CN109116517B - 一种高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,包括由物端到像面依次设置的第一透镜G1、第二透镜G2、第三透镜G3、第四透镜G4、第五透镜G5、第六透镜G6、第七透镜G7、第八透镜G8,第三透镜G3和第四透镜G4胶合形成第一胶合透镜组U1,第五透镜G5和第六透镜G6胶合形成第二胶合透镜组U2;光学系统的焦距为f,第一胶合透镜组的焦距为fU1,第二胶合透镜组的焦距为fU2,它们分别满足关系式:0.5<|fU1/f|<1,0.5<|fU2/f|<1,本发明具有高解析度、大靶面、高倍率、低畸变的特点,还能够匹配像元尺寸为10um的大靶面相机,充分发挥相机的性能。
Description
技术领域
本发明属于机器视觉技术领域,具体涉及一种高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头。
背景技术
机器视觉系统的作用在于使用机器对目标件进行测量、判断和检测缺陷等,来减小或者是消除人为操作时的误判,提高测量精度和稳定性。其核心原理是通过机器视觉镜头将光信号传递给相机,再由相机将光信号转化为电信号给图像处理系统,图像处理系统对图像信息进行各种运算来抽取目标的特征,进而根据判别的结果来控制现场的设备动作。
一方面,在工业自动化的大背景下,机器视觉需求与日俱增,特别是在电子制造、食品包装和精密测量等行业中,对线扫机器视觉镜头的放大倍率、解析度、光学畸变等要求越来越高。另一方面,随着芯片技术不断的进步,芯片尺寸越来越大。因此,与之匹配的线扫镜头分辨率要进一步提高,可覆盖的最大靶面尺寸也需进一步扩大以满足需求。然而国内现有的线扫机器视觉镜头普遍存在解析度不够高,与小像元大靶面的成像芯片存在匹配间隙,无法充分发挥出相机的性能,因此对于高解析度大靶面线扫机器视觉镜头的研发更为迫切。
发明内容
本发明的目的在于:针对现有技术的不足,而提供的一种高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,该视觉镜头具有高解析度、大靶面、高倍率、低畸变的特点,还能够匹配像元尺寸为10μm的大靶面相机。
为实现上述的目的,本发明采用以下技术方案:
一种高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,包括机械系统及安装于所述机械系统内部的光学系统,所述光学系统包括由物端到像面依次设置的具有正光焦度、弯月结构的第一透镜G1,具有正光焦度、弯月结构的第二透镜G2,具有正光焦度、双凸结构的第三透镜G3,具有负光焦度、双凹结构的第四透镜G4,具有负光焦度、双凹结构的第五透镜G5,具有正光焦度、双凸结构的第六透镜G6,具有正光焦度、弯月结构的第七透镜G7,具有正光焦度、弯月结构的第八透镜G8,所述第三透镜G3和所述第四透镜G4胶合形成具有负光焦度的第一胶合透镜组U1,所述第五透镜G5和所述第六透镜G6胶合形成具有负光焦度的第二胶合透镜组U2;所述光学系统的焦距为f,所述第一胶合透镜组的焦距为fU1,所述第二胶合透镜组的焦距为fU2,它们分别满足关系式:0.5<|fU1/f|<1,0.5<|fU2/f|<1。
作为本发明所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头的改进,所述第一透镜G1的前表面顶点到所述第八透镜G8的距离L与光学系统的焦距f,满足关系式:0.6<|L/f|<1。
作为本发明所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头的改进,所述光学系统的光学后截距BFL与所述光学系统的焦距f,满足关系式:|BFL/f|>2。
作为本发明所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头的改进,所述光学系统的半像高y’与所述光学系统的焦距f,满足关系式:0.4<|y’/f|<0.6。
作为本发明所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头的改进,所述第一透镜G1的折射率为n1,阿贝数为v1,所述第三透镜G3的折射率为n3,阿贝数为v3,其折射率n1和n3均满足关系式:1.55<n1、n3<1.65,其阿贝数v1和v3均满足关系式:50<v1、v3<70。
作为本发明所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头的改进,所述第二透镜G2的折射率为n2,阿贝数为v2,其折射率满足关系式:1.70<n2<1.90,其阿贝数v2满足关系式:20<v2<30。
作为本发明所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头的改进,所述第四透镜G4的折射率为n4,阿贝数为v4,其折射率满足关系式:1.55<n4<1.70,其阿贝数v4满足关系式:25<v4<45。
作为本发明所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头的改进,所述第五透镜G5的折射率为n5,阿贝数为v5,所述第七透镜G7的折射率为n7,阿贝数为v7,其折射率n5和n7均满足关系式:1.75<n5、n7<1.95,其阿贝数v5和v7均满足关系式:30<v5、v7<45。
作为本发明所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头的改进,所述第六透镜G6的折射率为n6,阿贝数为v6,所述第八透镜G8的折射率为n8,阿贝数为v8,其折射率n6和n8均满足关系式:1.40<n6、n8<1.60,其阿贝数v6和v8均满足关系式:60<v6、v8<85。
作为本发明所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头的改进,还包括光阑,所述光阑位于所述第四透镜G4和所述第五透镜G5之间,所述光阑孔径为圆孔,所述光阑的光圈在F8.6~F64范围内可调。
本发明的有益效果在于:通过上述结构实现了焦距为116mm的高倍率大靶面高解析度的线扫机器视觉镜头的光学系统,最大成像面为φ126mm,其分辨率可达50lp/mm,能匹配像元尺寸为10μm的大靶面相机,对应的最大成像芯片时,其像素可达到24K像素,全视场光学畸变低于0.008%;采用整组对焦方式,同时其通光孔径也可灵活调节。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本发明的一部分,本发明的示意性实施方式及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1为本发明的结构示意图;
图2为本发明中光学系统的光路图;
图3为本发明中光学系统的MTF图。
其中,0-光学系统;1-光阑。
具体实施方式
如在说明书及权利要求当中使用了某些词汇来指称特定组件。本领域技术人员应可理解,硬件制造商可能会用不同名词来称呼同一个组件。本说明书及权利要求并不以名称的差异来作为区分组件的方式,而是以组件在功能上的差异来作为区分的准则。如在通篇说明书及权利要求当中所提及的“包含”为一开放式用语,故应解释成“包含但不限定于”。“大致”是指在可接受的误差范围内,本领域技术人员能够在一定误差范围内解决所述技术问题,基本达到所述技术效果。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
以下结合附图对本发明作进一步详细说明,但不作为对本发明的限定。
如图1~3所示,一种高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,包括机械系统及安装于机械系统内部的光学系统0,光学系统0包括由物端到像面依次设置的具有正光焦度、弯月结构的第一透镜G1,具有正光焦度、弯月结构的第二透镜G2,具有正光焦度、双凸结构的第三透镜G3,具有负光焦度、双凹结构的第四透镜G4,具有负光焦度、双凹结构的第五透镜G5,具有正光焦度、双凸结构的第六透镜G6,具有正光焦度、弯月结构的第七透镜G7,具有正光焦度、弯月结构的第八透镜G8,第三透镜G3和第四透镜G4胶合形成具有负光焦度的第一胶合透镜组U1,第五透镜G5和第六透镜G6胶合形成具有负光焦度的第二胶合透镜组U2;光学系统0的焦距为f,第一胶合透镜组的焦距为fU1,第二胶合透镜组的焦距为fU2,它们分别满足关系式:0.5<|fU1/f|<1,0.5<|fU2/f|<1。
优选的,第一透镜G1的前表面顶点到第八透镜G8的距离L与光学系统的焦距f,满足关系式:0.6<|L/f|<1。
优选的,光学系统0的光学后截距BFL与光学系统0的焦距f,满足关系式:|BFL/f|>2。
优选的,光学系统0的半像高y’与光学系统0的焦距f,满足关系式:0.4<|y’/f|<0.6。
优选的,第一透镜G1的折射率为n1,阿贝数为v1,第三透镜G3的折射率为n3,阿贝数为v3,其折射率n1和n3均满足关系式:1.55<n1、n3<1.65,其阿贝数v1和v3均满足关系式:50<v1、v3<70。
优选的,第二透镜G2的折射率为n2,阿贝数为v2,其折射率满足关系式:1.70<n2<1.90,其阿贝数v2满足关系式:20<v2<30。
优选的,第四透镜G4的折射率为n4,阿贝数为v4,其折射率满足关系式:1.55<n4<1.70,其阿贝数v4满足关系式:25<v4<45。
优选的,第五透镜G5的折射率为n5,阿贝数为v5,第七透镜G7的折射率为n7,阿贝数为v7,其折射率n5和n7均满足关系式:1.75<n5、n7<1.95,其阿贝数v5和v7均满足关系式:30<v5、v7<45。
优选的,第六透镜G6的折射率为n6,阿贝数为v6,第八透镜G8的折射率为n8,阿贝数为v8,其折射率n6和n8均满足关系式:1.40<n6、n8<1.60,其阿贝数v6和v8均满足关系式:60<v6、v8<85。
优选的,还包括光阑1,光阑1位于第四透镜G4和第五透镜G5之间,光阑1孔径为圆孔,光阑1的光圈在F8.6~F64范围内可调,当物距发生变化时,透镜G1到G8整组作为调焦组前后移动。
在本实施例中,光学系统数据如下:
在本实例中,光学系统的焦距f为116mm,最大光圈为F#=8.6,第一胶合透镜组的焦距fU1=-91mm,第二胶合透镜组的焦距fU2=-62mm,第一透镜G1的前表面顶点到第八透镜G8的距离L=85.4mm,光学后截距BFL=280mm,半像高y’=63mm。
图3所示为本实施例的MTF曲线图,全视场在100lp/mm的MTF值>0.3,理论分辨精度可达10um,实现光学系统的高分辨成像。
通过上述结构实现了焦距为116mm的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头的光学系统,最大成像面为φ126mm,其分辨率可达50lp/mm,即对应的最大成像芯片时,其像素可达到24K像素,全视场光学畸变低于0.008%;采用整组对焦方式,能满足不同的应用需求,同时其通光孔径也可灵活调节。
上述说明示出并描述了本发明的若干优选实施方式,但如前所述,应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式,不应看作是对其他实施方式的排除,而可用于各种其他组合、修改和环境,并能够在本文所述发明构想范围内,通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围,则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。
Claims (10)
1.一种高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,其特征在于:包括机械系统及安装于所述机械系统内部的光学系统(0),所述光学系统(0)包括由物端到像面依次设置的具有正光焦度、弯月结构的第一透镜G1,具有正光焦度、弯月结构的第二透镜G2,具有正光焦度、双凸结构的第三透镜G3,具有负光焦度、双凹结构的第四透镜G4,具有负光焦度、双凹结构的第五透镜G5,具有正光焦度、双凸结构的第六透镜G6,具有正光焦度、弯月结构的第七透镜G7,具有正光焦度、弯月结构的第八透镜G8,所述第三透镜G3和所述第四透镜G4胶合形成具有负光焦度的第一胶合透镜组U1,所述第五透镜G5和所述第六透镜G6胶合形成具有负光焦度的第二胶合透镜组U2;所述光学系统(0)的焦距为f,所述第一胶合透镜组的焦距为fU1,所述第二胶合透镜组的焦距为fU2,它们分别满足关系式:0.5<|fU1/f|<1,0.5<|fU2/f|<1。
2.根据权利要求1所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,其特征在于:所述第一透镜G1的前表面顶点到所述第八透镜G8的距离L与光学系统的焦距f,满足关系式:0.6<|L/f|<1。
3.根据权利要求1所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,其特征在于:所述光学系统(0)的光学后截距BFL与所述光学系统(0)的焦距f,满足关系式:|BFL/f|>2。
4.根据权利要求1所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,其特征在于:所述光学系统(0)的半像高y’与所述光学系统(0)的焦距f,满足关系式:0.4<|y’/f|<0.6。
5.根据权利要求1所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,其特征在于:所述第一透镜G1的折射率为n1,阿贝数为v1,所述第三透镜G3的折射率为n3,阿贝数为v3,其折射率n1和n3均满足关系式:1.55<n1、n3<1.65,其阿贝数v1和v3均满足关系式:50<v1、v3<70。
6.根据权利要求1所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,其特征在于:所述第二透镜G2的折射率为n2,阿贝数为v2,其折射率满足关系式:1.70<n2<1.90,其阿贝数v2满足关系式:20<v2<30。
7.根据权利要求1所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,其特征在于:所述第四透镜G4的折射率为n4,阿贝数为v4,其折射率满足关系式:1.55<n4<1.70,其阿贝数v4满足关系式:25<v4<45。
8.根据权利要求1所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,其特征在于:所述第五透镜G5的折射率为n5,阿贝数为v5,所述第七透镜G7的折射率为n7,阿贝数为v7,其折射率n5和n7均满足关系式:1.75<n5、n7<1.95,其阿贝数v5和v7均满足关系式:30<v5、v7<45。
9.根据权利要求1所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,其特征在于:所述第六透镜G6的折射率为n6,阿贝数为v6,所述第八透镜G8的折射率为n8,阿贝数为v8,其折射率n6和n8均满足关系式:1.40<n6、n8<1.60,其阿贝数v6和v8均满足关系式:60<v6、v8<85。
10.根据权利要求1所述的高倍率大靶面高解析度线扫机器视觉镜头,其特征在于:还包括光阑(1),所述光阑(1)位于所述第四透镜G4和所述第五透镜G5之间,所述光阑(1)孔径为圆孔,所述光阑(1)的光圈在F8.6~F64范围内可调。
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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