CN108152874B - 一种平面双闪耀光栅的制备方法 - Google Patents

一种平面双闪耀光栅的制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明实施例提供了一种制作平面双闪耀光栅的方法，制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅，其中第一闪耀角和第二闪耀角不同，将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅放置于拼接机构，调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，将固定后的所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅作为平面双闪耀光栅，携带调整机构放入光路中直接使用。通过第一闪耀角和第二闪耀角的两块平面闪耀光栅的拼接，来实现平面双闪耀光栅的制作，制作方法光栅效率高、波前质量好，制作双闪耀光栅成品率高、易于实现，该平面双闪耀光栅制作方法具有很强的灵活性，不受光栅闪耀角、光栅面积等因素的限制。

Description

一种平面双闪耀光栅的制备方法
技术领域
本发明涉及衍射光栅制作技术领域，具体涉及一种制作平面双闪耀光栅的方法、平面双闪耀光栅及平面多闪耀光栅。
背景技术
衍射光栅是一种高分辨率的色散光学元件，广泛地应用于单色仪、光谱分析、光通信技术等科学领域。
多缝光栅的光能主要集中在零级，而且不能把各种波长分开，而光栅的实际应用中则需要将尽可能多的光能集中在某一特定的级次上。因此需要设计衍射光栅的槽型，使大部分光能量集中在设计的衍射级次上。从设计方向探测时，光谱的强度最大，这种现象称为闪耀(blaze)，这种光栅称为闪耀光栅。闪耀使得光栅的衍射效率得到极大的提高。但是在宽波段上，如从紫外到红外波段都想获得较高的衍射效率，还是很困难，因此，出现了双闪耀光栅产品，以实现宽波段内，均有较高的，均匀的衍射效率。双闪耀光栅由于具有宽波段的高效率优势，具有非常广阔的市场前景。
目前，双闪耀光栅的主要制作方法主要包括以下两种：一种是机械刻划制作方法，中国发明专利“一种双闪耀光栅的制作方法”，申请号：CN201310561094.5，该方法改进了闪耀区域间精密过渡时的刻刀更换方法，但是机械刻划制作双闪耀光栅很容易受机器精度的影响导致衔接位置不适进而产生刻线误差，无法保证波前质量，降低了双闪耀光栅的理论效率，另外，不同刻划面积和刻线密度均需要一套刻刀更换结构，制作双闪耀光栅成本大周期长；另一种方法是利用全息方法制作双闪耀光栅，中国发明专利“一种全息双闪耀光栅的制作方法”，申请号：CN201110318455.4，该方法理论上便于实现，但是全息方法刻蚀的光栅槽型难以控制，刻槽粗糙，衍射效率低。因此，有必要寻求一种新的方法来制作平面双闪耀光栅，进而解决上述问题。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供了一种制作平面双闪耀光栅的方法、平面双闪耀光栅及平面多闪耀光栅，制作方法光栅效率高、波前质量好，制作的双闪耀光栅成品率高、易于实现，该平面双闪耀光栅制作方法具有很强的灵活性，不受光栅闪耀角、光栅面积等因素的限制。
一种制作平面双闪耀光栅的方法，所述方法包括：
制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅，其中第一闪耀角和第二闪耀角不同；
将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅放置于拼接机构；
调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，将固定后的所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅作为平面双闪耀光栅，五个维度的拼接误差为所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅之间的三维角度误差及两维位移误差，所述三位角度误差包括绕栅线方向转动误差、绕色散方向转动误差、绕光栅法线方向转动误差，所述两维位移误差包括纵向位移误差、横向位移误差。
可选地，所述拼接机构设置在基准平台上，所述基准平台和所述拼接机构之间设有第一锁紧螺钉，所述拼接机构上设有转接块和第二锁紧螺钉，所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅安装在所述转接块上，所述调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，包括：
调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置；
当五个维度的拼接误差小于允许值后利用所述第一锁紧螺钉将所述拼接机构和所述基准平台之间锁紧固定；
利用所述第二锁紧螺钉将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅锁紧在所述拼接机构上以完成固定。
可选地，所述拼接机构设置在基准平台上，所述调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，包括：
调整调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态；
当五个维度的拼接误差小于允许值后将所述拼接机构和所述基准平台之间粘接固定；
将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅与所述拼接机构之间进行粘接固定。
可选地，所述横向位移误差Δx为d/(2m)的整数倍，其中，光栅常数为d，衍射级次为m，横向位移误差Δx允许值为0.1毫米，所述的五维拼接误差中的其他四个维度的拼接误差的允许值，根据所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅尺寸大小，闪耀角度，刻线密度，和使用级次等因素综合影响，进行计算所得。
可选地，所述制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅，包括：
采用机械刻划法、全息离子束刻蚀或微电子光刻法制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅。
可选地，所述调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，包括：
所述调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态使得五个维度的拼接误差小于允许值后在平面内进行一维分布的固定。
本发明还提供一种平面双闪耀光栅，所述平面双闪耀光栅由如上述的制作平面双闪耀光栅的方法制得。
本发明还提供一种制作平面多闪耀光栅的方法，所述方法包括：
制作至少三个平面闪耀光栅，所述至少三个平面闪耀光栅包括具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅、具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅以及第三闪耀角的第三平面闪耀光栅，其中第一闪耀角、第二闪耀角和第三闪耀角均不同；
将所述至少三个平面闪耀光栅放置于拼接机构；
调整所述至少三个平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，将固定后的所述至少三个平面闪耀光栅作为平面多闪耀光栅，所述五个维度的拼接误差为所述至少三个平面闪耀光栅之间的三维角度误差及两维位移误差，所述三位角度误差包括绕栅线方向转动误差、绕色散方向转动误差、绕光栅法线方向转动误差，所述两维位移误差包括纵向位移误差、横向位移误差。
可选地，所述平面多闪耀光栅包含N个闪耀角区域，所述N个闪耀区域可以根据设计需求在平面内进行二维分布，其中，N为大于等于3的自然数。
本发明又提供一种平面多闪耀光栅，所述平面多闪耀光栅由上述的制作平面多闪耀光栅的方法制得。
将本发明一种制作平面双闪耀光栅的方法进行推广，根据该方法能够制作出平面双闪耀光栅，还能够制备出平面多闪耀光栅。
本发明实施例提供了一种制作平面双闪耀光栅的方法、制作平面多闪耀光栅的方法、平面双闪耀光栅及平面多闪耀光栅，制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅，其中第一闪耀角和第二闪耀角不同，将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅放置于拼接机构，调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，将固定后的所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅作为平面双闪耀光栅，携带调整机构放入光路中直接使用，通过第一闪耀角和第二闪耀角的两块平面闪耀光栅的拼接，来实现平面双闪耀光栅的制作，制作方法光栅效率高、波前质量好，制作的多闪耀光栅成品率高、易于实现，该平面双闪耀光栅制作方法具有很强的灵活性，不受光栅闪耀角、光栅面积等因素的限制。
附图说明
图1是本发明实施例中的制作平面双闪耀光栅的方法的五个维度的拼接误差示意图；
图2是本发明实施例中的制作平面双闪耀光栅的方法的双闪耀光栅示意图；
图3是本发明实施例中的平面多闪耀光栅的二维分布示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。
本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的实施例能够以除了在这里图示或描述的内容以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
结合图1所示，本发明实施例中提供的一种制作平面双闪耀光栅的方法，所述方法包括：
S101、制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅，其中第一闪耀角和第二闪耀角不同；
S102、将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅放置于拼接机构；
S103、调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置使得拼接间隙小于允许值后进行一维分布拼接固定，将固定后的所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅作为平面双闪耀光栅，携带调整机构放入光路中直接使用，所述五个维度的拼接误差为所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅之间的三个角度误差：绕栅线方向转动误差，绕色散方向转动误差，绕光栅法线方向转动误差；和两个位移误差：纵向位移误差，横向位移误差。
第一种拼接固定的方式采用螺钉固定，所述拼接机构设置在基准平台上，所述基准平台和所述拼接机构之间设有第一锁紧螺钉，所述拼接机构上设有转接块和第二锁紧螺钉，所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅安装在所述转接块上，所述调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，包括：
调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态；
当五个维度的拼接误差小于允许值后利用所述第一锁紧螺钉将所述拼接机构和所述基准平台之间锁紧固定；
利用所述第二锁紧螺钉将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅锁紧在所述拼接机构上进行一维分布固定。
拼接机构具有放置平面闪耀光栅的平台以及调整平台位置和姿态的调整机构，可以实现对两个或两个以上平面闪耀光栅的拼接。
第二种拼接固定的方式采用粘接固定，所述拼接机构设置在基准平台上，所述调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行一维分布拼接固定，包括：
调整调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态；
当五个维度的拼接误差小于允许值后将所述拼接机构和所述基准平台之间粘接固定；
将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅与所述拼接机构之间进行一维分布粘接固定，粘接的方式可以采用强力胶进行粘接以保证足够的牢固度。
所述横向位移误差Δx为d/(2m)的整数倍，其中，光栅常数为d，衍射级次为m，横向位移误差Δx允许值为0.1毫米，所述的五维拼接误差中的其他四个维度的拼接误差的允许值，根据所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅尺寸大小，闪耀角度，刻线密度，和使用级次等因素综合影响，进行计算所得。
采用机械刻划法、全息离子束刻蚀或微电子光刻法制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅，其中，对于机械刻划法、全息离子束刻蚀或微电子光刻法，本领域普通技术人员应当了解，具体不作赘述。
将本发明一种制作平面双闪耀光栅的方法进行推广，根据该方法能够制作出平面双闪耀光栅，还能够制备出平面多闪耀光栅。具体地，对于其中两两闪耀光栅的拼接可以按照平面双闪耀光栅的拼接方法进行，平面多闪耀光栅包含N个闪耀角区域，所述N个闪耀区域可以根据设计需求在平面内进行二维分布，其中，N为大于等于3的自然数。
下面对本发明提供的制作平面双闪耀光栅的方法结合一种实施例加以介绍。
参见附图1和图2，平面双闪耀光栅的制作主要包括以下步骤：
S1、分别制作满足设计要求具有闪耀角θ1的第一平面闪耀光栅1和具有闪耀角θ2的第二平面闪耀光栅2，根据设计要求选择制作方法，可以为机械刻划法、全息离子束刻蚀和微电子光刻法等。
S2、将具有闪耀角θ1的平面闪耀光栅1和具有闪耀角θ2的平面闪耀光栅2分别固定于具有同一基准平台5的第一拼接机构3和第二拼接机构4中，通过误差检测系统测量两光栅之间的五维拼接误差，调整拼接机构使得五维拼接误差在允许范围内，完成两光栅的严格拼接。
S3、固定拼接机构完成平面双闪耀光栅的制作。
步骤S2中的拼接机构与下方的基准平台之间带有锁紧螺钉，在光栅位置和姿态调整完成后，将光栅拼接机构与基准平台锁死。步骤S2中的拼接机构上带有转接块和锁紧螺钉锁紧光栅，两块光栅放在转接块上，使用锁紧螺钉锁紧光栅，双闪耀光栅使用的过程中光栅的姿态不发生变化。或者，在光栅姿态调整完成后将拼接机构与下方的基准平台用强力胶黏在一起，闪耀光栅和拼接机构之间使用强力胶黏在一起，使三者之间的相对位置不发生变化，放入光路中直接使用。
步骤S2中，具有θ1闪耀角和θ2闪耀角的两块闪耀光栅的横向位移误差Δx会造成能量损失，损失能量的占比为δ＝(入射到双闪耀光栅拼接间隙区域Δx的光能E1)/(入射到双闪耀光栅衍射光栅区域的光能E2)。
设光栅常数为d，衍射级次为m，步骤(S2)中光栅拼接时两块光栅的横向位移误差Δx为d/(2m)的整数倍时，不影响光栅波前质量，但Δx增大会增加损失能量的占比δ，因此要求两块光栅的横向位移误差Δx小于0.1mm。
参见附图3，根据提出的平面双闪耀光栅的制作方法，可设计制作出平面多闪耀光栅，光栅的闪耀角分别为θ1…θN，该平面多闪耀光栅包含N(N≥2)个闪耀角区域，N个闪耀区可以根据设计需求在平面内进行二维分布，具体个数可以根据需要选择，对此不做限定。
对应地，本发明还提供一种平面双闪耀光栅，所述平面双闪耀光栅由如上述的制作平面双闪耀光栅的方法制得，具体的拼接方法在前文中介绍，此处不作赘述。
本发明提供一种制作平面多闪耀光栅的方法，所述方法包括：
制作至少三个平面闪耀光栅，所述至少三个平面闪耀光栅包括具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅、具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅以及第三闪耀角的第三平面闪耀光栅，其中第一闪耀角、第二闪耀角和第三闪耀角均不同；
将所述至少三个平面闪耀光栅放置于拼接机构；
调整所述至少三个平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，将固定后的所述至少三个平面闪耀光栅作为平面多闪耀光栅，所述五个维度的拼接误差为所述至少三个平面闪耀光栅之间的三维角度误差及两维位移误差，所述三位角度误差包括绕栅线方向转动误差、绕色散方向转动误差、绕光栅法线方向转动误差，所述两维位移误差包括纵向位移误差、横向位移误差。
本发明提供一种平面多闪耀光栅，所述平面多闪耀光栅由如上述的制作平面多闪耀光栅的方法制得，所述平面多闪耀光栅包含N个闪耀角区域，所述N个闪耀区域可以根据设计需求在平面内进行二维分布，其中，N为大于等于3的自然数。
参见附图3，根据提出的平面双闪耀光栅的制作方法，可设计制作出平面多闪耀光栅，光栅的闪耀角分别为θ1…θN，该平面多闪耀光栅包含N(N≥3)个闪耀角区域，N个闪耀区可以根据设计需求在平面内进行二维分布，具体个数可以根据需要选择，对此不做限定。
本发明实施例提供了一种制作平面双闪耀光栅的方法、制作平面多闪耀光栅的方法、平面双闪耀光栅及平面多闪耀光栅，制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅，其中第一闪耀角和第二闪耀角不同，将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅放置于拼接机构，调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，将固定后的所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅作为平面双闪耀光栅，携带调整机构放入光路中直接使用，通过第一闪耀角和第二闪耀角的两块平面闪耀光栅的拼接，来实现平面双闪耀光栅的制作，制作方法光栅效率高、波前质量好，制作的双闪耀光栅成品率高、易于实现，该平面双闪耀光栅制作方法具有很强的灵活性，不受光栅闪耀角、光栅面积等因素的限制。
所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的系统，装置和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。
以上对本发明所提供的一种制作平面双闪耀光栅的方法进行了详细介绍，对于本领域的一般技术人员，依据本发明实施例的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (9)

1.一种制作平面双闪耀光栅的方法，其特征在于，所述方法包括：
制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅，其中第一闪耀角和第二闪耀角不同；
将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅放置于拼接机构；
调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，将固定后的所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅作为平面双闪耀光栅，所述五个维度的拼接误差为所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅之间的三维角度误差及两维位移误差，所述三维角度误差包括绕栅线方向转动误差、绕色散方向转动误差、绕光栅法线方向转动误差，所述两维位移误差包括纵向位移误差、横向位移误差；
所述横向位移误差Δx为d/(2m)的整数倍，其中，光栅常数为d，衍射级次为m，横向位移误差Δx允许值小于0.1毫米。
2.根据权利要求1所述的制作平面双闪耀光栅的方法，其特征在于，所述拼接机构设置在基准平台上，所述基准平台和所述拼接机构之间设有第一锁紧螺钉，所述拼接机构上设有转接块和第二锁紧螺钉，所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅安装在所述转接块上，所述调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，包括：
调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置姿态；
当五个维度的拼接误差小于允许值后利用所述第一锁紧螺钉将所述拼接机构和所述基准平台之间锁紧固定；
利用所述第二锁紧螺钉将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅锁紧在所述拼接机构上以完成固定。
3.根据权利要求1所述的制作平面双闪耀光栅的方法，其特征在于，所述拼接机构设置在基准平台上，所述调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置姿态使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，包括：
调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态；
当五个维度的拼接误差小于允许值后将所述拼接机构和所述基准平台之间粘接固定；
将所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅与所述拼接机构之间进行粘接固定。
4.根据权利要求1所述的制作平面双闪耀光栅的方法，其特征在于，所述制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅，包括：
采用机械刻划法、全息离子束刻蚀或微电子光刻法制作具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅以及具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅。
5.根据权利要求1所述的制作平面双闪耀光栅的方法，其特征在于，所述调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置使得拼接间隙小于允许值后进行拼接固定，包括：
所述调整所述第一平面闪耀光栅和所述第二平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置使得拼接间隙小于允许值后在平面内进行一维分布的拼接固定。
6.一种平面双闪耀光栅，其特征在于，所述平面双闪耀光栅由如权利要求1至5中任一项所述的制作平面双闪耀光栅的方法制得。
7.一种制作平面多闪耀光栅的方法，其特征在于，所述方法包括：
制作至少三个平面闪耀光栅，所述至少三个平面闪耀光栅包括具有第一闪耀角的第一平面闪耀光栅、具有第二闪耀角的第二平面闪耀光栅以及第三闪耀角的第三平面闪耀光栅，其中第一闪耀角、第二闪耀角和第三闪耀角均不同；
将所述至少三个平面闪耀光栅放置于拼接机构；
调整所述至少三个平面闪耀光栅在所述拼接机构上的位置和姿态使得五个维度的拼接误差小于允许值后进行固定，将固定后的所述至少三个平面闪耀光栅作为平面多闪耀光栅，所述五个维度的拼接误差为所述至少三个平面闪耀光栅之间的三维角度误差及两维位移误差，所述三维角度误差包括绕栅线方向转动误差、绕色散方向转动误差、绕光栅法线方向转动误差，所述两维位移误差包括纵向位移误差、横向位移误差；
所述横向位移误差Δx为d/(2m)的整数倍，其中，光栅常数为d，衍射级次为m，横向位移误差Δx允许值小于0.1毫米。
8.根据权利要求7所述的平面多闪耀光栅的方法，其特征在于，所述平面多闪耀光栅包含N个闪耀角区域，所述N个闪耀区域可以根据设计需求在平面内进行二维分布，其中，N为大于等于3的自然数。
9.一种平面多闪耀光栅，其特征在于，所述平面多闪耀光栅由如权利要求7或8所述的制作平面多闪耀光栅的方法制得。
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