CN108507227B - 一种利用辐射制冷的冷却水系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种利用辐射制冷的冷却水系统,包括:注水缓冲装置、辐射制冷装置和控制系统;所述注水缓冲装置包括缓冲罐和进液电动截止阀;辐射制冷装置包括:出液电动截止阀、制冷池以及与所述制冷池适配的制冷盖;所述传热基板背离所述制冷池的一面覆盖有一层辐射制冷薄膜,所述辐射制冷薄膜由透明高分子基体和嵌于透明高分子基体内的玻璃微珠组成,所述玻璃微珠为SiO2、TiO2、SiC和SiS2中的一种或者多种;所述控制系统包括:控制器、缓冲液位计、缓冲温度传感器、制冷液位计和制冷温度传感器。本发明技术方案旨在设计一套可以与外在条件无缝衔接,无动力耗电设备,实现全天候水制冷放的系统。
Description
技术领域
本发明涉及冷却水系统技术领域,特别涉及一种利用辐射制冷的冷却水系统。
背景技术
现有的冷却水的节能方法和装置,主要采用泵、风机等强化与空气的换热效果,或者凉水塔;这两种方式达到强化传热与节能的目的。适用于单一的开式、闭式系统,难以与外在条件进行无缝衔接;而且能耗也不低。
因此,针对现有技术的缺陷有必要提出一种新的技术方案。
发明内容
本发明的主要目的是提出一种利用辐射制冷的冷却水系统,旨在设计一套可以与外在条件无缝衔接,无动力耗电设备,实现全天候水制冷放的系统。
为实现上述目的,本发明提出的一种利用辐射制冷的冷却水系统,包括:注水缓冲装置、辐射制冷装置和控制系统;
所述注水缓冲装置包括缓冲罐和进液电动截止阀,所述缓冲罐的罐体一侧开设有一出液口,所述进液电动截止阀的输入端通过管道与所述出液口连接;
辐射制冷装置包括:出液电动截止阀、制冷池以及与所述制冷池适配的制冷盖,所述制冷池的侧壁上开设有制冷进口和制冷出口,所述制冷进口通过管道与所述进液电动截止阀的输出端连接,所述制冷出口通过管道与所述出液电动截止阀连接;所述制冷盖包括传热基板,所述传热基板背离所述制冷池的一面覆盖有一层辐射制冷薄膜,所述辐射制冷薄膜由透明高分子基体和嵌于透明高分子基体内的玻璃微珠组成,所述玻璃微珠为SiO2、TiO2、SiC和SiS2中的一种或者多种;
所述控制系统包括:控制器、缓冲液位计、缓冲温度传感器、制冷液位计和制冷温度传感器;所述控制器分别与所述缓冲液位计、所述缓冲温度传感器、所述制冷液位计和所述制冷温度传感器控制连接;所述缓冲液位计和所述缓冲温度传感器设置于所述缓冲罐内,所述制冷液位计和所述制冷温度传感器设置在所述制冷池内。
优选地,所述辐射制冷薄膜朝向所述传热基板的一面涂布有一层反射金属。
优选地,所述反射金属为Ag或Al。
优选地,所述传热基板背离所述辐射制冷薄膜的一面开设有若干波浪型凹槽。
优选地,所述传热基板的板材为钢、铝或者铜。
本发明技术方案通过采用传热基板与制冷池中的水进行接触导热,传热基板背离制冷池一面覆盖有辐射制冷薄膜,辐射制冷薄膜实现无电力等能源消耗的被动式降温效果;同时通过控制系统对制冷池和缓冲罐内的水温和水位进行检测,从而对制冷池中的进水和出水进行控制,实现了薄膜全天候、进水与出水动态情况下的平稳运行,受外界影响小;最大程度上提高制冷效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明一实施例的结构示意图;
图2为本发明中辐射制冷薄膜的结构示意图;
图3为本发明中传热基板的结构示意图;
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
本发明提出一种利用辐射制冷的冷却水系统。
在本发明实施例中,该利用辐射制冷的冷却水系统;如图1和图2所示,包括:注水缓冲装置、辐射制冷装置和控制系统;
注水缓冲装置包括缓冲罐1和进液电动截止阀2,缓冲罐1的罐体一侧开设有一出液口3,进液电动截止阀2的输入端通过管道与出液口3连接;
辐射制冷装置包括:出液电动截止阀4、制冷池5以及与制冷池5适配的制冷盖6,制冷池5的侧壁上开设有制冷进口7和制冷出口8,制冷进口7通过管道与进液电动截止阀2的输出端连接,制冷出口8通过管道与出液电动截止阀4连接;制冷盖6包括传热基板9,传热基板9背离制冷池5的一面覆盖有一层辐射制冷薄膜10,辐射制冷薄膜10由透明高分子基体11和嵌于透明高分子基体11内的玻璃微珠12组成;玻璃微珠12为SiO2、TiO2、SiC和SiS2中的一种或者多种。
控制系统包括:控制器、缓冲液位计13、缓冲温度传感器14、制冷液位计15和制冷温度传感器16;控制器分别与缓冲液位计13、缓冲温度传感器14、制冷液位计15和制冷温度传感器16控制连接;缓冲液位计13和缓冲温度传感器14设置于缓冲罐1内,制冷液位计15和制冷温度传感器16设置在制冷池5内。
当制冷液位计15检测到制冷池5中的水位低于传热基板9时,控制器控制减小出液电动截止阀4的开度降低出水量;当制冷液位计15检测到制冷池5中的水位高于传热基板9时,控制器控制减小进液电动截止阀2的开度降低进水量。射制冷薄膜白天制冷功率可达到95W/m2;辐射制冷薄膜10晚上制冷功率可达到103W/m2。
本发明技术方案通过采用传热基板9与制冷池5中的水进行接触导热,传热基板9背离制冷池5一面覆盖有辐射制冷薄膜10,辐射制冷薄膜10实现无电力等能源消耗的被动式降温效果;同时通过控制系统对制冷池5和缓冲罐1内的水温和水位进行检测,从而对制冷池5中的进水和出水进行控制,实现了薄膜全天候、进水与出水动态情况下的平稳运行,受外界影响小;最大程度上提高制冷效果。
在本发明实施例中,辐射制冷薄膜10朝向传热基板9的一面涂布有一层反射金属。将白天的太阳光反射出去,减少阳光对制冷池5中水的温度影响。
在本发明实施例中,反射金属为Ag或Al等反射性能好的金属物质。
在本发明实施例中,如图3所示,传热基板9背离辐射制冷薄膜10的一面开设有若干波浪型凹槽。设计呈波浪形凹槽能够增加传热基板9与水的接触面积,从而能更加高效的传导热量。
在本发明实施例中,传热基板9的板材为钢、铝或者铜等传热性强的材质。
以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的发明构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (5)
1.一种利用辐射制冷的冷却水系统,其特征在于,包括:注水缓冲装置、辐射制冷装置和控制系统;
所述注水缓冲装置包括缓冲罐和进液电动截止阀,所述缓冲罐的罐体一侧开设有一出液口,所述进液电动截止阀的输入端通过管道与所述出液口连接;
辐射制冷装置包括:出液电动截止阀、制冷池以及与所述制冷池适配的制冷盖,所述制冷池的侧壁上开设有制冷进口和制冷出口,所述制冷进口通过管道与所述进液电动截止阀的输出端连接,所述制冷出口通过管道与所述出液电动截止阀连接;所述制冷盖包括传热基板,所述传热基板背离所述制冷池的一面覆盖有一层辐射制冷薄膜,所述辐射制冷薄膜由透明高分子基体和嵌于透明高分子基体内的玻璃微珠组成,所述玻璃微珠为SiO2、TiO2、SiC和SiS2中的一种或者多种;
所述控制系统包括:控制器、缓冲液位计、缓冲温度传感器、制冷液位计和制冷温度传感器;所述控制器分别与所述缓冲液位计、所述缓冲温度传感器、所述制冷液位计和所述制冷温度传感器控制连接;所述缓冲液位计和所述缓冲温度传感器设置于所述缓冲罐内,所述制冷液位计和所述制冷温度传感器设置在所述制冷池内。
2.如权利要求1所述的利用辐射制冷的冷却水系统,其特征在于,所述辐射制冷薄膜朝向所述传热基板的一面涂布有一层反射金属。
3.如权利要求2所述的利用辐射制冷的冷却水系统,其特征在于,所述反射金属为Ag或Al。
4.如权利要求1至3中任意一项所述的利用辐射制冷的冷却水系统,其特征在于,所述传热基板背离所述辐射制冷薄膜的一面开设有若干波浪型凹槽。
5.如权利要求4所述的利用辐射制冷的冷却水系统,其特征在于,所述传热基板的板材为钢、铝或者铜。
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Address after: 315599 No.88, Dongfeng Road, Fenghua District, Ningbo City, Zhejiang Province Applicant after: NINGBO RUILING NEW ENERGY TECHNOLOGY Co.,Ltd. Address before: 518000 Baoju Commercial Building B301, 28 Construction Road, Longcheng Street, Longgang District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant before: SHENZHEN RUILING NEW ENERGY TECHNOLOGY CO.,LTD. |
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GR01 | Patent grant | ||
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