流等离子体生成结构
Popov et al. Recombination of electrons with water cluster ions in the afterglow of a high-voltage nanosecond discharge
CN109496050A (zh) 一种分层等离子体产生装置
CN103545165A (zh) 一种基于冷等离子体射流的质谱离子化方法及离子源装置
Sun et al. Miniaturized rotating magnetic field–driven plasma system: proof-of-concept experiments
Bering et al. Electromagnetic ion cyclotron resonance heating in the VASIMR
CN208540234U (zh) 一种引入保护气的大气压非平衡等离子体射流装置
CN108770169B (zh) 一种引入保护气的大气压非平衡等离子体射流装置
Volodin et al. Optical emission study of plasma vortex rings at atmospheric pressure air
Dobkevicius Modelling and design of inductively coupled radio frequency gridded ion thrusters with an application to Ion Beam Shepherd type space missions
Ronis et al. Thrust generation of the cathodic arc in ambient air
Gamo et al. Influence of Nitrogen Ratio on Plasma Detachment during Combined Seeding with Hydrogen on Divertor Simulation Experiment of GAMMA 10/PDX
US8124013B1 (en) System and method for large scale atmospheric plasma generation
CN104144553B (zh) 一种光致电离等离子体发生器
He et al. Mode transition of microhollow cathode sustained discharge
Wang et al. The RF conditioning of vacuum feedthrough for high power ICRF heating in KSTAR

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20190319

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication