CN108957834A - 彩色滤光片基板、显示面板及彩色滤光片基板制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种彩色滤光片基板、显示面板及彩色滤光片基板制备方法，该彩色滤光片基板包括：玻璃基板；彩色层，形成在所述玻璃基板上，其包括多个顺序排列的红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分；其中，所述彩色层设置有高透光区域，所述高透光区域的透光率大于所述彩色层的透光率，所述彩色层的所述高透光区域对应阵列基板上产生暗纹的区域。通过上述方式，本发明能够消除显示面板上的暗纹，提高显示亮度。

Description

彩色滤光片基板、显示面板及彩色滤光片基板制备方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种彩色滤光片基板、显示面板及彩色滤光片基板制备方法。

背景技术

随着显示技术的不断发展，人们对显示视角的广度及显示亮度的要求也来越高，如何进一步扩大显示视角并提高显示亮度成为研究热点。

现有技术中，由于对像素电极进行分割，某些区域无法透光等原因会在阵列基板的对应位置出现暗纹，使显示面板的显示亮度降低。

本申请的发明人在长期的研发过程中，发现现有的显示面板有暗纹，显示效果差。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种彩色滤光片基板、显示面板及彩色滤光片基板制备方法，能够消除显示面板上的暗纹，提高显示亮度。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种彩色滤光片基板。

其中，该彩色滤光片基板包括；

玻璃基板；

彩色层，形成在该玻璃基板上，其包括多个顺序排列的红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分；

其中，该彩色层设置有高透光区域，该高透光区域的透光率大于该彩色层的透光率，该彩色层的该高透光区域对应阵列基板上产生暗纹的区域。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种彩色滤光片基板的制备方法。

其中，该方法包括：

提供玻璃基板；

在该玻璃基板上形成彩色层，该彩色层包括多个顺序排列的红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分；

在该彩色层形成高透光区域，其中，该高透光区域的透光率大于该彩色层的透光率，且该高透光区域对应阵列基板上产生暗纹的区域。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种显示面板。

其中，该显示面板包括任一所述彩色滤光片基板。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明的彩色滤光片基板在阵列基板上产生暗纹区域的对应位置设置高透光区域，而该彩色滤光片基板与阵列基板上非暗纹区域的对应区域透光率低于该高透光区域，这样，原本经过不同颜色的光阻部分的光变为通过高透光区域穿过该彩色层，在相同的光照强度下，该高透光区域有更多的光穿过，体现在阵列基板上即为该产生暗纹区域亮度提升，有利于缩小暗纹区域与非暗纹区域的亮度差别，进而消除显示暗纹，提高显示亮度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：

图1是本发明一种彩色滤光片基板一实施方式的结构示意图；

图2是图1中彩色滤光片基板的俯视图；

图3是像素电极一实施方式的结构示意图；

图4是本发明一种彩色滤光片基板制备方法一实施方式的流程示意图；

图5是本发明一种显示面板一实施方式的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

参阅图1和图2，图1是本发明一种彩色滤光片基板一实施方式的结构示意图，图2是图1中彩色滤光片基板的俯视图，该彩色滤光片基板包括：

玻璃基板100；彩色层200，形成在该玻璃基板100上，其包括多个顺序排列的红色光阻部分210、绿色光阻220部分以及蓝色光阻部分230；其中，该彩色层200设置有高透光区域400，该高透光区域400的透光率大于该彩色层200的透光率，该彩色层200的该高透光区域400对应阵列基板上产生暗纹的区域。

在本实施方式中，彩色滤光片基板在阵列基板上产生暗纹区域的对应位置设置高透光区域400，而该彩色层200与阵列基板上非暗纹区域的对应区域透光率低于该高透光区域400，这样，原本经过不同颜色的光阻部分的光变为通过高透光区域400穿过该彩色层200，在相同的光照强度下，该高透光区域400有更多的光穿过，体现在阵列基板上即为该产生暗纹区域亮度提升，有利于缩小暗纹区域与非暗纹区域的亮度差别，进而消除显示暗纹，提高显示亮度。

进一步的，该不同颜色的光阻的排列方式可以马赛克式、三角形式、直条式或四画素式中的一种或多种的组合。为简化生产工艺，提高生产效率，在一个实施方式中，该光阻的排列方式为直条式。更进一步的，在该玻璃基板100表面形成该彩色层200之前还包括，采用光刻工艺形成黑矩阵300，该黑矩阵300包括阵列分布的多个遮光单元，用于将不同颜色的光阻间隔开，改善显示图像的对比度。当该不同颜色的光阻采用直条式分布时，该黑矩阵300中的遮光单元对应设置为条状遮光单元。

在一个实施方式中，该彩色层200设置有开孔或设置有镂空区域而形成该高透光区域400。在本实施方式中，该开孔和该镂空区域可以完全贯通或部分贯通该彩色层，只要有更多的光穿过阵列基板上该产生暗纹区域对应的该彩色层200即可。进一步的，该开孔和该镂空区域可以是通过光刻技术形成的，也可以是通过激光切割方式形成的。为简化工艺并进一步提高生产效率，采用光刻技术制备该高透光区域400。

在另一个实施方式中，该开孔的位置或该镂空区域的位置填充有透光材料。为降低产生暗纹区域与周围区域亮度的差别，该透光材料的透光率大于彩色层中不同颜色的光阻部分的透光率。更进一步的，该透光材料包括高穿透率光阻材料、白色色阻材料或无色阻过滤高穿透材料中的一种或两种及以上的组合。该高穿透率光阻包括环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚酰亚胺中的一种或两种及以上的组合。该无色阻过滤高穿透材料包括环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚酰亚胺中的一种或两种及以上的组合。当然，该透光材料的填充深度不大于该开孔或该镂空区域的深度，在一个实施方式中，为获得更好的显示效果，该透光材料的填充深度不大于该开孔或该镂空区域的深度相同。在该高透光区域填充的材料为白色光阻材料，也即在该高透光区域形成了白色光阻，这样该彩色层200除了包括红色光阻部分210、绿色光阻220部分以及蓝色光阻部分230外，还包括白色光阻部分，这样，该彩色滤光片基板可以用于制备RGBW显示器，获得更好的显示效果。

在一个实施方式中，该产生暗纹的区域在对应的该高透光区域400的投影落在该高透光区域400内。在本实施方式中，该产生暗纹的区域对应的该彩色滤光片基板上的区域均为该高透光区域400。也就是说，该高透光区域400的形状与该产生暗纹区域的形状相同，且该高透光区域400在任意方向的尺寸不小于该产生暗纹区域在相同方向的尺寸。这样，在相同的光照强度下，非暗纹区域相比，该产生暗纹的区域有更多的光穿过，有利于缩小暗纹区域与非暗纹区域的亮度差别，进而消除显示暗纹，提高显示亮度。

由于生产缺陷或产品工艺的不同，该阵列基板的某些区域会产生暗纹区域，这些暗纹区域是由于背光的透过率较周围区域低导致的，体现在显示面板上即为亮度较周围区域低。在本实施方式中，请进一步参考图3，图3是像素电极一实施方式的结构示意图，在获得广视角及改变色偏问题过程中，将一个子像素划分成多个区域，并使每个区域中的液晶在施加电压后倒伏向不同的方向，从而使各个方向看到的效果趋于一致。而采用水平边界线20和垂直边界线40进行像素划分过程时，水平边界线20和垂直边界线40处的液晶倒向0°或90°，无法透光，对应的，在阵列基板上出现了暗纹区域。

在一个实施方式中，为提高该暗纹区亮度，该彩色层中该高透光区域400对应该阵列基板上龙骨形状的像素电极的位置，也即该高透光区域400对应该水平边界线20和垂直边界线40。当该红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分对应的区域均设有龙骨状的像素电极时，该红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分对应的区域均设置有该高透光区域。该高透光区域的形状与像素电极的分割边界(也即水平边界线20和垂直边界线40)的形状相同。在一个实施方式中，该像素电极的分割边界为十字形，则该高透光区域400为十字形。为了提高该产生暗纹区域的亮度，该高透光区域400的宽度大于该龙骨形状的像素电极的宽度，这样，穿过该产生暗纹的区域的光都是经过该高透光区域400穿出的，能够有效提高该产生暗纹区域的亮度，提升显示效果。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种彩色滤光片基板的制备方法。请参考图4，图4是本发明一种彩色滤光片基板制备方法一实施方式的流程示意图，其中，该方法包括步骤：

S100、提供玻璃基板。

在该步骤S100中，该玻璃基板在使用前进行除尘处理，提高该剥离基板与相邻结构的粘附性。

S200、在该玻璃基板上形成彩色层，该彩色层包括多个顺序排列的红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分。

在该步骤S200中，在进行除尘处理后的该玻璃基板上形成彩色层，该彩色层包括多个顺序排列的红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分，该不同颜色的光阻的排列方式可以马赛克式、三角形式、直条式或四画素式中的一种或多种的组合。为简化生产工艺，提高生产效率，在一个实施方式中，该光阻块的排列方式为直条式。

进一步的，在该玻璃基板表面形成颜色层之前还包括，采用光刻工艺形成黑矩阵，该黑矩阵包括阵列分布的多个遮光单元，用于将不同颜色的光阻间隔开，改善显示图像的对比度。更进一步的，当该不同颜色的光阻采用直条式分布时，该黑矩阵中的遮光单元对应设置为条状遮光单元。

S300、在该彩色层形成高透光区域，其中，该高透光区域的透光率大于该彩色层的透光率，且该高透光区域对应阵列基板上产生暗纹的区域。

由于生产缺陷或产品工艺的不同，该阵列基板的某些区域会产生暗纹区域，这些暗纹区域是由于背光的透过率较周围区域低，体现在显示面板上即为亮度较周围区域低。在该步骤S300中，针对阵列基板上产生暗纹的区域，至少在该彩色滤光片基板上的彩色层的对应位置形成高透光区域，且该高透光区域的透光率大于该彩色层的透光率，这样，原本经过不同颜色的光阻部分的光变为通过高透光区域穿过该彩色层，在相同的光照强度下，该高透光区域有更多的光穿过，体现在阵列基板上即为该产生暗纹区域亮度提升，有利于缩小暗纹区域与非暗纹区域的亮度差别，进而消除显示暗纹，提高显示亮度。

在一个实施方式中，该在该玻璃基板上形成彩色层，包括：通过光刻技术在该玻璃基板上形成包括多个顺序排列的红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分的彩色层，同时在彩色层形成开孔或形成无色阻的镂空区域。在本实施方式中，该开孔和该镂空区域可以完全贯通或部分贯通该彩色层，只要有更多的光穿过阵列基板上该产生暗纹区域对应的该彩色层即可。进一步的，该开孔和该镂空区域可以是通过光刻技术形成的，也可以是通过激光切割方式形成的。为简化工艺并进一步提高生产效率，采用光刻技术制备该高透光区域。具体的，在光刻过程中，通过调整光罩不同区域的光透过率，使用同一光罩，在某一光照强度下完成该开孔或形成无色阻的镂空区域，在另一光照强度下在该彩色层表面形成光阻，有利于简化该彩色滤光片基板的生产工艺。

进一步的，该方法还包括：在该开孔的位置或该镂空区域的位置填充透光材料；该透光材料包括高穿透率光阻材料、白色色阻材料或无色阻过滤高穿透材料中的一种或两种及以上的组合。在本实施方式中，该开孔的位置或该镂空区域的位置填充有透光材料。为降低产生暗纹区域与周围区域亮度的差别，该透光材料的透光率大于彩色层中不同颜色的光阻部分的透光率。更进一步的，该透光材料包括高穿透率光阻材料、白色色阻材料或无色阻过滤高穿透材料中的一种或两种及以上的组合。该高穿透率光阻包括环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚酰亚胺中的一种或两种及以上的组合。该无色阻过滤高穿透材料包括环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚酰亚胺中的一种或两种及以上的组合。当然，该透光材料的填充深度不大于该开孔或该镂空区域的深度，在一个实施方式中，为获得更好的显示效果，该透光材料的填充深度不大于该开孔或该镂空区域的深度相同。在该高透光区域填充的材料为白色光阻材料，也即在该高透光区域形成了白色光阻，这样该彩色层除了包括红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分外，还包括白色光阻部分，这样，该彩色滤光片基板可以用于制备RGBW显示器，获得更好的显示效果。

在另一个实施方式中，该产生暗纹的区域在对应的该高透光区域的投影落在该高透光区域内。在本实施方式中，该产生暗纹的区域对应的该彩色滤光片基板上的区域均为该高透光区域。也就是说，该高透光区域400的形状与该产生暗纹区域的形状相同，且该高透光区域在任意方向的尺寸不小于该产生暗纹区域在相同方向的尺寸。这样，在相同的光照强度下，非暗纹区域相比，该产生暗纹的区域有更多的光穿过，有利于缩小暗纹区域与非暗纹区域的亮度差别，进而消除显示暗纹，提高显示亮度。

由于生产缺陷或产品工艺的不同，该阵列基板的某些区域会产生暗纹区域，这些暗纹区域是由于背光的透过率较周围区域低导致的，体现在显示面板上即为亮度较周围区域低。在本实施方式中，请再次参考图3，在获得广视角及改变色偏问题过程中，将一个子像素划分成多个区域，并使每个区域中的液晶在施加电压后倒伏向不同的方向，从而使各个方向看到的效果趋于一致。而采用水平边界线20和垂直边界线40进行像素划分过程时，水平边界线20和垂直边界线40处的液晶倒向0°或90°，无法透光，对应的，在阵列基板上出现了暗纹区域。

在一个实施方式中，为提高该暗纹区亮度，该彩色层中该高透光区域对应该阵列基板上龙骨形状的像素电极的位置，也即该高透光区域对应该水平边界线20和垂直边界线40。当该红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分对应的区域均设有龙骨状的像素电极时，该红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分对应的区域均设置有该高透光区域。该高透光区域的形状与像素电极的分割边界(也即水平边界线20和垂直边界线40)的形状相同。在一个实施方式中，该像素电极的分割边界为十字形，则该高透光区域为十字形。为了提高该产生暗纹区域的亮度，该高透光区域的宽度大于该龙骨形状的像素电极的宽度，这样，穿过该产生暗纹的区域的光都是经过该高透光区域穿出的，能够有效提高该产生暗纹区域的亮度，提升显示效果。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种显示面板。请参考图5，图5是本发明一种显示面板一实施方式的结构示意图，其中，该显示面板1包括任一该彩色滤光片基板10。在本实施方式中，该显示面板可以是液晶显示面板、OLED(有机发光二极管)显示面板、LTPS(低温多晶硅)显示面板、α-Si(非晶硅)显示面板及柔性显示面板等。由于本发明的显示面板中的彩色滤光片基板在相应的阵列基板可能出现横纹的区域的对应位置设置了高透光区域，与穿过彩色层的色阻块相比，背光更容易穿过该高透光区域，增强可能出现横纹区域的亮度，缩小该可能出现横纹区域与非横纹区域的亮度差，有利于提高产品质量。在一个实施方式中，该显示面板为液晶显示面板，该面板包括该彩色滤光片基板，有该彩色滤光片基板对应设置的阵列基板，以及夹设在该阵列基板与该彩色滤光片基板之间的液晶层。

综上该，本发明公开了一种彩色滤光片基板、显示面板及彩色滤光片基板制备方法，该彩色滤光片基板包括：玻璃基板；彩色层，形成在该玻璃基板上，其包括多个顺序排列的红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分；其中，该彩色层设置有高透光区域，该高透光区域的透光率大于该彩色层的透光率，该彩色层的该高透光区域对应阵列基板上产生暗纹的区域。通过上述方式，本发明能够消除显示面板上的暗纹，提高显示亮度。

以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种彩色滤光片基板，其特征在于，

玻璃基板；

彩色层，形成在所述玻璃基板上，其包括多个顺序排列的红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分；

其中，所述彩色层设置有高透光区域，所述高透光区域的透光率大于所述彩色层的透光率，所述彩色层的所述高透光区域对应阵列基板上产生暗纹的区域。

2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述彩色层设置有开孔或设置有无色阻的镂空区域而形成所述高透光区域。

3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述开孔的位置或所述镂空区域的位置填充有透光材料。

4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述透光材料包括高穿透率光阻材料、白色色阻材料或无色阻过滤高穿透材料中的一种或两种及以上的组合。

5.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述产生暗纹的区域在对应的所述高透光区域的投影落在所述高透光区域内。

6.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述彩色层的所述高透光区域对应所述阵列基板上龙骨形状的像素电极的位置；所述红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分均设置有所述高透光区域；所述彩色层的所述高透光区域为十字形；所述高透光区域的宽度大于所述龙骨形状的像素电极的宽度。

7.一种彩色滤光片基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供玻璃基板；

在所述玻璃基板上形成彩色层，所述彩色层包括多个顺序排列的红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分；

在所述彩色层形成高透光区域，其中，所述高透光区域的透光率大于所述彩色层的透光率，且所述高透光区域对应阵列基板上产生暗纹的区域。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述在所述玻璃基板上形成彩色层，包括：

通过光刻技术在所述玻璃基板上形成包括多个顺序排列的红色光阻部分、绿色光阻部分以及蓝色光阻部分的彩色层，同时在彩色层形成开孔或形成无色阻的镂空区域。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在所述开孔的位置或所述镂空区域的位置填充透光材料；

所述透光材料包括高穿透率光阻材料、白色色阻材料或无色阻过滤高穿透材料中的一种或两种及以上的组合。

10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括如权利要求1-7任一项所述的彩色滤光片基板。