CN108504992A - 电极蒸镀装置 - Google Patents
电极蒸镀装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108504992A CN108504992A CN201810601634.0A CN201810601634A CN108504992A CN 108504992 A CN108504992 A CN 108504992A CN 201810601634 A CN201810601634 A CN 201810601634A CN 108504992 A CN108504992 A CN 108504992A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- locating part
- supporting table
- elastic component
- gag lever
- lever post
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明涉及材料制备技术领域,特别是涉及一种电极蒸镀装置,包括:支撑台、第一限位件、掩膜架、第一弹性件和第二限位件。第一限位件固定于支撑台的一侧,掩膜架滑设于第一限位件;第一弹性件设置于第一限位件和掩膜架之间;第二限位件滑设于支撑台;利用传样抓手将样品安装到支撑台,传样抓手对第二限位件施加外力,第二限位件在外力的作用下,将掩膜架朝远离支撑台的方向推动。当外力撤除时,第一弹性件将掩膜架向支撑台的方向推动,以使掩膜与样品接触。这样,本发明的电极蒸镀装置,不需要利用单独的操作杆来操作掩膜架,而是在完成样品传送的同时实现样品与掩膜的接触。从而便于检测人员操作,简化了操作的步骤,降低了操作的难度。
Description
技术领域
本发明涉及材料制备技术领域,特别是涉及一种电极蒸镀装置。
背景技术
传统的电极蒸镀装置,包括样品托插座、第一限位框、第二限位框和磁力棒,以及支撑结构。所述样品托插座、所述第一限位框和所述第二限位框设置于所述支撑结构的表面。所述样品托插座用于固定样品,且具有相对两个凸棒,定义相互垂直的X方向和Y方向,该两个凸棒的连线平行于X方向。所述第一限位框具有相对的两个第一开口,所述第二限位框具有相对的两个第二开口,该第二限位框和第一限位框依次套设在所述样品托插座上,且凸棒依次穿过第二开口和第一开口。所述支撑结构包括支撑台,所述第一开口具有与所述支撑台的表面成角度的斜面,该斜面的延长线与所述支撑台的表面形成钝角。所述第二开口具有相对的两个与支撑台的表面垂直的侧面,该第二开口用于使所述样品托插座上下移动。磁力棒位于第一限位框的外侧,且该磁力棒沿Y方向延伸。当安装样品的时候,沿着Y方向推动磁力棒,从而使得所述样品托插座由于第一开口中斜面和第二开口的限位而向上移动。当撤回该磁力棒,使磁力棒远离第一限位框时,样品托插座在重力的作用下向下移动。即所述样品托插座在重力作用下向掩膜的位置靠近,以使样品与掩膜接触。
但是,传统的电极蒸镀装置,在实验人员将样品托与样品托插座连接的同时,还需要操作磁力棒,增加了实验人员的操作步骤以及操作难度。
发明内容
基于此,有必要针对传统的电极蒸镀装置增加了实验人员的操作步骤以及操作难度的问题,提供一种操作简便的电极蒸镀装置。
一种电极蒸镀装置,包括:支撑台,用于固定支撑带有样品的样品托;
第一限位件,固定于所述支撑台的一侧;
掩膜架,滑设于所述第一限位件,所述掩膜架用于装载掩膜;
第一弹性件,设置于所述第一限位件和所述掩膜架之间,所述第一弹性件利用自身的弹性恢复力将所述掩膜架朝靠近所述支撑台的方向推动;以及
第二限位件,滑设于所述支撑台,所述第二限位件与所述第一限位件分别位于所述支撑台的两侧;
利用传样抓手对所述第二限位件施加外力,所述第二限位件在所述外力的作用下,将所述掩膜架朝远离所述支撑台的方向推动;当所述外力撤除时,所述第一弹性件将所述掩膜架向所述支撑台的方向推动,以使所述掩膜与所述样品接触。
在其中一个实施例中,所述第一限位件包括第一限位杆,所述第一限位杆的一端固定于所述支撑台;
所述掩膜架设置有用于供所述第一限位杆穿过的第一限位孔;
所述第一弹性件为螺旋弹簧,所述第一弹性件套设于所述第一限位杆,所述第一弹性件的一端与所述第一限位杆远离所述支撑台的一端连接,所述第一弹性件的另一端与所述掩膜架抵接。
在其中一个实施例中,所述第一限位件还包括第一限位凸起,所述第一限位凸起连接于所述第一限位杆远离所述支撑台的一端;所述第一弹性件的一端与所述掩膜架抵接,所述第一弹性件的另一端与所述第一限位凸起抵接。
在其中一个实施例中,所述第一限位杆为多个,多个所述第一限位杆均匀布置于所述支撑台。
在其中一个实施例中,所述第二限位件包括环形架和第二限位杆,所述第二限位杆的一端与所述环形架连接,所述第二限位杆的另一端穿设于所述支撑台且与所述掩膜架抵接;所述支撑台设置有用于滑设所述第二限位杆的第二限位孔。
在其中一个实施例中,所述第二限位件还包括第二限位凸起,所述第二限位凸起连接于所述第二限位杆远离所述环形架的一端;所述第二限位凸起与所述环形架分别位于所述支撑台的两侧。
在其中一个实施例中,电极蒸镀装置还包括:
第二弹性件,设置于所述第二限位件与所述支撑台之间,所述第二弹性件利用自身的弹性恢复力将所述第二限位件朝远离所述支撑台的方向推动。
在其中一个实施例中,所述第二弹性件为螺旋弹簧,所述第二弹性件套设于所述第二限位杆,所述第二弹性件的一端与所述支撑台抵接,所述第二弹性件另一端与所述环形架抵接。
在其中一个实施例中,所述第二限位杆为多个,多个所述第二限位杆均匀布置于所述环形架。
在其中一个实施例中,所述样品托上设置有第一凸起;
所述支撑台包括样品托插座和第三限位件,所述样品托插座与所述第三限位件可拆卸的连接;所述样品托插座的与所述第三限位件相对的表面设有用于容纳所述第一凸起的凹槽;所述第一凸起能够沿所述凹槽滑动并固定于所述凹槽与所述第三限位件形成的空间内;
所述第三限位件形成有用于供所述样品托通过的内孔,所述内孔的侧壁上设有供所述第一凸起滑动的导向槽,所述导向槽与所述凹槽的一端相通。
在其中一个实施例中,所述第三限位件包括三个所述子限位件,三个所述子限位件依次间隔设置,共同围成具有所述内孔的所述第三限位件;相邻的两个所述子限位件之间的间隔形成所述导向槽。
在其中一个实施例中,所述支撑台还包括挡片,所述挡片设置于所述样品托插座与所述第三限位件之间;所述挡片具有与所述凹槽相对的弹性部,所述弹性部具有朝向所述样品托插座的弹性变形。
在其中一个实施例中,所述样品托上还设置有第二凸起;所述传样抓手设置有与所述第二凸起相配合的卡槽。
在其中一个实施例中,所述第二凸起与所述第一凸起的位置相对且平形,所述第一凸起沿所述凹槽向所述凹槽的里侧移动的方向,与所述第二凸起沿所述卡槽向所述卡槽的里侧移动的方向相反。
本申请的有益效果包括:
通过在支撑台的两侧设置有第一限位件和第二限位件,并将掩膜架滑设在第一限位件上,再将第一弹性件设置在掩膜架和第一限位件之间。当需要将样品安装在支撑台上时,利用传样抓手对第二限位件施加外力,使第二限位件推动掩膜架朝远离支撑台的方向移动,此时第一弹性件被压缩。当将样品安装在支撑台上后,外力撤除,在第一弹性件的作用下使得掩膜架上的掩膜与样品接触,从而可以进行样品的处理。这样,本发明的电极蒸镀装置不需要利用单独的操作杆来操作掩膜架,便于检测人员操作,简化了操作的步骤,降低了操作的难度。
附图说明
图1为本发明一实施例提供的电极蒸镀装置的结构示意图;
图2为本发明一实施例提供的电极蒸镀装置中的样品托安装至支撑台的结构示意图;
图3为图2所示结构中掩膜架的示意图;
图4为图2所示结构中样品托的示意图;
图5为图2所示结构的样品托与样品托插座、挡片安装配合的示意图。
其中:
10-电极蒸镀装置;
100-支撑台;
110-样品托插座;111-凹槽;
120-第三限位件;
121-内孔;122-导向槽;123-子限位件;
130-挡片;131-弹性部;
200-第一限位件;
210-第一限位杆;
220-第一限位凸起;
300-掩膜架;
400-第二限位件;
410-环形架;
420-第二限位杆;
430-第二限位凸起;
500-样品托;
510-第一凸起;
520-第二凸起;
600-传样抓手;
610-抵接部;
620-卡槽;
700-样品;
800-掩膜。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下通过实施例,并结合附图,对本发明的电极蒸镀装置进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。相反,当元件被称作“直接在”另一元件“上”时,不存在中间元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
请参见图1至图4所示,本发明一实施例提供的一种电极蒸镀装置10,包括:支撑台100、第一限位件200、掩膜架300、第一弹性件(未图示)和第二限位件400。所述支撑台100用于固定支撑带有样品700的样品托500。所述掩膜架300用于装载掩膜800。所述第一限位件200固定于所述支撑台100的一侧,所述掩膜架300滑设于所述第一限位件200。所述第一弹性件设置于所述第一限位件200和所述掩膜架300之间,所述第一弹性件利用自身的弹性恢复力将所述掩膜架300朝靠近所述支撑台100的方向推动。所述第二限位件400滑设于所述支撑台100,且所述第二限位件400与所述第一限位件200分别位于所述支撑台100的两侧。利用传样抓手600将所述样品托500安装到所述支撑台100,所述传样抓手600对所述第二限位件400施加外力,所述第二限位件400在所述外力的作用下,将所述掩膜架300朝远离所述支撑台100的方向推动。当所述外力撤除时,所述第一弹性件将所述掩膜架300向所述支撑台100的方向推动,以使所述掩膜800与所述样品700接触。
所述第一限位件200是能够滑设所述掩膜架300,且使所述掩膜架300在其上滑设预定距离的结构。所述第一限位件200的结构形式可以为多种。可以理解,所述第一限位件200可以为滑杆、滑轨等结构。在一个实施例中,所述第一限位件200包括第一限位杆210;所述第一限位杆210的一端固定于所述支撑台100。所述掩膜架300设置有用于供所述第一限位杆210穿过的第一限位孔(未图示)。通过所述第一限位杆210与所述第一限位孔的配合,而使所述掩膜架300滑设于所述第一限位件200。
所述第一弹性件的结构形式可以为多种,只要能够实现在所述作用力撤除时,使所述掩膜架300复位的结构均可。可以理解,所述第一弹性件可以为螺旋弹簧;该螺旋弹簧套设于所述第一限位杆210。该螺旋弹簧的一端与所述第一限位杆210远离所述支撑台100的一端连接,该螺旋弹簧的另一端与所述掩膜架300抵接。
在一个实施例中,所述第一限位件200还包括第一限位凸起220,所述第一限位凸起220连接于所述第一限位杆210远离所述支撑台100的一端。所述第一弹性件的一端与所述掩膜架300抵接,所述第一弹性件的另一端与所述第一限位凸起220抵接。可以理解,所述第一限位凸起220可以是与所述第一限位杆210同轴的柱体结构,所述第一限位凸起220的横截面积大于所述第一限位杆210的横截面积。通过设置第一限位凸起220,可便于安装第一弹性件。
可以理解,所述第一限位杆210可以为多个,多个所述第一限位杆210均匀布置在所述支撑台100上。通过将多个所述第一限位杆210均匀布置,可增强所述掩膜架300在所述第一限位件200上运动的稳定性。
所述第二限位件400是能够与所述支撑台100滑设预设距离的结构。可以理解,所述第二限位件400可以是滑杆、滑轨等结构。在一个实施例中,所述第二限位件400包括环形架410和第二限位杆420。所述第二限位杆420的一端与所述环形架410连接,所述第二限位杆420的另一端穿设于所述支撑台100且与所述掩膜架300抵接。所述支撑台100上设置有用于滑设所述第二限位杆420的第二限位孔(未图示)。通过所述第二限位杆420与所述第二限位孔的配合,而使所述第二限位件400滑设于所述支撑台100。从而便于在所述作用力的作用下,推动所述掩膜架300运动。
在一个实施例中,所述第二限位件400还包括第二限位凸起430。所述第二限位凸起430连接于所述第二限位杆420远离所述环形架410的一端,所述第二限位凸起430与所述环形架410分别位于所述支撑台100的两侧。可以理解,所述第二限位凸起430可以是与所述第二限位杆420同轴的柱体结构,所述第二限位凸起430的横截面积大于所述第二限位杆420的横截面积。所述第二限位凸起430的与所述第二限位杆420连接的表面可与所述支撑台100抵接,以阻止所述第二限位杆420脱离所述支撑台100。而所述第二限位凸起430的远离所述第二限位杆420的表面,与所述掩膜架300抵接。
可以理解,所述第二限位杆420可以为多个,多个第二限位杆420均匀布置在所述环形架410上。通过将多个所述第二限位杆420均匀布置,可使所述第二限位件400在所述支撑台100稳定的滑动。
本发明实施例的电极蒸镀装置10,通过在所述支撑台100的两侧设置有所述第一限位件200和所述第二限位件400,并将所述掩膜架300滑设在所述第一限位件200上,再将所述第一弹性件设置在所述掩膜架300和所述第一限位件200之间。利用外力推动所述第二限位件400,所述第二限位件400推动所述掩膜架300朝远离所述支撑台100的方向移动,此时所述第一弹性件被压缩。当所述外力撤除,所述掩膜架300在所述第一弹性件的作用下复位,使得所述掩膜架300上的所述掩膜800与所述样品托500上的所述样品700接触,从而可以进行样品的处理。具体实施时,利用所述传样抓手600抓取所述样品托500,而将所述样品托500固定于所述支撑台100。且在所述传样抓手600将所述样品托500固定于所述支撑台100的过程中,所述传样抓手600对所述第二限位件400施加所述外力。当所述传样抓手600与所述样品托500脱离时,所述外力撤除,所述掩膜架300得以复位。这样,不需要利用单独的操作杆来操作掩膜架300,而是在完成样品传送的同时实现样品700与掩膜800的接触。从而便于检测人员操作,简化了操作的步骤,降低了操作的难度。
请参见图1至图4所示,作为一种可实施的方式,所述电极蒸镀装置10还包括第二弹性件(未图示)。所述第二弹性件设置于所述第二限位件400与所述支撑台100之间。所述第二弹性件利用自身的弹性恢复力将所述第二限位件400朝远离所述支撑台100的方向推动。
所述第二弹力件的结构形式可以为多种,只要能够让所述第二限位件400复位的结构均可。可以理解,所述第二弹性件可以为螺旋弹簧,该螺旋弹簧套设于第二限位杆420。该螺旋弹簧的一端与所述支撑台100抵接,该螺旋弹簧的另一端与所述环形架410抵接。
可以理解,当所述传样抓手600对所述第二限位件400施加所述外力时,所述第二弹性件被压缩。当所述外力撤除时,所述第二弹性件利用自身的弹性恢复力将所述第二限位件400朝远离所述支撑台100的方向推动,即使所述第二限位件400复位。
利用所述第二弹性件来使得所述第二限位件400复位,可避免所述第二限位件400的重量影响所述掩膜架300朝所述靠近支撑台100的方向运动。同时,所述掩膜架300的运动受到所述第一弹性件和所述第二弹性件的双重作用力,可使得所述掩膜架300的运动更加缓慢稳定,保证所述掩膜800与所述样品700的接触安全可靠。此外,在所述第二限位件400与所述支撑台100之间设置有所述第二弹性件,可起到缓冲的作用,从而降低所述第二限位件400对所述掩膜架300的损害。
请参见图1至图5所示,作为一种可实施的方式,所述样品托500上设置有第一凸起510。所述支撑台100包括样品托插座110和第三限位件120,所述样品托插座110与所述第三限位件120可拆卸的连接。所述样品托插座110的与所述第三限位件120相对的表面设有用于容纳所述第一凸起510的凹槽111。所述第一凸起510能够沿所述凹槽111滑动并固定于所述凹槽111与所述第三限位件120形成的空间内。
所述第三限位件120形成有用于供所述样品托500通过的内孔121,所述内孔121的侧壁上设有供所述第一凸起510滑动的导向槽122。所述导向槽122与所述凹槽111的一端相通。
所述样品托500沿所述内孔121向所述样品托插座110运动时,所述第一凸起510沿所述导向槽122滑动并进入至所述凹槽111内,从而所述第一凸起510可固定于所述凹槽111与所述第三限位件120形成的空间内。由此,所述样品托500可固定安装于所述样品托插座110。通过在所述第三限位件120上设置所述导向槽122,可避免所述样品托500在沿所述内孔121运动的过程中发生周向转动。可以理解,所述第一凸起510可以为多个,相应地所述凹槽111也为多个。通过所述第一凸起510沿所述凹槽111滑动,可方便实现所述样品托500固定安装于所述样品托插座110。
所述第三限位件120的结构形式可以为多种。在一个实施中,所述第三限位件120包括三个子限位件123,三个所述子限位件123依次间隔设置,以共同围成具有所述内孔121的所述第三限位件120。相邻的两个所述子限位件123之间的间隔形成所述导向槽122。
作为一种可实施的方式,所述支撑台100还包括挡片130,所述挡片130设置于所述样品托插座110与所述第三限位件120之间。所述挡片130具有与所述凹槽111相对的弹性部131,所述弹性部131具有朝向所述样品托插座110的弹性变形。通过设置所述挡片130,且所述挡片130具有所述弹性部131,能够对所述固定于所述凹槽111与所述第三限位件120形成的空间内的所述第一凸起510起到进一步的固定作用。从而使得所述样品托500能够更加稳定地固定于所述样品托插座110。
在一个实施例中,所述第三限位件120对应所述弹性部131设有避让槽。通过设置所述避让槽,增大了所述弹性部131弹性位移的空间。当需要将所述样品托500从所述样品托插座110拆卸下来时,可便于所述第一凸起510沿所述凹槽111向外移出。
本实施例中,当所述传样抓手600带着所述样品托500沿所述内孔121向所述样品托插座110移动的过程中,所述传样抓手600还对所述第二限位件400施加所述外力,以将所述第二限位件400推动一定距离。在通过所述传样抓手600将所述样品托500固定安装于所述样品托插座110时,所述第二限位件400将所述掩膜架300推离所述样品托插座110一定距离。可以理解,所述传样抓手600上可设置有与所述第二限位件400接触的抵接部610。通过该抵接部610向所述第二限位件400施加所述外力。
请参见图1和图4所示,作为一种可实施的方式,所述样品托500上还设置有第二凸起520。所述传样抓手600设置有与所述第二凸起520相配合的卡槽620。可以理解,所述第二凸起520可以为多个,相应地所述卡槽620也为多个。通过所述第二凸起520卡设于所述卡槽620中,可方便实现所述传样抓手600对所述样品托500的抓取。
在一个实施例中,所述第二凸起520与所述第一凸起510的位置相对且平形。所述第一凸起510沿所述凹槽111向所述凹槽111的里侧移动的方向,与所述第二凸起520沿所述卡槽620向所述卡槽620的里侧移动的方向相反。通过如此设计,当第二凸起520沿所述卡槽620向所述卡槽620的里侧移动到位时,所述样品托500被所述传样抓手600可靠抓取。接着所述传样抓手600带动所述样品托500朝所述样品托插座110运动,当所述第一凸起510进入所述凹槽111并沿所述凹槽111向所述凹槽111的里侧移动到位时,所述样品托500能够固定安装于所述样品托插座110。同时所述第二凸起520会沿着所述卡槽620向外移动,即所述第二凸起520会脱离出所述卡槽620。从而通过一个旋转动作即可同时实现所述样品托500与所述样品托插座110的固定,以及所述传样抓手600与所述样品托500的分离。由此可进一步减少检测人员的操作步骤,简化操作流程。
所述卡槽620的形状为多种,只要能够和所述第二凸起520配合,以将所述样品托500固定在所述传样抓手600上即可。可以理解,所述卡槽620可以呈L形。L形的所述卡槽620的短边为所述第二凸起520的进入所述卡槽620的入口。L形的所述卡槽620的长边可沿着所述传样抓手600的周向延伸,作为所述第二凸起520的移动路径。
本发明的电极蒸镀装置10在具体操作时,先将所述样品托500的所述第二凸起520插入至所述传样抓手600的所述卡槽620内。然后利用所述传样抓手600带动所述样品托500沿所述内孔121朝所述样品托插座110运动。同时所述第一凸起510沿着所述导向槽122移动并进入所述凹槽111。在所述样品托500朝所述样品托插座110运动的过程中,所述传样抓手600的所述抵接部610与所述第二限位件400接触,所述传样抓手600对所述第二限位件400施加所述外力,使得所述第二限位件400推动所述掩膜架300远离所述样品托插座110。与此同时,所述第一弹性件压缩。
通过转动传样抓手600,使得所述第一凸起510能够滑向所述凹槽111的另一端。所述第一凸起510固定于所述凹槽111与所述第三限位件120形成的空间内。由此所述样品托500固定安装于所述样品托插座110。与此同时,所述第二凸起520从所述卡槽620中脱出,所述传样抓手600与所述样品托500脱离。在移走所述传样抓手600的过程中,所述传样抓手600撤除了对所述第二限位件400施加的所述外力。则所述掩膜架300能够在所述第一弹性件的弹力恢复力作用下朝所述样品托插座110运动。最终所述掩膜架300上的所述掩膜800能够与所述样品托500上的所述样品700接触。检测人员能够进行下一步操作。本发明的电极蒸镀装置10,不需要利用单独的操作杆来操作掩膜架,而是在完成样品传送的同时实现样品与掩膜的接触。从而便于检测人员操作,简化了操作的步骤,降低了操作的难度。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (14)
1.一种电极蒸镀装置,其特征在于,包括:支撑台(100),用于固定支撑带有样品(700)的样品托(500);
第一限位件(200),固定于所述支撑台(100)的一侧;
掩膜架(300),滑设于所述第一限位件(200),所述掩膜架(300)用于装载掩膜(800);
第一弹性件,设置于所述第一限位件(200)和所述掩膜架(300)之间,所述第一弹性件利用自身的弹性恢复力将所述掩膜架(300)朝靠近所述支撑台(100)的方向推动;以及
第二限位件(400),滑设于所述支撑台(100),所述第二限位件(400)与所述第一限位件(200)分别位于所述支撑台(100)的两侧;
利用传样抓手(600)对所述第二限位件(400)施加外力,所述第二限位件(400)在所述外力的作用下,将所述掩膜架(300)朝远离所述支撑台(100)的方向推动;当所述外力撤除时,所述第一弹性件将所述掩膜架(300)向所述支撑台(100)的方向推动,以使所述掩膜(800)与所述样品(700)接触。
2.根据权利要求1所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述第一限位件(200)包括第一限位杆(210),所述第一限位杆(210)的一端固定于所述支撑台(100);
所述掩膜架(300)设置有用于供所述第一限位杆(210)穿过的第一限位孔;
所述第一弹性件为螺旋弹簧,所述第一弹性件套设于所述第一限位杆(210),所述第一弹性件的一端与所述第一限位杆(210)远离所述支撑台(100)的一端连接,所述第一弹性件的另一端与所述掩膜架(300)抵接。
3.根据权利要求2所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述第一限位件(200)还包括第一限位凸起(220),所述第一限位凸起(220)连接于所述第一限位杆(210)远离所述支撑台(100)的一端;所述第一弹性件的一端与所述掩膜架(300)抵接,所述第一弹性件的另一端与所述第一限位凸起(220)抵接。
4.根据权利要求2所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述第一限位杆(210)为多个,多个所述第一限位杆(210)均匀布置于所述支撑台(100)。
5.根据权利要求1所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述第二限位件(400)包括环形架(410)和第二限位杆(420),所述第二限位杆(420)的一端与所述环形架(410)连接,所述第二限位杆(420)的另一端穿设于所述支撑台(100)且与所述掩膜架(300)抵接;
所述支撑台(100)设置有用于滑设所述第二限位杆(420)的第二限位孔。
6.根据权利要求5所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述第二限位件(400)还包括第二限位凸起(430),所述第二限位凸起(430)连接于所述第二限位杆(420)远离所述环形架(410)的一端;
所述第二限位凸起(430)与所述环形架(410)分别位于所述支撑台(100)的两侧。
7.根据权利要求5所述的电极蒸镀装置,其特征在于,还包括:
第二弹性件,设置于所述第二限位件(400)与所述支撑台(100)之间,所述第二弹性件利用自身的弹性恢复力将所述第二限位件(400)朝远离所述支撑台(100)的方向推动。
8.根据权利要求6所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述第二弹性件为螺旋弹簧,所述第二弹性件套设于所述第二限位杆(420),所述第二弹性件的一端与所述支撑台(100)抵接,所述第二弹性件另一端与所述环形架(410)抵接。
9.根据权利要求5所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述第二限位杆(420)为多个,多个所述第二限位杆(420)均匀布置于所述环形架(410)。
10.根据权利要求1-9任一项所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述样品托(500)上设置有第一凸起(510);
所述支撑台(100)包括样品托插座(110)和第三限位件(120),所述样品托插座(110)与所述第三限位件(120)可拆卸的连接;所述样品托插座(110)的与所述第三限位件(120)相对的表面设有用于容纳所述第一凸起(510)的凹槽(111);所述第一凸起(510)能够沿所述凹槽(111)滑动并固定于所述凹槽(111)与所述第三限位件(120)形成的空间内;
所述第三限位件(120)形成有用于供所述样品托(500)通过的内孔(121),所述内孔(121)的侧壁上设有供所述第一凸起(510)滑动的导向槽(122),所述导向槽(122)与所述凹槽(111)的一端相通。
11.根据权利要求10所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述第三限位件(120)包括三个所述子限位件(123),三个所述子限位件(123)依次间隔设置,共同围成具有所述内孔(121)的所述第三限位件(120);相邻的两个所述子限位件(123)之间的间隔形成所述导向槽(122)。
12.根据权利要求10所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述支撑台(100)还包括挡片(130),所述挡片(130)设置于所述样品托插座(110)与所述第三限位件(120)之间;所述挡片(130)具有与所述凹槽(111)相对的弹性部(131),所述弹性部(131)具有朝向所述样品托插座(110)的弹性变形。
13.根据权利要求10所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述样品托(500)上还设置有第二凸起(520);
所述传样抓手(600)设置有与所述第二凸起(520)相配合的卡槽(620)。
14.根据权利要求13所述的电极蒸镀装置,其特征在于,所述第二凸起(520)与所述第一凸起(510)的位置相对且平形,所述第一凸起(510)沿所述凹槽(111)向所述凹槽(111)的里侧移动的方向,与所述第二凸起(520)沿所述卡槽(620)向所述卡槽(620)的里侧移动的方向相反。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810601634.0A CN108504992B (zh) | 2018-06-12 | 2018-06-12 | 电极蒸镀装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810601634.0A CN108504992B (zh) | 2018-06-12 | 2018-06-12 | 电极蒸镀装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108504992A true CN108504992A (zh) | 2018-09-07 |
CN108504992B CN108504992B (zh) | 2023-10-03 |
Family
ID=63403373
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810601634.0A Active CN108504992B (zh) | 2018-06-12 | 2018-06-12 | 电极蒸镀装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108504992B (zh) |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20050070277A (ko) * | 2003-12-30 | 2005-07-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | 강유전체 메모리 소자의 제조 방법 |
CN1700017A (zh) * | 2005-06-29 | 2005-11-23 | 中国科学院物理研究所 | 新型超高真空系统传样装置 |
CN2837850Y (zh) * | 2005-06-30 | 2006-11-15 | 中国科学院物理研究所 | 用于超高真空系统传样装置的样品托 |
CN204424217U (zh) * | 2014-12-31 | 2015-06-24 | 国家电网公司 | 一种金属电极制造装置 |
CN104746017A (zh) * | 2015-04-13 | 2015-07-01 | 清华大学 | 电极蒸镀装置 |
CN104777193A (zh) * | 2015-04-13 | 2015-07-15 | 清华大学 | 原位输运性质测量装置 |
CN204719148U (zh) * | 2015-04-13 | 2015-10-21 | 清华大学 | 输运性质测量系统 |
CN205749541U (zh) * | 2016-05-31 | 2016-11-30 | 中国科学院高能物理研究所 | 传样装置及具有该装置的超高真空测量系统 |
CN208545482U (zh) * | 2018-06-12 | 2019-02-26 | 清华大学 | 电极蒸镀装置 |
-
2018
- 2018-06-12 CN CN201810601634.0A patent/CN108504992B/zh active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20050070277A (ko) * | 2003-12-30 | 2005-07-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | 강유전체 메모리 소자의 제조 방법 |
CN1700017A (zh) * | 2005-06-29 | 2005-11-23 | 中国科学院物理研究所 | 新型超高真空系统传样装置 |
CN2837850Y (zh) * | 2005-06-30 | 2006-11-15 | 中国科学院物理研究所 | 用于超高真空系统传样装置的样品托 |
CN204424217U (zh) * | 2014-12-31 | 2015-06-24 | 国家电网公司 | 一种金属电极制造装置 |
CN104746017A (zh) * | 2015-04-13 | 2015-07-01 | 清华大学 | 电极蒸镀装置 |
CN104777193A (zh) * | 2015-04-13 | 2015-07-15 | 清华大学 | 原位输运性质测量装置 |
CN204719148U (zh) * | 2015-04-13 | 2015-10-21 | 清华大学 | 输运性质测量系统 |
CN205749541U (zh) * | 2016-05-31 | 2016-11-30 | 中国科学院高能物理研究所 | 传样装置及具有该装置的超高真空测量系统 |
CN208545482U (zh) * | 2018-06-12 | 2019-02-26 | 清华大学 | 电极蒸镀装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108504992B (zh) | 2023-10-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20170322604A1 (en) | Two rack unit chassis and low profile tool-less hard drive carrier | |
US9671459B2 (en) | Maintenance carriage for wafer inspection apparatus and maintenance method for wafer inspection apparatus | |
US20190101963A1 (en) | Lifting mechanism and electronic device | |
KR102177757B1 (ko) | 분리형 전자기기 및 이에 사용되는 연결 장치 | |
KR20010062623A (ko) | 전기 소켓 장치 | |
TW201024191A (en) | Pick-and-place apparatus of test handler | |
KR20060113457A (ko) | 고정 기구 및 모니터 고정 장치 | |
US20180123268A1 (en) | Transceiver Module | |
JP2015036978A (ja) | 携帯用電子機器を支持することができるキーボードモジュール | |
JPS62501310A (ja) | 集積回路パッケ−ジをテストする装置のための接点セット | |
CN110261972A (zh) | 一种光模块解锁装置 | |
CN108504992A (zh) | 电极蒸镀装置 | |
CN208545482U (zh) | 电极蒸镀装置 | |
JP4873083B2 (ja) | 半導体試験装置 | |
EP2274662B1 (en) | Cable management module | |
US20080260976A1 (en) | Carrier for carrying a packaged chip and handler equipped with the carrier | |
US9267966B2 (en) | Test platform | |
CN202472064U (zh) | 新型xfp光模块解锁装置 | |
CA2510481A1 (en) | Structure for mounting a component to a circuit-board | |
CN216248158U (zh) | 一种静电放电测试系统 | |
CN110190454A (zh) | 一种多国转换器 | |
KR20200079017A (ko) | 무인비행체의 이착륙장치 | |
JP2021114631A (ja) | ウエハ検査システム | |
US2814790A (en) | Gravity insertion tube socket | |
CN211043570U (zh) | 一种单面pcb的测试装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |