CN109045981A - 一种氨法脱硫高效氧化装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种氨法脱硫高效氧化装置，属于氨法脱硫技术领域。所述的氨法脱硫高效氧化装置，包括脱硫塔，所述脱硫塔设有氧化段、浓缩段、吸收段，所述氧化段设有氧化装置，所述氧化装置包括氧化曝气管、氧化气管和氧化风机，所述氧化曝气管设于脱硫内，通过氧化气管与脱硫塔外的氧化风机连接；所述吸收段设有喷淋管和集液盘，所述喷淋管通过管道与吸收泵连接，所述吸收泵与脱硫塔底部连接，所述集液盘通过回流管道与脱硫塔底部连接，使吸收液回流到脱硫塔底部或氧化段。本发明在烟气进入脱硫塔后先通过浓缩段和吸收段的自然氧化及操作氧化，再进入氧化段进行曝气氧化，使得氧化率大于99％，大大提高了氧化效率。
Description
技术领域
本发明属于氨法脱硫技术领域，具体涉及一种氨法脱硫高效氧化装置。
背景技术
中国是燃煤和钢铁生产大国，排放的烟气量十分巨大，烟气中的SO2等污染物导致的酸雨对人类的生活、环境、生产活动产生的影响日趋严重。为了改善环境质量，控制SO2的排放量，近年来各种脱硫工艺技术与装备发展迅速。其中，湿式氨法脱硫工艺是目前较为成熟的脱硫工艺之一，其烟气脱硫的原理是：采用碱性脱硫剂与酸性SO2气体进行中和反应，该反应是在分离设备中进行的，具体地说，是在脱硫塔中完成的。
氨法脱硫包括三个具体反应步骤：
吸收：SO2+2NH3.H2O＝(NH4)2SO3+H20
氧化：2(NH4)2SO3+O2＝2(NH4)2SO4
结晶：(NH4)2SO4(l)＝(NH4)2SO4(s)
若浓缩段过饱和硫铵浆液氧化效果不好，浆液中的亚硫酸氢氨或亚硫酸氨含量偏高，考虑到亚硫酸氢氨及亚硫酸氨的热不稳定性，浆液中的亚硫酸盐在高温原烟气作用下热分解生成NH3及SO2。NH3的生成直接导致脱硫塔出口烟气中气溶胶的增加，而热分解生成的SO2则会导致吸收段的SO2浓度升高，降低脱硫塔的脱硫效率，因此氨法脱硫浓缩段过饱和硫铵浆液的氧化率的高低直接关系到脱硫系统的正常运行。
发明内容
本发明的目的是提供一种氨法脱硫高效氧化装置，以解决上述现有技术中存在的吸收液氧化率低的问题，通过设计自然氧化、操作氧化和曝气氧化使得吸收液氧化率得以提高。
为解决上述技术问题，本发明所采用的技术方案是：
一种氨法脱硫高效氧化装置，包括脱硫塔，所述脱硫塔由下至上依次设有氧化段、浓缩段、吸收段，所述氧化段和浓缩段之间设有烟气入口，
所述氧化段设有氧化装置，所述氧化装置包括氧化曝气管、氧化气管和氧化风机，所述氧化曝气管设于脱硫内，通过氧化气管与脱硫塔外的氧化风机连接；
所述吸收段设有喷淋管和集液盘，所述喷淋管通过管道与吸收泵连接，所述吸收泵与脱硫塔底部连接，所述集液盘通过回流管道与脱硫塔底部连接，使吸收液回流到脱硫塔底部或氧化段。
优选地，所述浓缩段设有斜板。
优选地，所述浓缩段设有反冲洗管，所述反冲洗管与所述吸收泵连接，将吸收液输送至浓缩段进行反冲洗。
优选地，所述斜板上还设有冲洗管，所述冲洗管与所述吸收泵连接，将吸收液输送至斜板进行冲洗。
优选地，所述氧化段上方设有溢流管，溢流管与脱硫塔外的浓缩结晶槽连接。
优选地，所述氧化段还设有补水管道，所述补水管道通过清洗水泵与清洗水槽连接。
优选地，所述氧化段设于所述脱硫塔底部上方。
本发明具有以下有益效果：
1.本发明在烟气进入脱硫塔后先通过浓缩段和吸收段的自然氧化及操作氧化，再进入氧化段进行曝气氧化，使得氧化率大于99％，大大提高了氧化效率。
2.本发明氧化风机设计有3台，由于有自然氧化和操作氧化作用，减少了氧化风机的启动台数，进而降低了系统能耗，减少系统运行费用。
3.本发明高效氧化装置稳定了氧化率，防止氧化液分解二氧化硫，保证吸收段的吸收效果，满足烟气超低排放标准。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
图中：1-脱硫塔；2-氧化段；3-浓缩段；4-吸收段；5-烟气入口；6-氧化曝气管；7-氧化气管；8-氧化风机；9-喷淋管；10-集液盘；11-吸收泵；12-脱硫塔底部；13-回流管道；14-斜板；15-反冲洗管；16-冲洗管；17-溢流管；18-浓缩结晶槽；19-补水管道；20-清洗水泵；21-清洗水槽。
具体实施方式
为了更好的理解本发明的技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对本发明的技术方案进行详细的说明。
参见图1，一种氨法脱硫高效氧化装置，包括脱硫塔1，所述脱硫塔1由下至上依次设有氧化段2、浓缩段3、吸收段4，所述氧化段2和浓缩段3之间设有烟气入口5，所述氧化段2设有氧化装置，所述氧化装置包括氧化曝气管6、氧化气管7和氧化风机8，所述氧化曝气管6设于脱硫塔1内，通过氧化气管7与脱硫塔1外的氧化风机8连接；所述吸收段4设有喷淋管9和集液盘10，所述喷淋管9通过管道与吸收泵11连接，所述吸收泵11与脱硫塔底部12连接，所述集液盘10通过回流管道13与脱硫塔底部12连接，使吸收液回流到脱硫塔底部12或氧化段2，氧化段2设于所述脱硫塔底部12上方。
以上实施例中，吸收液在脱硫塔1内经过吸收液的自然氧化、操作氧化和曝气氧化三个步骤，其中自然氧化和操作氧化，是指锅炉烟气通过烟气入口5进入脱硫塔1内浓缩段3再进入吸收段4，使得部分循环吸收液中的亚硫酸铵被氧化为硫酸铵，吸收液通过集液盘10进入回流管道16回流到脱硫塔底部12，部分吸收液进入氧化段2，再通过吸收泵11输送至喷淋管9进行循环喷淋，使吸收液在吸收二氧化硫的同时不断被氧化，同时吸收液在氧化段2进行曝气氧化，曝气氧化是通过氧化风机8及氧化气管7送氧气到氧化曝气管6，使得吸收液中的亚硫酸铵充分与氧气反应生成硫酸铵。此处氧化风机设计有3台，由于有自然氧化和操作氧化作用，减少了氧化风机的启动台数，进而降低了系统能耗，减少系统运行费用。
在另一种优选的实施例中，所述浓缩段3设有斜板14，所述斜板14上还设有冲洗管16，所述冲洗管16与所述吸收泵11连接，将吸收液输送至斜板14进行冲洗。所述浓缩段3设有反冲洗管15，所述反冲洗管15与所述吸收泵11连接，将吸收液输送至浓缩段3进行反冲洗。
以上实施例中，为了补充浓缩液和氧化液及调整溶液密度，当吸收液氧化率达到合格值时，通过吸收泵11输送至浓缩段3反冲洗管15或斜板14上的冲洗管16进行冲洗，以补充溶液到浓缩结晶槽18。冲洗的目的是防止浓缩段3挂料和堆料、调整溶液密度，给浓缩结晶槽18补液，补充溶液到浓缩结晶槽18的作用是补充蒸发水量，保持浓缩段3水平衡。
在另一种优选的实施例中，所述氧化段2上方设有溢流管17，溢流管17与脱硫塔1外的浓缩结晶槽18连接。
以上实施例中，为了补充浓缩液和氧化液及调整溶液密度，合格的硫酸铵溶液最终通过溢流管17溢流到浓缩结晶槽18。
在另一种优选的实施例中，所述氧化段2还设有补水管道19，所述补水管道19通过清洗水泵20与清洗水槽21连接。
以上实施例中，氧化段2补水是由清洗水泵20和清洗水槽21通过补水管道19供给。补水的作用是保持整个系统水平衡。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (7)
1.一种氨法脱硫高效氧化装置，其特征在于，包括脱硫塔，所述脱硫塔由下至上依次设有氧化段、浓缩段、吸收段，所述氧化段和浓缩段之间设有烟气入口，
所述氧化段设有氧化装置，所述氧化装置包括氧化曝气管、氧化气管和氧化风机，所述氧化曝气管设于脱硫内，通过氧化气管与脱硫塔外的氧化风机连接；
所述吸收段设有喷淋管和集液盘，所述喷淋管通过管道与吸收泵连接，所述吸收泵与脱硫塔底部连接，所述集液盘通过回流管道与脱硫塔底部连接，使吸收液回流到脱硫塔底部或氧化段。
2.根据权利要求1所述的氨法脱硫高效氧化装置，其特征在于，所述浓缩段设有斜板。
3.根据权利要求1所述的氨法脱硫高效氧化装置，其特征在于，所述浓缩段设有反冲洗管，所述反冲洗管与所述吸收泵连接，将吸收液输送至浓缩段进行反冲洗。
4.根据权利要求2所述的氨法脱硫高效氧化装置，其特征在于，所述斜板上还设有冲洗管，所述冲洗管与所述吸收泵连接，将吸收液输送至斜板进行冲洗。
5.根据权利要求1所述的氨法脱硫高效氧化装置，其特征在于，所述氧化段上方设有溢流管，溢流管与脱硫塔外的浓缩结晶槽连接。
6.根据权利要求1所述的氨法脱硫高效氧化装置，其特征在于，所述氧化段还设有补水管道，所述补水管道通过清洗水泵与清洗水槽连接。
7.根据权利要求1所述的氨法脱硫高效氧化装置，其特征在于，所述氧化段设于所述脱硫塔底部上方。
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Effective date of registration: 20221117 Address after: 050400 No. 2, West District East Road, Xibaipo Economic Development Zone, Donghuishe Town, Pingshan County, Shijiazhuang City, Hebei Province Applicant after: Heli Environmental Protection (Hebei) Co.,Ltd. Address before: 050400 Xibaipo Stone Industry Zone, Pingshan County, Shijiazhuang City, Hebei Province Applicant before: SHIJIAZHUANG YUQING ENVIRONMENTAL PROTECTION TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
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| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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