CN108231528B - 用于在质谱仪中通过激光解吸制备电离样本的装置和方法 - Google Patents

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Abstract

本发明呈现一种用于通过激光解吸，尤其是MALDI，制备电离样本的装置，所述装置包括：具有表面的样本支撑组合件，所述表面具有用于固持物质的位点阵列和包围所述样本位点阵列的外部轮廓；和平坦封盖，其可齐平放置在所述周围外部轮廓上或上方以使得在所述封盖与所述表面之间形成屏蔽气体隔舱，所述封盖具有经布置使得每一孔口位于对应样本位点上方的孔口阵列。还在所述组件和封盖上提供气体传送系统，其用于将保护性气体引入封盖与表面之间的所述屏蔽气体隔舱中，以使得在所述气体隔舱中产生保护性气体气氛来保护所述样本位点上的所述物质免受大气影响。还描述一种相关方法。

Description

用于在质谱仪中通过激光解吸制备电离样本的装置和方法
技术领域
本发明涉及质谱领域中的应用。为了质谱地测量所关注的物质，除非物质已经是气态，否则必须将其转变为气相并且电离。具体地说，对于最初是液体或固体的样本物质，优选的是使用电离法(其使用激光解吸，尤其是基质辅助激光解吸/电离(MALDI))产生离子。
背景技术
自从在二十世纪八十年代产生后，MALDI已在大分子和聚合物以及生物聚合物(例如肽和蛋白质)的质谱分析中带来关键发展。在本领域中，惯例是将MALDI离子源与飞行时间(TOF)质谱仪耦合作为质量分析器。MALDI-TOF质谱展现高水平的灵敏度且尤其适合于较大且复杂分子，所述MALDI-TOF质谱对于生物学中的应用及对于化学分析来说极其重要。
如专员所深知的，MALDI是基于基质物质与具有102到105的摩尔过量的的基质分子的样本中的所关注分析物的共结晶。在生长期间，分析物分子将自身嵌入基质物质的晶体中。通常，成功的共结晶需要分析物分子比基质分子的约1/5000(mol/mol)的比率。常常选择以特定激光波长(例如337纳米的氮激光)强吸收能量的较小有机分子作为基质物质。本文可举出芥子酸、2,5-二羟基苯甲酸和α-氰基-羟基肉桂酸作为实例。使用例如二到五纳秒持续时间的较短、高能量激光脉冲执行激励。在晶格松弛后，激励导致基质晶体的表面上的少量物质爆发性转变成热等离子体。将嵌入的分析物分子连同基质从离子源中转移到质谱仪的真空中且因此成为质谱分析可存取的。
基于MALDI的质谱测量的必要部分是样本制备和样本支撑件上的应用。所属领域技术人员熟悉不同方法，例如所谓的干滴法(其最后包括分析物溶液与基质溶液的混合以及所使用溶剂的后续汽化)或所谓的薄层制备。样本制备的几种方式在过去已经描述且为所属领域的技术人员已知。本文提及的一个实例是申请人在2012年9月公布的名为“对MALDI样本制备的布鲁克指南(Bruker Guide to MALDI Sample Preparation)”的手册，在所述手册中呈现不同类型的样本支撑板和对可能基质物质的选择。
申请人的先前专利申请案DE 196 28 112 A1(对应于GB 2 315 328 A和US 5,841,136A)和DE 196 28 178 C1(对应于GB 2 315 329 A和US 5,770,860A)公开一种用于平坦样本支撑件进入质谱仪的真空系统中的引入端口(所述引入端口包括用于接纳样本支撑件的可抽空的盒)和一种用于快速且同时地将溶液中的大量样本从微量滴定板应用于MALDI样本支撑板的方法。两个文件顺带提及在保护性气体下优选地将一些敏感样本物质应用到样本支撑件。
美国专利6,508,986 B1(Anderson等人)描述设计为孔口掩模形式的对齐板，其孔口的布置对应于定位在其下面的MALDI样本支撑板的样本位点阵列且在应用样本物质时用以引导滴管。
国际公开案WO 2015/074959 A1公开具有在可控制气氛下的密闭腔室的雾化系统，其中可在惰性气体气氛中进行MALDI样本制备。
考虑到上文的信息，所述技术领域中存在为装置和方法提供并非极其复杂的保护性气体系统的需要，通过所述系统还可将敏感物质应用到样本支撑件。
发明内容
本发明是基于当暴露于所述气氛时可化学地改变某些敏感样本物质的发现。举例来说，含蛋白质的液体样本可与空气中的氧反应，由此氧化所述蛋白质。样本组成物因此改变且失真，这可使得解释质谱分析结果困难得多。
如已提及，已知其中可设定气体组成物的密闭腔室。然而，这个密闭设计意味着其内的元件，例如样本支撑件，是不可从外面进入的或只有通过大量努力才能进入。
以此作为出发点，本发明涉及一种用于通过激光解吸，尤其是基质辅助激光解吸(MALDI)，制备电离样本的装置，所述装置包括：具有样本支撑表面的样本支撑组合件，所述样本支撑表面具有用于固持物质的位点阵列(例如具有总计48、96、384或1536个位点)和包围样本位点阵列的外部轮廓；以及平坦封盖，其可齐平放置在所述周围外部轮廓上或上方以使得在封盖与表面之间形成屏蔽气体隔舱，该封盖具有经布置使得每一孔口位于对应样本位点上方的孔口阵列。在样本支撑组合件和封盖上提供气体传送系统，其用于将保护性气体引入到封盖与表面之间的屏蔽气体隔舱中(例如通过泵抽)，使得借助于(例如)惰性气体(例如稀有气体(Ne、Ar等)或氮气N2)在气体隔舱中产生保护性气体气氛，且所述气氛保护应用到样本位点的物质免受大气影响。
本发明使用乍一看与技术传授的内容矛盾且因此非常出人意料的发现：即使在充满孔的封盖下方的类间隙气体隔舱中，所述气体隔舱自然地为被限制气体提供许多逸出机会，可建立保护性气体气氛来保护应用到样本支撑件的物质免受大气影响，例如通过来自空气的氧而氧化，且因此有助于未失真质谱测量，同时通过封盖中的孔口将应用工具引导到样本位点。
在优选实施例中，例如，样本支撑组合件可具有带有包括样本位点阵列的表面的导电板，且所述板确定周围外部轮廓。举例来说，封盖可与样本支撑板的窄侧齐平接触，由此基本上地将装置的这个部分密封使得其不透气。
在另外的实施例中，样本支撑组合件可具有导电板，所述导电板具有包括样本位点阵列且可容纳于固持器中的表面，所述固持器确定周围外部轮廓。举例来说，固持器可具有周向凹槽，封盖设定在所述周向凹槽上。在单一情况下，固持器由用于定位样本支撑板的支撑表面构成，其中在适当时，对齐标记布置于所述支撑表面上。在装置的某些版本中，封盖可与固持器的窄侧齐平配合，以使得在这个位置处相对于周围气氛基本气密性密封所述装置。
周围外部轮廓可具有矩形形式并且(例如)经标定尺寸使得可将具有微量滴定板尺寸(根据关于生物分子筛选协会(the Society for Biomolecular Screening，SBS)规范的ANSI标准的长度×宽度×高度为127.76mm×85.48mm×14.35mm)的样本支撑件放置在轮廓内的被包围表面上。样本支撑表面与封盖底面之间的间距，即屏蔽气体隔舱的高度可以是数毫米，例如十毫米。当通过齐平配合围绕样本支撑件的窄侧定位封盖时，样本支撑件具有微量滴定板的尺寸且其与封盖之间的间距为十毫米，气体隔舱体积相当于约1.09×102立方厘米。
在优选实施例中，封盖具有其侧壁以直角延伸的盖子的形式，且所述盖子可围绕样本位点阵列齐平放置。
在另外的实施例中，固持器具有以直角延伸的侧壁边界。平坦封盖优选地具有板的形式且可放置在侧壁上。侧壁的上部窄侧可以是台阶式的以产生用于盖板的支撑表面。
在优选实施例中，可将保护性气体从样本位点阵列横向地馈入气体隔舱中和/或至少部分地从气体隔舱中抽出。此处，横向地基本上意味着沿对应表面法线超出样本支撑表面的突出部。
在另外的实施例中，气体传送系统包括整合于侧壁中的气体通道、进入屏蔽气体隔舱中的气体入口以及(必要时)始于屏蔽气体隔舱的气体出口，在样本应用过程期间，保护性气体通过所述气体出口流动。
在另外的实施例中，气体传送系统可包括导管，所述导管穿过侧壁中的一个中的孔且具有布置在其圆柱形外表面上作为进入屏蔽气体隔舱中的气体入口的孔口。
气体入口和气体出口的流动截面经优选地标定尺寸以使得保护性气体气氛以略高于大气压的压力存在于气体隔舱中。这种过压可为约10到100帕斯卡(pascal)，优选地约50帕斯卡，高于周围压力。举例来说，在海平面处的平均大气压为约105帕斯卡。
此外，本发明涉及一种用于通过激光解吸(尤其是基质辅助激光解吸MALDI)制备电离样本的方法，其中a)提供具有样本支撑表面的样本支撑组合件，所述表面具有用于接受物质的位点阵列和包围样本位点阵列的外部轮廓，b)通过齐平配合将具有孔口阵列的平坦封盖放置在包围外部轮廓上或上方以使得在封盖与表面之间形成屏蔽气体隔舱，且每一孔口位于对应样本位点上方，c)通过馈入保护性气体而在封盖与表面之间的屏蔽气体隔舱中产生保护性气体气氛，及d)通过将应用工具(例如滴管或接种环)的顶端穿过封盖的孔口引导到对应样本位点来将物质应用到样本位点。
在各种实施例中，封盖中的孔口可全部具有弹性薄层，当无应用工具穿过它们时，所述弹性薄层针对保护性气体产生额外流动阻力。
附图说明
通过参看以下图式可以更好地理解本发明。附图中的元件未必按比例绘制，而是重点在于说明本发明的原理(通常示意性地说明)。附图中，在不同视图中，通常用参考编号的相同的最后两位数标示对应的部分。
图1展示样本支撑板。
图2展示保护性气体装置的示意性横向截面。
图3展示用于保护性气体装置的封盖的截面。
图4展示另一保护性气体装置的侧视示意图。
图5展示另一保护性气体装置的示意性横向截面。
图6展示另一保护性气体装置的侧视示意图。
图7展示另一保护性气体装置的侧视示意图。
图8以A、B和C三个视图展示保护性气体装置的另一实例实施例。
图9展示保护性气体装置的封盖中的孔口的专用布局的两个视图。
图10展示另一保护性气体装置的侧视示意图。
具体实施方式
虽然已经参考其多个不同实施例展示和描述了本发明，但是所属领域的技术人员将认识到可以在本文中进行多种形式和细节的变化而不脱离由所附权利要求书界定的本发明的范围。
本发明特别基于用于通过激光解吸制备电离样本的一些物质需要保护性惰性气氛以便在将物质应用到样本支撑件时其不会化学地改变的发现。以此作为出发点，本发明极简单描述用户友好装置和方法。
在通过激光解吸的离子化领域中的样本支撑件通常具有板的形式，其中存在样本位点阵列或其可产生在平坦侧中的一个上。可能在样本支撑件的一侧上应用可见标记于(例如)来向用户指示其必须将液体(例如溶剂或基质溶液)或固体的样本物质(例如微生物沉积物)沉积在何处。
图1以极简化且示意性方式在等距平面视图中展示可能的样本支撑板2。在此实例中，板2的一个横面2*上标识出6×7的样本位点4的阵列，且当人工地应用所述物质时，所述样本位点略突出以引导用户。应理解，阵列配置可不同于此处展示的配置。通常使用(例如)具有微量滴定板尺寸和规范化数量(例如48、96、384或1536)的样本位点4的板2。为确保板2为导电的，其可完全地由例如金属的导电材料制得。替代地，板2可经制造包括上面已应用导电层的不导电衬底。这个和多个其它设计的细节已在先前技术中加以描述且是专员已知而无需任何其它解释。
图2以侧视图描绘本发明的第一实例实施例的示意图。其是基于在这个实例中为矩形形状的样本支撑板12。可围绕板12放置呈盖子16的形式的封盖。这个盖子具有与板12相对的覆盖侧16A，且具有从此覆盖侧16A以直角延伸的侧壁16B。侧壁16B的内表面之间的尺寸经设计使得当将盖子16放置在板12上方时，封盖通过齐平配合包封样本支撑板12。为了改进侧壁16B的内表面与板12的窄侧之间的气密密封，可在对应接触点处另外固定密封材料，例如在侧壁的下部部分中的略突出的弹性橡胶材料(未展示)。
盖子16的覆盖侧16A，即位于样本支撑板12对向的侧面，具有孔口18的阵列，所述孔口此处呈具有恒定截面的简单圆柱形孔18*的形式。如所展示，孔口18*经标定尺寸使得应用工具的顶端(例如滴管顶端20)适合通过所述孔口来分配液体物质20A，其中取决于待分配液体的量，外径始终在较低毫米范围内或甚至更小的较高微米范围内。孔口18的阵列经设计使得每一孔口18*与板12上的对应样本位点相对。将常常存在无样本位点不与对应孔口18*配对的情况。然而，这个未必意味着每一样本位点必须具有与其相对的孔口18*。对于某些应用，为不同封盖提供不同设计的孔口阵列18可为有用的，例如为第一封盖提供允许进入样本支撑板12上的第一行样本位点的一行孔口18*，且为第二封盖提供允许进入相同样本支撑板12上的相邻行的样本位点的一行孔口，所述一行孔口具有相对于第一行的横向偏移。专员具有大量关于设计布局的见识。
图2中还展示气体传送系统的部分，在所展示的实例中，所述气体传送系统包括在盖子16的侧壁16B中垂直于图式的平面延伸的气体通道22和源自通道22进入盖子16与样本支撑板12之间的屏蔽气体隔舱或间隙24中的气体入口22*。通过虚线箭头26示意性地指示例如稀有气体(例如氩或分子氮N2)的惰性保护性气体的流向。在所展示的实例中，保护性气体经由封盖中的孔口18*逸出到所述气氛中。将作为样本的保护性气体的连续流应用到样本支撑板12确保任何破坏性的大气影响保持远离在所描绘的实例中分配的液体20A，直到例如液体20A已经干燥且因此更不容易受到此类影响。干燥保护性气体还可用于促进和加快样本支撑板12上的液体样本的蒸发。为此目的，甚至可在将保护性气体馈入气体隔舱或间隙24中之前稍微加热所述保护性气体。
在图3中更详细说明气体通道22和气体入口22*的布置。其展示通过呈大致在如图2中的通道22和入口22*的水平面处的盖子16的形式的封盖的截面。从外部两个接口28开始，所述接口经提供用于耦合到一或多个合适的气体源(此处未展示)，两个大致L形的气体通道22跨越对应侧壁16B的几乎整个长度和宽度延伸。每一气体通道部分具有特定数量的分支，所述分支充当气体入口22*来将保护性气体馈入样本支撑件与封盖之间的气体隔舱或间隙24中。借助于实例展示在较短横向侧上的三个分支和在较长横向侧上的五个分支。虚线箭头26表示从外部到内部的保护性气体的流型的示意性说明。此处应强调，必须将分裂成两个独立气体通道22理解为一个可能实施例。基本上，还可能仅在侧壁16B中设置一个单个气体通道22，所述单个气体通道例如可接着环绕内部的几乎整个周长，且可具有合适数量的分支。入口22*优选地具有比已连接通道22更小的流动截面，以便确保保护性气体在通道的整个长度上在基本均匀的压力条件下的基本均匀分布。
图4展示图2中描绘的呈盖子16的形式的封盖的略微修改，使得充当用于将保护性气体馈入样本支撑件与封盖之间的气体隔舱或间隙24中的气体入口22*的分支在与气体通道22相同的水平面处并不通向间隙24，而是具有向上倾斜以便为流入间隙24中的气体提供预定流型。这可确保在启动气体传送系统时，在待将物质应用到样本支撑件时，间隙24中的大气更快速与保护性气体交换，且因此用于装置的更快工作准备。
图5展示保护性气体装置的另一可能变体，相较于先前描述的那些，所述可能的变体具有数个修改。首先，提供对下方样本支撑件32上的位点的进入的封盖中的孔口38*不仅始终是圆柱形，而且开始具有锥形渐尖段，其最终产生漏斗形状。这使得用户更容易将类似接种环的应用工具引入且置于中部。第二，呈盖子36的形式的封盖并不围绕样本支撑件32自身齐平放置，而是围绕指派给样本支撑件的固持器40放置。在这个实例中，样本支撑件32平直地处于支撑件40*上通过标记42标识的特定位置中。盖子36的侧壁36B的内表面封闭封盖与样本支撑件32之间的气体隔舱或间隙24和在底部和侧面处的固持器40，使得保护性气体不能或几乎不能逸出。如在先前所描述的实施例的上下文中所概述，还可在这个位置处进行额外密封测量。
图5中的设计与图2和4中的设计之间的另一显著的差异在于将气体传送系统以及其通道52和入口52*整合到样本支撑件32的固持器40中而不是整合到盖子的主体中。通道52可延伸穿过固持器40并且在未由样本支撑件32占据的外缘区域中，所述通道可具有进入样本支撑件32或固持器40与封盖之间的气体隔舱或间隙24中的分支，保护性气体通过所述分支得以馈入。这意味着如前所述保护性气体从横向方向流过样本位点阵列。通过虚线箭头26示意性地指示保护性气体的流型。图5中所展示的变体可为有利的，这是因为可将对于气体馈入至关重要的固持器40安装在固定位置中且因此更容易将其连接到现有保护性气体供应装置。可因此避免复杂断开和重连接到气体供应装置(未展示)。
图6以示意性侧视平面图展示保护性气体装置的另一实施例。如前所述，封盖具有盖子66的形式且具有漏斗形孔口68*的阵列。盖子66的侧壁66B包围样本支撑件62以便与其齐平。如前所述，将气体通道72和用于将保护性气体馈入封盖与样本支撑件62之间的气体隔舱或间隙24中的分支整合到盖子66的侧壁66B中，所述侧壁大致以直角从含有孔口68*的覆盖侧66A延伸。通过虚线轮廓示意性地指示这些气体通道。
与先前实例的不同之处在于未横向地布置到一或多个保护性气体源的连接78(此处未展示)而是将其布置在侧壁66B的更低窄侧处的事实。这个设计是可实行的，尤其是在保护性气体源具有截止阀时，当放上盖子66时，通过与侧壁66B接触或借助于操作定位于此的形貌体(未展示)可打开所述截止阀。接着可能在降低的封盖同时触发保护性气体的供应。如果数个此类连接78是沿侧壁66B分布，那么其可同时充当对齐辅助以确保正确定位封盖。
对先前所描述的实施例的另一补充在于盖子66的侧壁66B不仅具有带有分支的一个气体通道系统72(所述分支用于将保护性气体引入到气体隔舱或间隙24中)，而且具有带有分支80*的第二独立气体通道系统80(所述分支允许保护性气体从间隙24流出)。通过虚线箭头26示意性地说明保护性气体的流向。这一保护性气体流出可用于按需要平衡通过第一通道系统72的保护性气体的流入与通过封盖中的孔口68*的保护性气体的流出的质量流，以(例如)在间隙24中建立某些过压条件。考虑通过封盖中的孔口68*的保护性气体流出，第二气体通道系统80具有比第一气体通道系统72更少的分支，在所解释的实例中盖子66的每侧仅一个气体出口80*(即总计四个)。应理解，侧壁66B根本上提供足够间距来容纳两个或甚至更多个气体通道系统以用于不同目的。如前所述，分支80*可具有比对应通道80更小的直径以增大相对流动阻力。
图7展示相较于图6中的实例的另一稍微修改实施例。出于清晰的原因，此处已省略气体流动箭头。一个不同之处在于这个实例中的封盖不具有盖子的形式而仅是板86的形式的事实。与此相比，样本支撑组合件不仅包括如来自图2的实例中的样本支撑件82，而且包括固持器90，所述固持器具有以直角从底座90A突出(向上)的侧壁90B。固持器90的底座90A具有凹口92，其适于样本支撑板82的外部尺寸以使得其可容纳样本支撑板。如所展示，板82的大致一半凹进到底座90A中且板的厚度的大致一半在底座90A的上方突出。侧壁90B的顶部端面90*是台阶式的，所述台阶经标定尺寸使得其可通过齐平配合容纳盖板86且将其固持在固定位置中。如已解释，可通过密封材料层改进盖板86与侧壁台阶之间的接触点处的密封。举例来说，可将盖板86插入台阶式支撑件中且再借助于抽吸装置(未展示)移除。在此实施例中，通过样本支撑件固持器90的侧壁90B而非通过覆盖盖子的侧壁来横向地限制样本支撑件82与封盖之间的屏蔽气体隔舱或间隙24。
图8以不同视图A、B和C展示与先前实施例相比稍微修改的额外变体。出于此实例的目的，样本支撑组合件具有样本支撑板102，所述样本支撑板固持在凹口112中的半边凹陷位置中，类似于先前所述。除此以外，其提供具有以直角延伸且在上部短侧110*处是台阶式的侧壁110B的固持器110。然而，在这种情况下，台阶从外部延伸到内部且充当用于封盖的齐平配合的支撑件，所述封盖适于所述尺寸且具有稍微突出的环管114和漏斗形状的孔口108*的阵列108。视图A和B说明如何在箭头方向上将封盖放置在固持器110的侧壁110B上。
与先前描述装置的另一不同之处在于气体传送系统的设计。在这个实例中，圆柱形导管116通过侧壁110B中的一个中的周边孔口118馈入且进入封盖与底座和样本支撑板102之间的气体隔舱或间隙24中(参看视图C)，而不是将所述圆柱形导管制成覆盖盖子或固持器110的侧壁110B的组成部分。导管116在圆柱形主体中含有一行孔口116*(类似于“长笛”)，当装置处于操作状态时，保护性气体流动通过所述孔口。气体入口116*的布置类似于先前所描述的实施例中的一种，其中横向地引入气体，但不平行于样本支撑板102。实际上，其具有稍微向上的垂直流动组件。通过虚线箭头26示意性地指示保护性气流。此处所展示的版本具有可轻易地从壁中横向抽出导管116并加以替换的益处，例如在将使用具有不同孔口配置的不同导管或为了清洁导管且接着再插入所述导管时。
图9是可如何增加通过封盖的孔口128*的气流阻力的示意图，其降低保护性气体泄漏的速率。为此目的，可在孔口128*处提供弹性薄层130，其减小可用于流动的孔口128*的截面面积且因此还降低保护性气体的泄漏速率，但如图9的下部部分中所说明，可在无任何明显机械阻力的情况下通过应用工具的顶端140将所述弹性薄层反向折弯。在再次撤回顶端140时，一旦完成样本应用，薄层130松弛回到其原始位置且再次减小截面。对这个类型的封盖的修改尤其适合于一次性产品，即既定一次性使用的封盖。
图10以侧视图展示用于保护性气体装置的又一实施例示意图。装置具有其凹口容纳样本支撑板的固持器，且固持器具有周向凹槽150，其中可放置经设计为盖子的封盖的侧壁的窄侧面。
上文已参考不同特定实例实施例描述本发明。然而，应理解，可在不背离本发明的范围的情况下修改本发明的各种方面或细节。具体地说，如果对于所属领域的技术人员来说这显得可行，那么可按需要组合关于不同实施例所公开的特性和测量。另外，以上描述仅充当本发明的说明而非作为保护范围的限制，考虑可能存在的任何等效物，其仅由所附权利要求书界定。

Claims (13)

1.一种用于通过激光解吸制备电离样本的装置，其包括：
样本支撑组合件，其具有表面，所述表面具有用于接受物质的位点阵列和包围所述样本位点阵列的周围外部轮廓，和
平坦封盖，其通过齐平配合放置在所述周围外部轮廓上或上方以使得在所述封盖与所述表面之间形成屏蔽气体隔舱，且所述封盖具有经布置使得每一孔口位于对应样本位点上方的孔口阵列，
其中
在所述样本支撑组合件和封盖上提供气体馈入系统，通过所述气体馈入系统将保护性气体引入到封盖与表面之间的所述屏蔽气体隔舱中，以使得在所述气体隔舱中产生保护性气体气氛来保护待应用到所述样本位点的所述物质免受大气影响。
2.根据权利要求1所述的装置，其中所述样本支撑组合件具有导电板，所述导电板具有包括所述样本位点阵列的表面，且所述导电板确定所述周围外部轮廓。
3.根据权利要求1所述的装置，其中所述样本支撑组合件具有容纳于固持器中的导电板且具有包括所述样本位点阵列的表面，且所述固持器确定所述周围外部轮廓。
4.根据权利要求1所述的装置，其中所述周围外部轮廓是矩形形状。
5.根据权利要求1所述的装置，其中所述封盖具有带有以直角延伸的侧壁的盖子的形式，且所述盖子围绕所述样本位点阵列齐平放置。
6.根据权利要求3所述的装置，其中所述固持器通过以直角延伸的侧壁定界，且所述平坦封盖具有板的形式且放置在所述侧壁上。
7.根据权利要求1所述的装置，其中所述保护性气体是从所述样本位点阵列的侧面馈入所述气体隔舱中和/或是从其至少部分地流失。
8.根据权利要求5所述的装置，其中所述气体馈入系统包括始于所述屏蔽气体隔舱的整合于所述侧壁中的气体出口。
9.根据权利要求8所述的装置，其中所述气体馈入系统包括进入所述屏蔽气体隔舱中的整合于所述侧壁中的气体通道和气体入口。
10.根据权利要求5所述的装置，其中所述气体馈入系统包括导管，所述导管穿过所述侧壁中的一个中的孔口且具有布置在其圆柱形外表面上的充当进入所述屏蔽气体隔舱中的气体入口的孔口。
11.根据权利要求9所述的装置，其中将所述气体入口和气体出口的流动截面标定尺寸以使得在所述气体隔舱中建立保护性气体气氛的略微过压。
12.一种用于通过激光解吸制备电离样本的方法，其中
a)提供具有表面的样本支撑组合件，所述表面具有用于接受物质的位点阵列和包围所述样本位点阵列的周围外部轮廓，
b)通过齐平配合将具有孔口阵列的平坦封盖放置在所述周围外部轮廓上或上方以使得在所述封盖与所述表面之间形成屏蔽气体隔舱，且每一孔口位于对应样本位点上方，
c)通过馈入保护性气体而在封盖与表面之间的所述屏蔽气体隔舱中产生保护性气体气氛，和
d)通过将应用工具的顶端穿过所述封盖中的所述孔口到达所述对应样本位点来将物质应用到所述样本位点。
13.根据权利要求12所述的方法，其中所述激光解吸是基质辅助激光解吸。
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