CN109270795A - 全内反射镜与套筒结合应用于曝光机光源模块 - Google Patents

全内反射镜与套筒结合应用于曝光机光源模块 Download PDF

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Abstract

本发明涉及全内反射镜与套筒结合应用于曝光机光源模块。一种曝光模块包含：发光组件及调光组件。发光组件包含多个排列设置于灯板的发光单元，各发光单元能发出紫外光。调光组件固定于灯板，其包含：多个光学透镜及套筒结构。各光学透镜的内部能全反射紫外光。套筒结构包含有多个贯穿套筒结构的通道，各通道两端的开口形成于套筒结构彼此相对的两侧。调光组件固定设置于灯板时，多个光学透镜的至少一部分对应位于多个通道中；形成各个通道的一内壁，能吸收部分通过光学透镜的紫外光，未被吸收的紫外光则由通道的一端射出。如此，由各通道射出的紫外光的出光角度，将可有效地被缩小，而更集中于中心轴线的位置。

Description

全内反射镜与套筒结合应用于曝光机光源模块
技术领域
本发明涉及一种曝光模块及调光组件，特别是一种适用于紫外光曝光装置中的曝光模块及调光组件。
背景技术
现有的电路板曝光装置，存在有照射于电路板上的曝光光束不集中，而导致曝光的解晰度不佳，从而导致电路板后续作业程序的良率不佳的问题。因此，对于相关技术人员而言，如何改善电路板的曝光装置，以提升曝光的解晰度，是极需要被改善的问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种曝光模块及调光组件，用改善现有技术中，相关曝光装置的曝光光束不集中的问题。
为了实现上述目的，本发明提供一种曝光模块，其包含：一发光组件及一调光组件。发光组件包含多个发光单元。多个发光单元排列设置于一灯板，各个发光单元能发出一紫外光。调光组件可拆卸地固定设置于灯板，调光组件包含：多个光学透镜及一套筒结构。各个光学透镜的内部能全反射紫外光。套筒结构包含有多个通道，各个通道分别贯穿套筒结构设置，且各个通道两端的开口，形成于套筒结构彼此相对的两侧。其中，调光组件固定设置于灯板时，多个光学透镜的至少一部分对应位于多个通道中；形成各个通道的一内壁，能吸收部分通过光学透镜的紫外光，未被吸收的紫外光则由通道的一端射出。
优选地，各个所述内壁具有一抵顶部，所述抵顶部能限制相对应的所述光学透镜于所述通道中的活动范围。
优选地，各个所述内壁具有一吸光层，所述吸光层能吸收所述紫外光。
优选地，各个所述发光单元所发出的所述紫外光通过所述光学透镜后的发光角度，小于各个所述发光单元的发光角度；各个所述发光单元所发出的所述紫外光，通过所述光学透镜及所述通道后的发光角度，小于各个所述发光单元所发出的所述紫外光通过所述光学透镜后的发光角度。
为了实现上述目的，本发明还提供一种调光组件，其适用于一紫外光曝光装置中，紫外光曝光装置包含有多个发光单元，调光组件包含一套筒结构，套筒结构包含有多个通道，各个通道分别贯穿套筒结构设置，且各个通道两端的开口，形成于套筒结构彼此相对的两侧壁；多个通道能容置多个发光单元的至少一部分，形成各个通道的一内壁能吸收相对应的发光单元所发出的紫外光的一部分。
优选地，所述调光组件包含有多个光学透镜，各个所述光学透镜的内部能全反射所述紫外光，多个所述光学透镜的至少一部分对应位于多个所述通道中；各个所述内壁具有一抵顶部，所述抵顶部能限制相对应的所述光学透镜于所述通道中的活动范围。
优选地，通过各个所述通道的所述紫外光的发光角度，小于通过各个所述光学透镜的所述紫外光的发光角度。
优选地，各个所述内壁具有一吸光层，所述吸光层能吸收所述紫外光。
为了实现上述目的，本发明更提供一种曝光模块，其适用于一紫外光曝光装置中，紫外光曝光装置包含有至少一发光单元，发光单元能发出一紫外光，曝光模块包含一调光组件，调光组件用以套设于发光单元，调光组件能吸收发光单元所发出的部分紫外光，而缩小紫外光的发光角度。
优选地，所述调光组件包含有至少一光学透镜，所述光学透镜彼此相对的两端分别定义为一入光端及一出光端，所述光学透镜的外径由所述出光端至所述入光端逐渐缩小，所述光学透镜于所述入光端内凹形成有一凹槽，形成所述凹槽的底壁向远离所述出光端的方向延伸形成有一凸出部，所述凹槽能对应容置所述发光单元；其中，所述发光单元发出的所述紫外光，能通过形成所述凹槽的侧壁及所述凸出部进入所述光学透镜中，并经全反射后由所述出光端射出。
本发明的有益效果可以在于：透过调光组件可以有效地调整发光单元所发出的紫外光的发光角度，借此可使曝光模块所发出的紫外光更集中地照射于欲曝光的构件(例如电路板)。
附图说明
图1为本发明的曝光模块的分解示意图。
图2为本发明的曝光模块的局部组装及局部剖视的示意图。
图3为本发明的曝光模块的组合示意图。
图4为图3的剖视图。
图5为图4的正视图。
图6为本发明的曝光模块的光学透镜的剖视图。
图7A为本发明的曝光模块的发光组件的发光角度的示意图。
图7B为本发明的曝光模块的发光组件设置有光学透镜的发光角度的示意图。
图7C为本发明的曝光模块的发光角度的示意图。
具体实施方式
请一并参阅图1至图3，其为本发明的曝光模块的分解及组装示意图。如图所示，曝光模块1包含一发光组件10及一调光组件20。发光组件10包含有一灯板11及多个发光单元12；多个发光单元12彼此间隔地固定设置于灯板11上，且各个发光单元12能发出紫外光。在实际应用中，所述紫外光的波长可以是介于300nm～500nm；较佳地，可以是介于365nm～435nm。
所述灯板11是用以固定发光单元12的构件，其可以是依据需求为各式的电路板；于实际应用中，灯板11上可依据需求设置有不同电子构件，不局限于仅设置有发光单元12。发光单元12的数量及其所发出的紫外光的种类，可依据需求加以选择，于此不加以限制；发光单元12设置于灯板11上的排列方式，不以图中所示为限。
调光组件20包含有多个光学透镜21及一套筒结构22。多个光学透镜21对应设置于多个发光单元12远离灯板11的一侧，各个光学透镜21的内部能全反射，进入光学透镜21内部的紫外光。在实际应用中，所述光学透镜21可以是以溶胶-凝胶法(Sol-Gel)所制作的石英透镜。
具体来说，请先参阅图6，各个光学透镜21彼此相对的两端分别定义为一入光端21a及一出光端21b，光学透镜21的外径由出光端21b至入光端21a逐渐缩小，且光学透镜21于入光端21a可以是内凹形成有一凹槽21c，而形成凹槽21c的底壁可以是向远离出光端21b的方向延伸形成有一凸出部211。
如图4至图6所示，当各个光学透镜21设置于发光单元12的一侧时，所述凹槽21c能对应容置发光单元12，而发光单元12的中心轴线可以是大致对应于凸出部211的中心轴线(于本实施例中是以发光单元12及凸出部211具有共同的中心轴线C)，且发光单元12的外表面可以是不与凸出部211相互接触；如此，发光单元12沿其中心轴线C所发出的紫外光，则大致能通过凸出部211进入光学透镜21中，并大致直接由出光端21b射出；发光单元12所发出的偏离中心轴线C的紫外光，则能大致能通过形成凹槽21c的侧壁212进入光学透镜21中，并经光学透镜21内部全反射后，由出光端21b射出。关于凸出部211的外周缘弧度设计、形成凹槽21c的侧壁212的倾斜度设计及凹槽21c的深度等，皆可依据实际需求加以变化，图中所示仅为其中一示范态样，不以此为限。
请一并参阅图2、图4及图5，套筒结构22包含有多个通道22a，各个通道22a分别贯穿套筒结构22设置，且各个通道22a彼此间不相互连通，而各个通道22a两端的开口22b，对应形成于套筒结构22彼此相对的两侧。套筒结构22固定设置于灯板11上，而多个通道22a则是对应于多个光学透镜21设置。较佳地，各个光学透镜21的至少一部分可以是对应设置于通道22a中，而各个发光单元12所发出的大部分紫外光，将可先后通过光学透镜21及通道22a，而由通道22a的一端射出。
在实际应用中，套筒结构22与灯板11可以是具有相对的锁固结构(例如穿孔、螺孔)，而套筒结构22及灯板11可以是透过多个锁固件(例如螺丝)，可拆卸地相互固定；或者，套筒结构22可以是利用胶合、卡合等方式，直接固定设置于灯板11上，于此不加以限制。在实际应用中，形成各个通道22a的内壁221，可以是具有一抵顶部2211，所述抵顶部2211可以是由形成所述通道22a的内壁向中心轴线凸出的结构，所述抵顶部2211能限制相对应的光学透镜21于通道22a中的活动范围，借此使光学透镜21稳固地设置于通道22a中。在不同的实施例中，各个光学透镜21亦可以是直接固定设置于灯板11上，例如是利用胶合、卡合等方式固定，或者灯板11邻近于各个发光单元12的周缘可以是设置有相关固定结构，用以固定光学透镜21。在另一实施例中，多个光学透镜21也可以是一并设置于一基座(图未示)中，而多个光学透镜21设置于所述基座后，基座则可再与套筒结构22及灯板11相互固定。
在具体的应用中，套筒结构22可以是矩形立方体，而各个通道22a可以是直立地形成于套筒结构22中，且多个通道22a的中心轴线C可以是彼此相互平行，各个通道22a可以是呈现为圆柱状。当然，在不同的实施例中，各个通道22a所呈现的外型，不局限于图中所绘示的圆柱状，可依据需求加以变化，例如可以是六角柱状、方形柱状等。多个通道22a于套筒结构22中的排列方式，较佳地可以是如图中所绘示的方式进行排列，如此可在单位体积中设置有最多的通道22a。
在本实施例中，各个通道22a的中心轴线C与灯板11设置有发光单元12的表面的夹角可以是大致为90度，但不以此为限，所述夹角可以依据发光单元12的发光方向进行调整；换言之，在发光单元12的主要发光方向不垂直于灯板11的表面时，各个通道22a可以对应是倾斜地设置于套筒结构22中。
特别说明的是，形成各个通道22a的内壁221是可以吸收紫外光，而通过光学透镜21射出的紫外光的部分，则可被内壁221吸收，其余的紫外光则能通过通道22a，而由通道22a相反于设置有光学透镜21的一端射出。在实际实施中，套筒结构22可以是由可吸收紫外光的材质一体成形地制作而成，或者，可以是仅于形成各个通道22a的内壁221设置有一能吸收紫外光的吸光层(图未示)，其可依据需求加以变化。
更具体来说，各个发光单元12及相对应的光学透镜21及通道22a可以是具有共同(或是大致相互平行)的中心轴线，而发光单元12所发出的大致平行于中心轴线C的紫外光，将可以直接通过光学透镜21及通道22a，而由通道22a的一端射出；发光单元12所发出的部分不平行于中心轴线C的紫外光，将可以通过光学透镜21内部的全反射，而大致以大致平行于中心轴线的路径，通过通道22a射出；通过光学透镜21以大角度偏离中心轴线的路径射出的紫外光，则会被形成通道22a的内壁221吸收，借此，透过光学透镜21及通道22a的相互配合，可以使由通道22a的一端射出的紫外光，其大致是集中于中心轴线，借此可有效地提升曝光模块的曝光分辨率，亦即，现有的曝光模块所发出紫外光，由于具有过多的偏离中心轴线的紫外光(俗称杂散光)，而该些杂散光将会降低曝光分辨率。
换言之，请参阅图7A、图7B及图7C，图7A为发光单元12的发光角度的示意图；图7B为发光单元12设置有光学透镜21后，紫外光通过光学透镜21的发光角度的示意图。如图7A及图7B所示，发光单元12未设置有光学透镜21时的发光角度θ1是大于发光单元12设置有光学透镜21后，通过光学透镜21的紫外光的发光角度θ2，即，发光单元12设置有光学透镜21后，所发出的紫外光的发光角度将可有效被缩小，而可更集中于中心轴线。
如图7B及图7C所示，在未设置有套筒结构22的状态下(如图7B所示)，通过光学透镜21所射出的紫外光的发光角度θ2，是大于设置有光学透镜21及套筒结构22的发光单元12，通过套筒结构22所发出的紫外光的发光角度θ3。换言之，本发明的曝光模块1透过光学透镜21及套筒结构22的设置，可以有效地使各个发光单元12所发出的紫外光的发光角度缩小，而使紫外光集中于邻近于中心轴线C的位置。在实际量测实验中，图7A中的发光角度θ1大致为120度，图7B中的发光角度θ2大致被缩小至6～22度，而图7C中的发光角度θ3则被缩小至3～5度。
综合上述，相较于现有的紫外光曝光模块，本发明的曝光模块透过调光组件，可以使发出的紫外光更集中于中心轴线的位置，且具有更少量的杂散光，而具有更好的曝光分辨率。

Claims (10)

1.一种曝光模块，其特征在于，所述曝光模块包含：
一发光组件，其包含：
多个发光单元，其排列设置于一灯板，各个所述发光单元能发出一紫外光；以及
一调光组件，其可拆卸地固定设置于所述灯板，所述调光组件包含：
多个光学透镜，各个所述光学透镜的内部能全反射所述紫外光；及
一套筒结构，其包含有多个通道，各个所述通道分别贯穿所述套筒结构设置，且各个所述通道两端的开口，形成于所述套筒结构彼此相对的两侧；
其中，所述调光组件固定设置于所述灯板时，多个所述光学透镜的至少一部分对应位于多个所述通道中；形成各个所述通道的一内壁，能吸收部分通过所述光学透镜的所述紫外光，未被吸收的所述紫外光则由所述通道的一端射出。
2.依据权利要求1所述的曝光模块，其特征在于，各个所述内壁具有一抵顶部，所述抵顶部能限制相对应的所述光学透镜于所述通道中的活动范围。
3.依据权利要求1所述的曝光模块，其特征在于，各个所述内壁具有一吸光层，所述吸光层能吸收所述紫外光。
4.依据权利要求1至3中任一项所述的曝光模块，其特征在于，各个所述发光单元所发出的所述紫外光通过所述光学透镜后的发光角度，小于各个所述发光单元的发光角度；各个所述发光单元所发出的所述紫外光，通过所述光学透镜及所述通道后的发光角度，小于各个所述发光单元所发出的所述紫外光通过所述光学透镜后的发光角度。
5.一种调光组件，其特征在于，所述调光组件适用于一紫外光曝光装置中，所述紫外光曝光装置包含有多个发光单元，所述调光组件包含一套筒结构，所述套筒结构包含有多个通道，各个所述通道分别贯穿所述套筒结构设置，且各个所述通道两端的开口，形成于所述套筒结构彼此相对的两侧壁；多个所述通道能容置多个所述发光单元的至少一部分，形成各个所述通道的一内壁能吸收相对应的所述发光单元所发出的紫外光的一部分。
6.依据权利要求5所述的调光组件，其特征在于，所述调光组件包含有多个光学透镜，各个所述光学透镜的内部能全反射所述紫外光，多个所述光学透镜的至少一部分对应位于多个所述通道中；各个所述内壁具有一抵顶部，所述抵顶部能限制相对应的所述光学透镜于所述通道中的活动范围。
7.依据权利要求6所述的调光组件，其特征在于，通过各个所述通道的所述紫外光的发光角度，小于通过各个所述光学透镜的所述紫外光的发光角度。
8.依据权利要求5所述的调光组件，其特征在于，各个所述内壁具有一吸光层，所述吸光层能吸收所述紫外光。
9.一种曝光模块，其特征在于，所述曝光模块适用于一紫外光曝光装置中，所述紫外光曝光装置包含有至少一发光单元，所述发光单元能发出一紫外光，所述曝光模块包含一调光组件，所述调光组件用以套设于所述发光单元，所述调光组件能吸收所述发光单元所发出的部分所述紫外光，而缩小所述紫外光的发光角度。
10.依据权利要求9所述的曝光模块，其特征在于，所述调光组件包含有至少一光学透镜，所述光学透镜彼此相对的两端分别定义为一入光端及一出光端，所述光学透镜的外径由所述出光端至所述入光端逐渐缩小，所述光学透镜于所述入光端内凹形成有一凹槽，形成所述凹槽的底壁向远离所述出光端的方向延伸形成有一凸出部，所述凹槽能对应容置所述发光单元；其中，所述发光单元发出的所述紫外光，能通过形成所述凹槽的侧壁及所述凸出部进入所述光学透镜中，并经全反射后由所述出光端射出。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN204358586U (zh) * 2014-12-25 2015-05-27 惠州比亚迪电池有限公司 一种新型抬头显示仪及其光源系统
CN105045041A (zh) * 2014-04-17 2015-11-11 株式会社菲尔光学 Led光源曝光装置
CN205003416U (zh) * 2015-09-14 2016-01-27 方维行 液晶显示屏背光源装置
CN205862098U (zh) * 2016-07-18 2017-01-04 深圳市兆方智能科技有限公司 一种用于曝光精密外层线路的uv‑led平行光光源箱

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105045041A (zh) * 2014-04-17 2015-11-11 株式会社菲尔光学 Led光源曝光装置
CN204358586U (zh) * 2014-12-25 2015-05-27 惠州比亚迪电池有限公司 一种新型抬头显示仪及其光源系统
CN205003416U (zh) * 2015-09-14 2016-01-27 方维行 液晶显示屏背光源装置
CN205862098U (zh) * 2016-07-18 2017-01-04 深圳市兆方智能科技有限公司 一种用于曝光精密外层线路的uv‑led平行光光源箱

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Application publication date: 20190125

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