CN109031882A - 掩模装置及掩模控制方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种掩模装置及掩模控制方法，属于显示技术领域。所述掩模装置包括：掩模板、多个加压结构和控制器，掩模板包括与多个加压结构一一对应的多个掩模单元，掩模单元在受到第一压力时处于遮光状态，且在受到第二压力时处于透光状态，控制器与每个加压结构均连接；控制器用于：控制多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加第一压力，以使第一加压结构对应的掩模单元处于遮光状态；控制多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加第二压力，以使第二加压结构对应的掩模单元处于透光状态。本发明解决了掩模装置的工作效率较低的问题。本发明用于对显示面板中的膜层进行掩模。

Description

掩模装置及掩模控制方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种掩模装置及掩模控制方法。

背景技术

随着科技的发展，显示面板的应用越来越广泛，显示面板中通常包括封框胶，在制造显示面板的过程中，需使用掩模装置对封框材质层进行掩模，以得到封框胶。

掩模装置包括：掩模板和紫外灯组件。在使用掩模装置对封框材质层进行掩模时，可以将封框材质层和紫外灯组件分别置于掩模板的两侧，并控制紫外灯组件向掩模板发射紫外光，以使得紫外光穿过掩模板中的透光区域并到达封框材质层，以对封框材质层进行掩模。

相关技术中，在制造不同尺寸的显示面板时，由于不同尺寸的显示面板中的封框胶的尺寸也不相同，因此需要使用不同尺寸的掩模板，而频繁更换掩模板需要耗费较多时间，导致掩模装置的工作效率较低。

发明内容

本申请提供了一种掩模装置及掩模控制方法，可以解决相关技术中掩模装置的工作效率较低的问题，所述技术方案如下：

一方面，提供了一种掩模装置，所述掩模装置包括：掩模板、多个加压结构和控制器，

所述掩模板包括与所述多个加压结构一一对应的多个掩模单元，所述掩模单元在受到第一压力时处于遮光状态，且在受到第二压力时处于透光状态，所述控制器与每个所述加压结构均连接；

所述控制器用于：控制所述多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加所述第一压力，以使所述第一加压结构对应的掩模单元处于所述遮光状态；控制所述多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加所述第二压力，以使所述第二加压结构对应的掩模单元处于所述透光状态。

可选地，每个所述加压结构包括：电场施加元件以及至少一个压电元件，所述控制器与所述电场施加元件连接，所述控制器用于：

控制所述第一加压结构中的电场施加元件向压电元件施加电场，以使所述第一加压结构中的压电元件在所述电场的作用下变形，并向与所述第一加压结构对应的所述掩模单元施加所述第一压力；

控制所述第二加压结构中的电场施加元件停止向压电元件施加所述电场，以使所述第二加压结构中的压电元件在所述电场消失后恢复形状，并向与所述第二加压结构对应的所述掩模单元施加所述第二压力。

可选地，每个所述加压结构包括：设置在其对应的掩模单元两侧的两个所述压电元件。

可选地，对于每个所述加压结构，所述电场施加元件包括：相对设置的两个透光电极，所述至少一个压电元件和所述加压结构对应的掩模单元均位于所述两个透光电极之间，所述控制器与每个所述透光电极均连接；

所述控制器用于：向所述两个透光电极施加不同的电压，以向所述压电元件施加所述电场；以及停止向所述两个透光电极施加电压，以停止向所述压电元件施加所述电场。

可选地，所述掩模板还包括：遮光隔离结构，所述遮光隔离结构用于隔离任意两个相邻的掩模单元。

可选地，所述掩模单元包括：压敏变色结构。

可选地，所述压电元件为陶瓷压电元件。

另一方面，提供一种掩模控制方法，用于上述的掩模装置中的控制器，所述掩模装置还包括：掩模板和多个加压结构，所述掩模板包括与所述多个加压结构一一对应的多个掩模单元，所述掩模单元在受到第一压力时处于遮光状态，且在受到第二压力时处于透光状态，所述控制器与每个所述加压结构均连接，所述方法包括：

控制所述多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加所述第一压力，以使所述第一加压结构对应的掩模单元处于所述遮光状态；

控制所述多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加所述第二压力，以使所述第二加压结构对应的掩模单元处于所述透光状态。

可选地，每个所述加压结构包括：电场施加元件以及至少一个压电元件，所述控制器与所述电场施加元件连接，

控制所述多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加所述第一压力，包括：控制所述第一加压结构中的电场施加元件向压电元件施加电场，以使所述第一加压结构中的压电元件在所述电场的作用下变形，并向与所述第一加压结构对应的所述掩模单元施加所述第一压力；

控制所述多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加所述第二压力，包括：控制所述第二加压结构中的电场施加元件停止向压电元件施加所述电场，以使所述第二加压结构中的压电元件在所述电场消失后恢复形状，并向与所述第二加压结构对应的所述掩模单元施加所述第二压力。

可选地，对于每个所述加压结构，所述电场施加元件包括：相对设置的两个透光电极，所述至少一个压电元件和所述加压结构对应的掩模单元均位于所述两个透光电极之间，所述控制器与每个所述透光电极均连接；

控制所述第一加压结构中的电场施加元件向压电元件施加电场，包括：向所述第一加压结构中的两个透光电极施加不同的电压，以向所述第一加压结构中的压电元件施加所述电场；

控制所述第二加压结构中的电场施加元件停止向压电元件施加所述电场，包括：停止向所述第二加压结构中的两个透光电极施加电压，以停止向所述第二加压结构中的压电元件施加电场。

本申请提供的技术方案带来的有益效果是：控制器能够通过控制多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加第一压力，以使该掩模单元处于遮光状态，且该控制器还能够通过控制多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加第二压力，以使该掩模单元处于透光状态。以便于调整这些掩模单元所在掩模板的透光区域，使得该掩模板可以具有多种不同形状和尺寸的透光区域，以适应不同形状和尺寸的膜层。避免了在使用掩模装置对多种不同形状和尺寸的膜层进行掩模时，因需更换不同形状和尺寸的掩模板而耗费较多时间，提高了掩模装置的工作效率。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本申请。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的实施例，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种掩模装置的结构示意图；

图2为图1中截面A-A的示意图；

图3为图1中掩模装置的掩模板的透光区域的尺寸为第二尺寸的示意图；

图4为本发明实施例提供的一种加压结构及其对应的掩模单元的位置关系示意图；

图5为图4中掩模单元处于遮光状态时的示意图；

图6为本发明实施例提供的另一种加压结构及其对应的掩模单元的位置关系示意图；

图7为本发明实施例提供的另一种掩模装置的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的又一种加压结构及其对应的掩模单元的位置关系示意图；

图9为图8中掩模单元的处于遮光状态时的示意图；

图10为本发明实施例提供的再一种掩模装置的结构示意图；

图11为图10中截面B-B的示意图。

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

显示面板的应用越来越广泛，在使用掩模装置对多种不同形状和尺寸的膜层进行掩模时，需要使用不同尺寸的掩模板，而频繁更换掩模板需要耗费较多时间。本发明实施例提供了一种掩模装置，在使用该掩模装置对多种不同形状和尺寸的膜层进行掩模时，无需使用不同尺寸的掩模板，避免了频繁更换掩模板需要耗费较多时间，掩模装置的工作效率较高。

图1为本发明实施例提供的一种掩模装置的结构示意图，图2为图1中截面A-A的示意图，请结合图1和图2，该掩模装置0可以包括：掩模板00、多个加压结构01和控制器02，掩模板00可以包括与多个加压结构01一一对应的多个掩模单元000，该掩模单元000在受到第一压力时处于遮光状态，且在受到第二压力时处于透光状态，控制器02与每个加压结构01均连接(图1中仅示出了控制器02与多个加压结构01中的一个加压结构01的连接关系)。

需要说明的是，该掩模单元000可以在其受到的压力大于或等于预设压力时处于遮光状态，且在其受到的压力小于预设压力时处于透光状态，且第一压力可以大于或等于该预设压力，第二压力可以小于该预设压力，且该第二压力的压力数值大小可以为零。

该控制器02可以用于：控制多个加压结构01中的第一加压结构向其对应的掩模单元000施加第一压力，以使该第一加压结构对应的掩模单元000处于遮光状态。该控制器02还可以用于：控制多个加压结构01中的第二加压结构向其对应的掩模单元000施加第二压力，以使该第二加压结构对应的掩模单元 000处于透光状态，以调整该掩模板00的透光区域。

需要说明的是，该多个加压结构01中每个加压结构01均可以为第一加压结构或第二加压结构，或者，该多个加压结构01的一部分加压结构中每个加压结构均为第一加压结构，另一部分加压结构01中每个加压结构均为第二加压结构。

示例地，控制器02可以控制多个加压结构01中每个加压结构01均向其对应的掩模单元000施加第一压力，以使掩模板00中所有掩模单元000均处于透光状态，以将掩模板00的透光区域(图1和图2中均未标出)的形状调整为矩形，且该透光区域的尺寸可以为第一尺寸(如该透光区域的面积可以为第一面积)。此时，该掩模板00能够对形状为矩形的膜层(如用于形成显示面板中配向膜的配向材质层)进行掩模。

另外，如图3所示，控制器(图3中未示出)还可以控制多个加压结构(图3中未示出)中，一部分加压结构中每个加压结构均向其对应的掩模单元000施加第一压力，以使掩模板中一部分掩模单元000均处于透光状态。并控制另一部分加压结构中每个加压结构均向其对应的掩模单元000施加第二压力，以使该掩模板中另一部分掩模单元000均处于遮光状态，且该一部分掩模单元000 可以包围该另一部分掩模单元000。以将该掩模板中的透光区域(图3中未标出) 的形状调整为环形，且该透光区域的尺寸可以为与第一尺寸不同的第二尺寸(如该透光区域的面积可以为小于第一面积的第二面积)。此时，该掩模板00能够对形状为环形的膜层(如用于形成显示面板中封框胶的封框材质层)进行掩模。

综上所述，在本发明实施例提供的掩模装置中，控制器能够通过控制多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加第一压力，以使该掩模单元处于遮光状态，且该控制器还能够通过控制多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加第二压力，以使该掩模单元处于透光状态。以便于调整这些掩模单元所在掩模板的透光区域，使得该掩模板可以具有多种不同形状和尺寸的透光区域，以适应不同形状和尺寸的膜层。避免了在使用掩模装置对多种不同形状和尺寸的膜层进行掩模时，因需更换不同形状和尺寸的掩模板而耗费较多时间，提高了掩模装置的工作效率。

请继续参考图1，该掩模板00还可以包括：透光基板001，多个掩模单元 000可以设置在该透光基板001上。

需要说明的是，本发明实施例中仅以控制器02将掩模装置0中的透光区域的形状调整为矩形或环形，以及将该透光区域的尺寸调整为第一尺寸或第二尺寸为例。可选地，控制器02还可以将掩模装置0中的透光区域的形状调整为其他形状(如网状)，以及将该透光区域的尺寸调整其他尺寸，本发明实施例对此不作限定。

可选地，掩模装置0用于对形成显示面板的膜层进行掩模，且为了控制器 02可以更加精确的调整掩模板00中透光区域的形状，每个掩模单元000及其对应的加压结构01可以与该显示面板中亚像素单元的形状和大小均相同，每个亚像素单元用于发出一种颜色的光(如红光、绿光或蓝光)。

需要说明的是，本发明实施例中仅以该掩模装置0包括十二行十列加压结构01，且掩模板00包括十二行十列掩模单元000为例，可选地，该掩模装置0 中还可以包括其他行数和列数(如十三行十一列)的加压结构01，且掩模板00 还可以包括其他行数和列数(如十三行十一列)掩模单元000，本发明实施例对此不作限定。

图4为本发明实施例提供的一种加压结构及其对应的掩模单元的位置关系示意图，且该加压结构和掩模单元可以为图1中的加压结构和掩模单元，请结合图1和图4，该掩模单元000可以包括：压敏变色结构0000。

在控制器控制加压结构01向其对应的掩模单元000施加第一压力时，该掩模单元000中的压敏变色结构在该第一压力的作用下，由图4中未变色的初始状态转为图5中变色状态，以使该掩模单元000由图4中透光状态转为图5中遮光状态。

在控制器控制加压结构01向其对应的掩模单元000施加第二压力时，该掩模单元000中的压敏变色结构000在该第二压力的作用下，由图5中变色状态转为图4中初始状态，以使该掩模单元000由图5中遮光状态转为图4中透光状态。

需要说明的是，为了保证在掩模单元000处于透光状态时，光线能够透过该掩模单元000，该掩模单元000对应的加压结构01是否透光，与该加压结构 01在参考平面M1上的正投影区域Y1，是否覆盖掩模单元000在参考平面M1 上的正投影区域Y2中所有区域相关联。该参考平面M1平行于该掩模单元000 所在掩模板。

示例地，如图4所示，在正投影区域Y1覆盖正投影区域Y2中所有区域时，该加压结构01透光。在该加压结构01对应的掩模单元000处于透光状态，且加压结构01远离该掩模单元000的一侧有光线(图4中未示出)射入时，该光线能够穿过该透光的加压结构01和掩模单元000。

图6为本发明实施例提供的另一种加压结构及其对应的掩模单元的位置关系示意图，如图6所示，该正投影区域Y1覆盖正投影区域Y2的部分区域，且该加压结构01可以透光或不透光。在该加压结构01不透光，掩模单元000处于透光状态，且在加压结构01远离掩模单元000的一侧有光线(图6中未示出) 时，该光线能够从该掩模单元000上未被该加压结构01覆盖的区域穿过该掩模单元000。

图7为本发明实施例提供的另一种掩模装置的结构示意图，图8为本发明实施例提供的又一种加压结构及其对应的掩模单元的位置关系示意图，且该加压结构和掩模单元可以为图7中的加压结构和掩模单元。请结合图7和图8，该掩模装置0中每个加压结构01可以包括：电场施加元件A1以及至少一个压电元件A2，且控制器02与电场施加元件A1连接。

其中，控制器可以用于：控制第一加压结构中的电场施加元件A1向压电元件A2施加电场，以使该第一加压结构中的压电元件A2在电场的作用下变形，并向与该第一加压结构对应的掩模单元000施加第一压力。

示例地，请结合图8和图9，控制器在控制第一加压结构中的电场施加元件 A1向压电元件A2施加电场后，该第一加压结构中的压电元件A2由图8中的未变形状态转变为图9中的变形状态，使该掩模单元000处于在第一压力下的受压状态，从而使得该掩模单元000由图8中的透光状态转变为图9中的遮光状态。

控制器还可以用于：控制第二加压结构中的电场施加元件A1停止向压电元件A2施加电场，以使该第二加压结构中的压电元件A2在电场消失后恢复形状，并向与该第二加压结构对应的掩模单元000施加第二压力。

示例地，请结合图8和图9，控制器在控制第二加压结构中的电场施加元件 A1停止向压电元件A2施加电场后，该第二加压结构中的压电元件A2由图9中的变形状态转变为图8中的未变形状态，使该掩模单元000处于在第二压力下的受压状态，从而使得该掩模单元000由图9中的遮光状态转变为图8中的透光状态。

需要说明的是，本发明实施例中仅加压结构01中电场施加元件A1在参考平面M1上的正投影区域Y3，覆盖掩模单元000在参考平面M1上的正投影区域Y2中所有区域，且该电场施加元件A1透光。加压结构01中压电元件A2在参考平面M1上的正投影区域Y4覆盖正投影区域Y2中部分区域，且该压电元件A2不透光为例。可选地，该正投影区域Y3和Y4均可以覆盖正投影区域Y2 中所有区域，且该电场施加元件A1和压电元件A2可以均透光，本发明实施例对此不作限定。

可选地，该压电元件A2可以为陶瓷压电元件，可选地，该压电元件A2还可以为其他材质的压电元件，本发明实施例对此不作限定。

可选地，请继续结合图7和图8，每个加压结构01可以包括：设置在该加压结构01对应的掩模单元000两侧的两个压电元件A2。在该加压结构01中的电场施加元件A1向压电元件A2施加电场时，该两个压电元件A2能够从该掩模单元000的两侧挤压该掩模单元000，使得该掩模单元000可以更快的由透光状态转为遮光状态。

需要说明的是，本发明实施例中仅以每个加压结构包括两个压电元件，且该两个压电元件设置在该加压结构对应的掩模单元的两侧为例，可选地，每个加压结构还可以包括其他个数(如三个)的压电元件，且每个加压结构中的所有压电元件可以设置在该加压结构对应的掩模单元的一侧，本发明实施例对此不作限定。

可选地，对于每个加压结构01，该加压结构01中的电场施加元件A1可以包括：相对设置的两个透光电极A11。且该加压结构01中的至少一个压电元件 A2和该加压结构01对应的掩模单元，可以均位于在该两个透光电极A11之间，且控制器02可以与每个透光电极A11均连接(图7中仅示出了控制器02与多个透光电极A11中的一个透光电极A11的连接关系)。

控制器可以用于：向两个透光电极A11施加不同的电压，以向压电元件A2 施加电场，以及停止向两个透光电极A11施加电压，以停止向压电元件A2施加电场。

可选地，该透光电极A11的材质可以为氧化铟锡，可选地，该透光电极A11 的材质还可以为其他材质(如氧化铟锌)，本发明实施例对此不作限定。

需要说明的是，本发明实施例中仅以每个加压结构中电场施加元件包括相对设置的两个透光电极，且该加压结构中至少一个压电元件和该加压结构对应的掩模单元位于该两个透光电极之间为例。可选地，每个加压结构中的电场施加元件还可以包括一个透光电极，且该加压结构中至少一个压电元件和该加压结构对应的掩模单元位于该透光电极的一侧，本发明实施例对此不作限定。

图10为本发明实施例提供的再一种掩模装置的结构示意图，图11为图10中截面B-B的示意图。请结合图10和图11，该掩模装置0中掩模板00还可以包括：遮光隔离结构002，该遮光隔离结构002可以用于隔离任意两个相邻的掩模单元000。

在掩模单元000对应的加压结构01向该掩模单元000施加压力的过程中，该遮光隔离结构002可以减缓因该掩模单元000变形而对其相邻的掩模单元000 的影响。

可选地，该遮光隔离结构002还可以用于隔离任意两个相邻的加压结构01。在加压结构01中的电场施加元件A1向压电元件A2施加电场的过程中，该遮光隔离结构002可以减缓该加压结构01中，电场施加元件A1对与该加压结构01相邻的加压结构01中压电元件A2的影响。

综上所述，在本发明实施例提供的掩模装置中，控制器能够通过控制多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加第一压力，以使该掩模单元处于遮光状态，且该控制器还能够通过控制多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加第二压力，以使该掩模单元处于透光状态。以便于调整这些掩模单元所在掩模板的透光区域，使得该掩模板可以具有多种不同形状和尺寸的透光区域，以适应不同形状和尺寸的膜层。避免了在使用掩模装置对多种不同形状和尺寸的膜层进行掩模时，因需更换不同形状和尺寸的掩模板而耗费较多时间，提高了掩模装置的工作效率。

本发明实施例提供了一种掩模控制方法，该掩模控制方法可以用于上述掩模装置中的控制器，该掩模控制方法可以包括：

控制多个加压结构中的第一加压结构向对应的掩模单元施加第一压力，以使第一加压结构对应的掩模单元处于遮光状态。

控制多个加压结构中的第二加压结构向对应的掩模单元施加第二压力，以使第二加压结构对应的掩模单元处于透光状态。

示例地，如图1所示，控制器02可以控制多个加压结构01中每个加压结构01均向其对应的掩模单元000施加压力，以使掩模板00中所有掩模单元000 均处于透光状态，以将掩模板00的透光区域的形状调整为矩形，且该透光区域的尺寸可以为第一尺寸。此时，该掩模板00能够对形状为矩形的膜层进行掩模。

另外，如图3所示，控制器02还可以控制多个加压结构中，一部分加压结构中每个加压结构均向其对应的掩模单元000施加第一压力，以使该掩模板00 中一部分掩模单元000均处于透光状态。并控制另一部分加压结构中每个加压结构均向其对应的掩模单元000施加第二压力，以使该掩模板00中另一部分掩模单元000均处于遮光状态，且该一部分掩模单元000可以包围该另一部分掩模单元000。以将该掩模板00中的透光区域的形状调整为环形，且该透光区域的尺寸可以为与第一尺寸不同的第二尺寸。此时，该掩模板00能够对形状为环形的膜层进行掩模。

综上所述，在本发明实施例提供的掩模控制方法中，能够通过控制多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加第一压力，以使该掩模单元处于遮光状态，且能够通过控制多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加第二压力，以使该掩模单元处于透光状态。以便于调整这些掩模单元所在掩模板的透光区域，使得该掩模板可以具有多种不同形状和尺寸的透光区域，以适应不同形状和尺寸的膜层。避免了在使用掩模装置对多种不同形状和尺寸的膜层进行掩模时，因需更换不同形状和尺寸的掩模板而耗费较多时间，提高了掩模装置的工作效率。

本发明实施例还提供了一种控制多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加第一压力的方法，该方法可以包括：

控制第一加压结构中的电场施加元件向压电元件施加电场，以使第一加压结构中的压电元件在电场的作用下变形，并向与第一加压结构对应的掩模单元施加第一压力。

示例地，请结合图8和图9，控制器在控制第一加压结构中的电场施加元件 A1向压电元件A2施加电场后，该第一加压结构中的压电元件A2由图8中的未变形状态转变为图9中的变形状态，使该掩模单元000处于在第一压力下受压状态，从而使得该掩模单元000由图8中的透光状态转变为图9中的遮光状态。

本发明实施例还提供了一种控制多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加第二压力的方法，该方法可以包括：

控制多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加第二压力，包括：控制第二加压结构中的电场施加元件停止向压电元件施加电场，以使第二加压结构中的压电元件在电场消失后恢复形状，并向与第二加压结构对应的掩模单元施加第二压力。

示例地，请继续结合图8和图9，控制器在控制第二加压结构中的电场施加元件A1停止向压电元件A2施加电场后，该第二加压结构中的压电元件A2由图9中的变形状态转变为图8中的未变形状态，使该掩模单元000处于在第二压力下受压状态，从而使得该掩模单元000由图9中的遮光状态转变为图8中的透光状态。

本发明实施例还提供了一种控制第一加压结构中的电场施加元件向压电元件施加电场的方法，该方法可以包括：

向第一加压结构中的两个透光电极施加不同的电压，以向第一加压结构中的压电元件施加电场。

本发明实施例还提供了一种控制第二加压结构中的电场施加元件停止向压电元件施加电场，该方法可以包括：

停止向第二加压结构中的两个透光电极施加电压，以停止向第二加压结构中的压电元件施加电场。

综上所述，在本发明实施例提供的掩模控制方法中，能够通过控制多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加第一压力，以使该掩模单元处于遮光状态，且能够通过控制多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加第二压力，以使该掩模单元处于透光状态。以便于调整这些掩模单元所在掩模板的透光区域，使得该掩模板可以具有多种不同形状和尺寸的透光区域，以适应不同形状和尺寸的膜层。避免了在使用掩模装置对多种不同形状和尺寸的膜层进行掩模时，因需更换不同形状和尺寸的掩模板而耗费较多时间，提高了掩模装置的工作效率。

需要说明的是，本发明实施例提供的装置实施例能够与相应的方法实施例相互参考，本发明实施例对此不做限定。本发明实施例提供的方法实施例步骤的先后顺序能够进行适当调整，步骤也能够根据情况进行相应增减，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未发明的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由权利要求指出。

应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (10)

1.一种掩模装置，其特征在于，所述掩模装置包括：掩模板、多个加压结构和控制器，

所述掩模板包括与所述多个加压结构一一对应的多个掩模单元，所述掩模单元在受到第一压力时处于遮光状态，且在受到第二压力时处于透光状态，所述控制器与每个所述加压结构均连接；

所述控制器用于：控制所述多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加所述第一压力，以使所述第一加压结构对应的掩模单元处于所述遮光状态；控制所述多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加所述第二压力，以使所述第二加压结构对应的掩模单元处于所述透光状态。

2.根据权利要求1所述的掩模装置，其特征在于，每个所述加压结构包括：电场施加元件以及至少一个压电元件，所述控制器与所述电场施加元件连接，所述控制器用于：

控制所述第一加压结构中的电场施加元件向压电元件施加电场，以使所述第一加压结构中的压电元件在所述电场的作用下变形，并向与所述第一加压结构对应的所述掩模单元施加所述第一压力；

控制所述第二加压结构中的电场施加元件停止向压电元件施加所述电场，以使所述第二加压结构中的压电元件在所述电场消失后恢复形状，并向与所述第二加压结构对应的所述掩模单元施加所述第二压力。

3.根据权利要求2所述的掩模装置，其特征在于，每个所述加压结构包括：设置在其对应的掩模单元两侧的两个所述压电元件。

4.根据权利要求2或3所述的掩模装置，其特征在于，对于每个所述加压结构，所述电场施加元件包括：相对设置的两个透光电极，所述至少一个压电元件和所述加压结构对应的掩模单元均位于所述两个透光电极之间，所述控制器与每个所述透光电极均连接；

所述控制器用于：向所述两个透光电极施加不同的电压，以向所述压电元件施加所述电场；以及停止向所述两个透光电极施加电压，以停止向所述压电元件施加所述电场。

5.根据权利要求1至3任一所述的掩模装置，其特征在于，所述掩模板还包括：遮光隔离结构，所述遮光隔离结构用于隔离任意两个相邻的掩模单元。

6.根据权利要求1至3任一所述的掩模装置，其特征在于，所述掩模单元包括：压敏变色结构。

7.根据权利要求2或3所述的掩模装置，其特征在于，所述压电元件为陶瓷压电元件。

8.一种掩模控制方法，其特征在于，用于权利要求1至7任一所述的掩模装置中的控制器，所述掩模装置还包括：掩模板和多个加压结构，所述掩模板包括与所述多个加压结构一一对应的多个掩模单元，所述掩模单元在受到第一压力时处于遮光状态，且在受到第二压力时处于透光状态，所述控制器与每个所述加压结构均连接，所述方法包括：

控制所述多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加所述第一压力，以使所述第一加压结构对应的掩模单元处于所述遮光状态；

控制所述多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加所述第二压力，以使所述第二加压结构对应的掩模单元处于所述透光状态。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，每个所述加压结构包括：电场施加元件以及至少一个压电元件，所述控制器与所述电场施加元件连接，

控制所述多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加所述第一压力，包括：控制所述第一加压结构中的电场施加元件向压电元件施加电场，以使所述第一加压结构中的压电元件在所述电场的作用下变形，并向与所述第一加压结构对应的所述掩模单元施加所述第一压力；

控制所述多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加所述第二压力，包括：控制所述第二加压结构中的电场施加元件停止向压电元件施加所述电场，以使所述第二加压结构中的压电元件在所述电场消失后恢复形状，并向与所述第二加压结构对应的所述掩模单元施加所述第二压力。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于，对于每个所述加压结构，所述电场施加元件包括：相对设置的两个透光电极，所述至少一个压电元件和所述加压结构对应的掩模单元均位于所述两个透光电极之间，所述控制器与每个所述透光电极均连接；

控制所述第一加压结构中的电场施加元件向压电元件施加电场，包括：向所述第一加压结构中的两个透光电极施加不同的电压，以向所述第一加压结构中的压电元件施加所述电场；

控制所述第二加压结构中的电场施加元件停止向压电元件施加所述电场，包括：停止向所述第二加压结构中的两个透光电极施加电压，以停止向所述第二加压结构中的压电元件施加电场。