CN109112592A - 一种镀铬工艺方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种镀铬工艺方法，涉及一种镀铬方法领域。包括步骤（1）将待镀工件进行表面精加工处理，（2）将待镀件放入镀铬溶液中，（3）将镀铬溶液中的待镀件进行电镀处理，（4）将电镀处理后的镀件放入密闭空间中，（5）将镀件进行抛光处理。本方法能够提高镀铬的合格率。

Description

一种镀铬工艺方法
技术领域
本发明涉及一种镀铬方法领域，具体涉及一种镀铬工艺方法。
背景技术
镀铬层具有很高的硬度，根据镀液成分和工艺条件不同，其硬度可在很大范围400～1200HV内变化。镀铬层有较好的耐热性，在500℃以下加热，其光泽性、硬度均无明显变化，温度大于500℃开始氧化变色，大于700℃硬度开始降低。镀铬层的摩擦系小数，特别是干摩擦系数，在所有的金属中是最低的。所以镀铬层具有很好的耐磨性。目前，镀铬的合格率不高，经常会出现表面留有颗粒状铬粒。
发明内容
为解决现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种镀铬工艺方法，能够有效的解决上述技术问题。
为了实现上述目标，本发明采用如下的技术方案：
一种镀铬工艺方法，包括步骤
（1）将待镀工件进行表面精加工处理；
（2）将待镀件放入镀铬溶液中；
（3）将镀铬溶液中的待镀件进行电镀处理；
（4）将电镀处理后的镀件放入密闭空间中；
（5）将镀件进行抛光处理。
进一步的，步骤（1）中的精加工处理为用加工中心进行精加工处理，并且保证加工精度为0.01mm～0.02mm。
进一步的，步骤（2）中的镀铬溶液为ZL201510044916.1中的镀铬溶液。
进一步的，步骤（3）中的电镀为150V电压进行电镀处理。
进一步的，步骤（4）中的密闭空间为内部充满惰性气体的密闭空间，并且惰性气体为氖气。
进一步的，步骤（5）中的抛光处理为用抛光机进行抛光处理。
本发明的有益之处在于：
通过对表面的精加工处理，达到待镀件表面的光滑，第一次防止铬粒的产生，通过150V的大功率电压进行电镀，使镀铬一次成型，第二次防止镀铬时间过长而引起的铬粒的产生，通过惰性气体的密闭空间保护，使电镀后的镀件与外界空气隔离，防止空气中的粉尘落入镀件表面，最后一次防止铬粒的产生。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的描述和说明，但不以任何形式限制本发明。
实施例1
一种镀铬工艺方法，包括步骤
（1）将待镀工件进行表面精加工处理；
（2）将待镀件放入镀铬溶液中；
（3）将镀铬溶液中的待镀件进行电镀处理；
（4）将电镀处理后的镀件放入密闭空间中；
（5）将镀件进行抛光处理。
其中，步骤（1）中的精加工处理为用加工中心进行精加工处理，并且保证加工精度为0.01mm～0.02mm，步骤（2）中的镀铬溶液为ZL201510044916.1中的镀铬溶液，步骤（3）中的电镀为150V电压进行电镀处理，步骤（4）中的密闭空间为内部充满惰性气体的密闭空间，并且惰性气体为氖气，步骤（5）中的抛光处理为用抛光机进行抛光处理。
在本发明的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，上述实施例不以任何形式限制本发明，凡采用等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案，均落在本发明的保护范围内。

Claims (6)

1.一种镀铬工艺方法，其特征在于：包括步骤（1）将待镀工件进行表面精加工处理，（2）将待镀件放入镀铬溶液中，（3）将镀铬溶液中的待镀件进行电镀处理，（4）将电镀处理后的镀件放入密闭空间中，（5）将镀件进行抛光处理。
2.根据权利要求1所述的一种镀铬工艺方法，其特征在于，所述的步骤（1）中的精加工处理为用加工中心进行精加工处理，并且保证加工精度为0.01mm～0.02mm。
3.根据权利要求1所述的一种镀铬工艺方法，其特征在于，所述的步骤（2）中的镀铬溶液为ZL201510044916.1中的镀铬溶液。
4.根据权利要求1所述的一种镀铬工艺方法，其特征在于，所述的步骤（3）中的电镀为150V电压进行电镀处理。
5.根据权利要求1所述的一种镀铬工艺方法，其特征在于，所述的步骤（4）中的密闭空间为内部充满惰性气体的密闭空间，并且惰性气体为氖气。
6.根据权利要求1所述的一种镀铬工艺方法，其特征在于，所述的步骤（5）中的抛光处理为用抛光机进行抛光处理。
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