CN109065485B - 一种单晶硅生产线用硅片高效清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种单晶硅生产线用硅片高效清洗装置，包括控制器、硅片承载装置、底板、顶板以及连接底板和顶板的侧壁部，底板处固定有圆柱形的储液容器，顶板和底板之间具有光杆和丝杆，硅片承载装置包括圆板、圆环柱形部和圆柱形部，圆环柱形部与第二轴承的内圈固定，第二轴承的外圈与4个滑块均固定连接，顶板通过连接支架连接有圆盘部，圆盘部连接有多个第一喷嘴和多个第二喷嘴，所述第一内腔连接有进液管，进液管处具有液体泵，所述第二内腔连接有进气管，进气管处具有加热装置和风机，顶板处还具有驱动承载装置旋转的第三电机。本发明的装置，清洗烘干效果好。
Description
技术领域
本发明涉及光伏领域，具体涉及一种单晶硅生产线用硅片高效清洗装置。
背景技术
硅的单晶体。具有基本完整的点阵结构的晶体。不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料。纯度要求达到99.9999％，甚至达到99.9999999％以上。用于制造半导体器件、太阳能电池等。用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成。单晶硅在制作过程中需要经过硅片清洗作业，现有的清洗装置往往只具有一种方式的清洗功能，并且清洗后难以干燥，增加了流水线生产的时间。
发明内容
发明目的：本发明旨在克服现有技术的缺陷，提供一种单晶硅生产线用硅片高效清洗装置。
技术方案：一种硅片清洗装置，包括控制器、硅片承载装置、底板、顶板以及连接底板和顶板的侧壁部，所述底板处固定有圆柱形的储液容器，所述储液容器具有注液管和出液管，所述注液管和出液管处均具有阀门，所述储液容器内具有超声装置，所述顶板和底板之间连接有3个相互平行的光杆，所述顶板处还具有第一电机，所述底板处具有轴承座，轴承座处具有第一轴承，所述第一轴承和第一电机之间连接有丝杆，3个光杆和所述丝杆处均套有一个滑块，所述硅片承载装置包括圆板、与圆板固定的圆环柱形部和与圆板固定的圆柱形部，所述圆柱形部具有倒锥台形孔，所述圆柱形部的外圆周壁处具有呈环形排列的多个第一凹槽，所述圆环柱形部的内圆周壁具有呈环形排列的多个第二凹槽，所述圆环柱形部还具有多个连通第二凹槽和圆环柱形部外圆周壁的连通孔，所述第一凹槽、第二凹槽以及连通孔的数量相等，所述圆环柱形部与第二轴承的内圈固定，第二轴承的外圈与4个滑块均固定连接，所述圆环柱形部的外圆周壁固定有圆环部；所述侧壁部的内侧具有第一安装凹槽，所述第一安装凹槽内安装有电动伸缩杆，电动伸缩杆的活动端固定有第二电机，第二电机的电机轴具有能够与所述圆环部抵接并驱动圆环部转动的主动摩擦辊；所述顶板通过连接支架连接有圆盘部，所述圆盘部具有第一内腔和第二内腔，所述圆盘部还连接有多个第一喷嘴和多个第二喷嘴，所有的第一喷嘴均与第一内腔连通，所有的第二喷嘴均与第二内腔连通，所述第一内腔连接有进液管，进液管处具有液体泵，所述第二内腔连接有进气管，进气管处具有加热装置和风机，所述圆盘部具有贯穿圆盘部上下表面的贯穿孔；所述顶板处还固定有电机座，电机座处固定有第三电机，第三电机的电机轴穿过圆盘部的贯穿孔，且电机轴的端部具有用于与圆柱形部的倒锥台形孔啮合的倒锥台形块；当主动摩擦辊与所述圆环部抵接时，所述倒锥台形块与所述倒锥台形孔不接触。
进一步地，所述侧壁部为圆环柱形，所述侧壁部处具有侧门，侧门与侧壁部铰接。
进一步地，所述储液容器内具有液面传感器，储液容器处的超声装置具有多个。
进一步地，多个第一喷嘴呈环形放射状分布；多个第二喷嘴呈环形放射状分布。
进一步地，所述圆环部的外圆周壁具有防滑涂层。
进一步地，所述连接支架大于等于2个。
进一步地，所述侧壁部的内侧具有4个第二安装槽，每个第二安装槽内均安装有电磁铁部，4个滑块均为铁质滑块，当每个第二安装槽内的电磁铁部与一个滑块相互吸引时，所述倒锥台形块和倒锥台形孔啮合。
进一步地，圆板处具有多个弧形的漏液孔。
进一步地，光杆处的滑块具有光滑通孔，丝杆处的滑块具有螺纹孔。
有益效果：本发明的清洗装置，可以先浸泡超声清洗，再淋洗，再甩水，再烘干，整体效率高，且清洗效果好。
附图说明
图1为利用储液容器浸泡清洗时示意图；
图2为硅片承载架升高后，主动摩擦辊和圆环部还未抵接时示意图；
图3为硅片承载架升高后，主动摩擦辊和圆环部还未抵接时示意图；
图4为倒锥台形块和倒锥台形孔啮合时示意图；
图5为硅片承载架俯视示意图；
图6为圆盘部仰视示意图。
具体实施方式
附图标记：1.1底板；1.2顶板；1.3侧壁部；1.4电磁铁部；1.5侧门；2.1储液容器；2.2超声装置；3.1圆柱形部；3.2圆环柱形部；3.3圆板；3.4第二轴承；3.5滑块；4.1光杆；4.2丝杆；4.3第一电机；5.1连接支架；5.2第三电机；5.3倒锥台形块；6圆盘部；6.1第一喷嘴；6.2第一内腔；6.3进液管；6.4第二喷嘴；6.5第二内腔；6.6进气管；7.1电动伸缩杆；7.2第二电机；7.3主动摩擦辊；3.1.1第一凹槽；3.1.2倒锥台形孔；3.2.1第二凹槽；3.2.2连通孔；3.3.1漏液孔。
一种硅片清洗装置，包括控制器、硅片承载装置、底板1.1、顶板1.2以及连接底板和顶板的侧壁部1.3，所述底板处固定有圆柱形的储液容器2.1，所述储液容器2.1具有注液管和出液管，所述注液管和出液管处均具有阀门，所述储液容器内具有超声装置2.2，所述顶板和底板之间连接有3个相互平行的光杆4.1，所述顶板处还具有第一电机4.3，所述底板处具有轴承座，轴承座处具有第一轴承，所述第一轴承和第一电机之间连接有丝杆4.2，3个光杆和所述丝杆处均套有一个滑块，所述硅片承载装置包括圆板3.3、与圆板固定的圆环柱形部3.2和与圆板固定的圆柱形部3.1，所述圆柱形部具有倒锥台形孔3.1.2，所述圆柱形部的外圆周壁处具有呈环形排列的多个第一凹槽3.1.1，所述圆环柱形部的内圆周壁具有呈环形排列的多个第二凹槽3.2.1，所述圆环柱形部还具有多个连通第二凹槽和圆环柱形部外圆周壁的连通孔3.2.2，所述第一凹槽、第二凹槽以及连通孔的数量相等，所述圆环柱形部与第二轴承3.4的内圈固定，第二轴承的外圈与4个滑块均固定连接，所述圆环柱形部的外圆周壁固定有圆环部；所述侧壁部的内侧具有第一安装凹槽，所述第一安装凹槽内安装有电动伸缩杆7.1，电动伸缩杆的活动端固定有第二电机7.2，第二电机的电机轴具有能够与所述圆环部抵接并驱动圆环部转动的主动摩擦辊7.3；所述顶板通过连接支架连接有圆盘部6，所述圆盘部具有第一内腔6.2和第二内腔6.5，所述圆盘部还连接有多个第一喷嘴6.1和多个第二喷嘴6.4，所有的第一喷嘴均与第一内腔连通，所有的第二喷嘴均与第二内腔连通，所述第一内腔6.2连接有进液管6.3，进液管处具有液体泵，所述第二内腔6.5连接有进气管6.6，进气管处具有加热装置和风机，所述圆盘部具有贯穿圆盘部上下表面的贯穿孔；所述顶板处还固定有电机座，电机座处固定有第三电机5.2，第三电机的电机轴穿过圆盘部的贯穿孔，且电机轴的端部具有用于与圆柱形部的倒锥台形孔啮合的倒锥台形块5.3；当主动摩擦辊与所述圆环部抵接时，所述倒锥台形块与所述倒锥台形孔不接触。
所述侧壁部为圆环柱形，所述侧壁部处具有侧门，侧门与侧壁部铰接。所述储液容器内具有液面传感器，储液容器处的超声装置具有多个。多个第一喷嘴呈环形放射状分布；多个第二喷嘴呈环形放射状分布。所述圆环部的外圆周壁具有防滑涂层。所述连接支架大于等于2个。所述侧壁部的内侧具有4个第二安装槽，每个第二安装槽内均安装有电磁铁部，4个滑块均为铁质滑块，当每个第二安装槽内的电磁铁部与一个滑块相互吸引时，所述倒锥台形块和倒锥台形孔啮合。圆板处具有多个弧形的漏液孔。
本发明的清洗装置，首先，如图1所示将硅片承载架浸泡在储液容器内，并且利用超声装置进行浸泡清洗，一段时间后。在将承载架提升至图2所示位置，再伸长电动伸缩杆使得主动摩擦辊与圆环部抵接，主动摩擦辊的转动带动圆环部缓慢转动，同时利用放射状的喷嘴对硅片进行淋洗。淋洗完毕后，再缩短电动伸缩杆，并进一步提升承载架，使得倒锥台形孔和倒锥台形块抵接，并开启电磁铁部使得承载架在这个高度固定得更加稳固。并且此时，可以利用第三电机带动承载架较快地转动，从而将水甩干，并且利用第二喷嘴喷出热风进行烘干操作。清洗烘干效果好。
尽管本发明就优选实施方式进行了示意和描述，但本领域的技术人员应当理解，只要不超出本发明的权利要求所限定的范围，可以对本发明进行各种变化和修改。
Claims (8)
1.一种单晶硅生产线用硅片高效清洗装置，其特征在于，包括控制器、硅片承载装置、底板、顶板以及连接底板和顶板的侧壁部，所述底板处固定有圆柱形的储液容器，所述储液容器具有注液管和出液管，所述注液管和出液管处均具有阀门，所述储液容器内具有超声装置，所述顶板和底板之间连接有3个相互平行的光杆，所述顶板处还具有第一电机，所述底板处具有轴承座，轴承座处具有第一轴承，所述第一轴承和第一电机之间连接有丝杆，3个光杆和所述丝杆处均套有一个滑块，所述硅片承载装置包括圆板、与圆板固定的圆环柱形部和与圆板固定的圆柱形部，所述圆柱形部具有倒锥台形孔，所述圆柱形部的外圆周壁处具有呈环形排列的多个第一凹槽，所述圆环柱形部的内圆周壁具有呈环形排列的多个第二凹槽，所述圆环柱形部还具有多个连通第二凹槽和圆环柱形部外圆周壁的连通孔，所述第一凹槽、第二凹槽以及连通孔的数量相等，所述圆环柱形部与第二轴承的内圈固定，第二轴承的外圈与4个滑块均固定连接，所述圆环柱形部的外圆周壁固定有圆环部；所述侧壁部的内侧具有第一安装凹槽，所述第一安装凹槽内安装有电动伸缩杆，电动伸缩杆的活动端固定有第二电机，第二电机的电机轴具有能够与所述圆环部抵接并驱动圆环部转动的主动摩擦辊；所述顶板通过连接支架连接有圆盘部，所述圆盘部具有第一内腔和第二内腔，所述圆盘部还连接有多个第一喷嘴和多个第二喷嘴，所有的第一喷嘴均与第一内腔连通，所有的第二喷嘴均与第二内腔连通，所述第一内腔连接有进液管，进液管处具有液体泵，所述第二内腔连接有进气管，进气管处具有加热装置和风机，所述圆盘部具有贯穿圆盘部上下表面的贯穿孔；所述顶板处还固定有电机座，电机座处固定有第三电机，第三电机的电机轴穿过圆盘部的贯穿孔，且电机轴的端部具有用于与圆柱形部的倒锥台形孔啮合的倒锥台形块；当主动摩擦辊与所述圆环部抵接时，所述倒锥台形块与所述倒锥台形孔不接触。
2.根据权利要求1所述的单晶硅生产线用硅片高效清洗装置，其特征在于，所述侧壁部为圆环柱形，所述侧壁部处具有侧门，侧门与侧壁部铰接。
3.根据权利要求1所述的单晶硅生产线用硅片高效清洗装置，其特征在于，所述储液容器内具有液面传感器，储液容器处的超声装置具有多个。
4.根据权利要求1所述的单晶硅生产线用硅片高效清洗装置，其特征在于，多个第一喷嘴呈环形放射状分布；多个第二喷嘴呈环形放射状分布。
5.根据权利要求1所述的单晶硅生产线用硅片高效清洗装置，其特征在于，所述圆环部的外圆周壁具有防滑涂层。
6.根据权利要求1所述的单晶硅生产线用硅片高效清洗装置，其特征在于，所述连接支架大于等于2个。
7.根据权利要求1所述的单晶硅生产线用硅片高效清洗装置，其特征在于，所述侧壁部的内侧具有4个第二安装槽，每个第二安装槽内均安装有电磁铁部，4个滑块均为铁质滑块，当每个第二安装槽内的电磁铁部与一个滑块相互吸引时，所述倒锥台形块和倒锥台形孔啮合。
8.根据权利要求1所述的单晶硅生产线用硅片高效清洗装置，其特征在于，圆板处具有多个弧形的漏液孔。
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