CN108133908A - 一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法 - Google Patents

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徐炳飞
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Jetion Solar Jiangsu Co Ltd
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Abstract

本发明揭示了一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，该硅片吸笔包括吸盘和具有连通其外部与内部泄压孔的气体通道管，吸盘上设置有吸孔，所述方法包括以下步骤：在吸盘的外端面上设置有至少一层柔性材质；柔性材质为聚氯乙稀，聚氯乙稀包覆于所述吸盘的外端面上；柔性材质为具有防污、防指纹、防静电膜层，膜层包覆于所述吸盘的外端面上。本技术方案明显提高了吸笔的使用性能，改善电池片的电性能及外观，及提高自身在环境中的耐用时间，并且贴膜容易更换，并免于直接更换支吸笔，直接提高了经济效益，适合在产业上推广使用。该方法成本低，解决了PE生产过程中造成的吸笔印问题，大大地提高了PECVD工段的合格率，大大地降低了生产成本。

Description

一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法
技术领域
本发明涉及太阳能电池制造技术领域，更具体地说，涉及一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法。
背景技术
太阳能光伏电池是一种将太阳能转换为电能的半导体器件，其原理为光生伏打原理。在生产太阳能光伏电池的过程中，为了降低光线在硅片表面的反射，需要在晶硅表面利用PECVD技术沉积一层氮化硅减反射膜，以提高晶硅太阳能电池对光线的吸收从而达到提高太阳能电池的光电转换效率，同时沉积在硅片表面的氮化硅膜对晶硅太阳能电池也起到表面钝化和保护作用。因此，PECVD 镀膜是晶硅太阳能电池片生产过程中极为重要的一道工序。
太阳电池行业PECVD工艺过程中，经常因为吸笔问题而使片子在PECVD之后产生严重的吸笔印，严重影响电池片的外观。在晶硅太阳能电池片PECVD镀膜过程中，硅片是放在石墨舟当中放入PECVD管中进行镀膜。具体步骤为：1、用真空吸笔利用真空将硅片从花篮中抽出并插入石墨舟中；2、将装满硅片的石墨舟送入400℃高温PECVD管进行镀膜工艺；3、用真空吸笔将做完镀膜工艺的硅片从石墨舟中取出放入承载盒。太阳能电池行业PECVD工艺过程中，必须把片子从普通片夹或者花篮转移到石墨舟内，才能够进行相关工艺。现在一些厂家使用与PECVD设备相配套的自动上下片机，但是设备成本相当昂贵，所以大多厂家仍以手动装卸片为主，而手动装卸片必须用专业的吸笔将片子吸起再放进或取处石墨舟。现在通常使用的吸笔笔头都是由硬橡胶制成，吸片效果很好，但最大缺点是当吸笔使用一段时间之后笔头就会被严重磨损，这样一方面片子上会有杂质残留，影响电池的正常工艺，另一方面PECVD之后的片子会因为吸笔磨损而产生白色划痕，严重影响片子的外观。
由于传统吸笔笔头耐磨损能力弱，使用一段时间后吸笔笔头就变得很粗糙。然而电池片表面绒面非常小，极易破损，所以粗糙的笔头会对绒面造成非常大的伤害，会使得电池片产生很大漏电，并严重影响电池片外观，而且磨损的吸笔笔头会有颗粒状杂质产生，这种杂质附着在电池片表面也会影响后续工艺和电性能。
现行行业中吸笔印问题时常发生，但是没有得到足够重视，对于吸笔的使用也非常单一和被动，而实际上吸笔印会严重影响电池片的外观，会使电池片等级下降，严重影响经济效益。
发明内容
本发明的目的就是为了解决现有技术中存在的上述问题，提供一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，该方法可以彻底地解决吸笔印问题，从而极大地优化了电池片的外观，也能够一定程度上提高电池片的电性能。
本发明的目的将通过以下技术方案得以实现：一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，所述硅片吸笔包括吸盘和具有连通其外部与内部泄压孔的气体通道管，所述吸盘上设置有吸孔，所述方法包括以下步骤：在吸盘的外端面上设置有至少一层柔性材质。
优选地，所述柔性材质为聚氯乙稀，所述聚氯乙稀包覆于所述吸盘的外端面上。
优选地，所述柔性材质为具有防污、防指纹、防静电膜层，所述膜层包覆于所述吸盘的外端面上。
优选地，所述膜层厚度为0.5μm～2μm。
优选地，在所述吸盘的外侧还套设有用于可更换的防污软胶套。
优选地，所述防污软胶套的厚度为0.2mm～0.5mm。
优选地，所述柔性材质为铁氟龙保护层。
优选地，所述铁氟龙保护层的厚度为1μm～2μm。
优选地，所述柔性材质在吸盘外端面上形成光滑圆弧面。
优选地，所述吸孔为圆形或椭圆形。
本发明技术方案的优点主要体现在：与现有技术相比，本技术方案明显提高了吸笔的使用性能，改善电池片的电性能及外观，及提高自身在环境中的耐用时间，并且贴膜容易更换，并免于直接更换支吸笔，直接提高了经济效益，适合在产业上推广使用。该方法成本低，解决了PE生产过程中造成的吸笔印问题，大大地提高了PECVD工段的合格率，大大地降低了生产成本。
附图说明
图1是本发明硅片吸笔的整体结构示意图；
图2是本发明硅片吸笔的剖面图；
1---吸盘，2---气体通道管，3---吸孔，4---柔性材质。
具体实施方式
本发明的目的、优点和特点，将通过下面优选实施例的非限制性说明进行图示和解释。这些实施例仅是应用本发明技术方案的典型范例，凡采取等同替换或者等效变换而形成的技术方案，均落在本发明要求保护的范围之内。
本发明揭示了一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，如图1和图2所示，所述硅片吸笔包括吸盘1和具有连通其外部与内部泄压孔的气体通道管2，所述吸盘1上设置有吸孔3，所述吸孔为圆形或椭圆形，在本技术方案中，所述吸孔优选为圆形，所述吸孔的形状可根据具体的使用过程中做相应调整，本技术方案中不对所述吸孔的形状做具体地限定；所述方法包括以下步骤：在吸盘的外端面上设置有至少一层柔性材质4，所述柔性材质4在吸盘外端面上形成光滑圆弧面，避免了吸盘的外端面与硅片的刚性接触。所述柔性材质4为聚氯乙稀，所述聚氯乙稀包覆于所述吸盘的外端面上。
具体地，在本技术方案中，所述柔性材质4为具有防污、防指纹、防静电膜层，所述膜层包覆于所述吸盘的外端面上，所述膜层厚度为0.5μm～2μm。
所述柔性材质4还可为铁氟龙保护层，在本技术方案中，所述铁氟龙保护层的厚度为1μm～2μm，所述铁氟龙保护层在使用过程中对吸盘能够起到良好的保护作用，使得吸盘具有良好的抗酸抗碱性和抗溶剂性，延长吸盘的使用时间。其表面包覆的铁氟龙保护层的摩擦系数为0.2~0.4，表面涂覆膜层硬度适中，避免了吸盘与硅片的刚性接触，操作人员在进行硅片的插卸片时，吸笔头不会划伤硅片，提升了产品成品率和质量，且该方法操作简单，成本低廉，适合在产业上推广使用。
使用过程中，将真空吸盘的外端面上设置有至少一层柔性材质后，利用真空将硅片从花篮中抽出并插入石墨舟中；将装满硅片的石墨舟送入400℃高温PECVD管进行镀膜工艺后；用真空吸笔将做完镀膜工艺的硅片从石墨舟中取出放入承载盒。工作时，紧压气体通道管，堵住泄压孔，挤压气体通道管，然后将吸盘对准需要吸起的硅片，硅片即被硅片吸笔吸住，此时就可以将硅片放置于预定的位置，松开泄压孔，这就完成了对硅片的移动。
在所述吸盘的外侧还套设有用于可更换的防污软胶套，所述防污软胶套的厚度为0.2mm～0.5mm，所述防污软胶套的厚度为0.2～0.5mm，所述防污软胶套在实际使用过程中可更换。
本技术方案旨在解决传统吸笔头插卸片导致的吸笔印，通过使用该方法降低了生产成本，提高了工段合格率。与现有技术相比，本技术方案明显提高了吸笔的使用性能，改善电池片的电性能及外观，及提高自身在环境中的耐用时间，并且贴膜容易更换，并免于直接更换支吸笔，直接提高了经济效益，适合在产业上推广使用。
本发明尚有多种实施方式，凡采用等同变换或者等效变换而形成的所有技术方案，均落在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，所述硅片吸笔包括吸盘（1）和具有连通其外部与内部泄压孔的气体通道管（2），所述吸盘（1）上设置有吸孔（3），其特征在于：所述方法包括以下步骤：在吸盘的外端面上设置有至少一层柔性材质（4）。
2.根据权利要求1所述的一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，其特征在于：所述柔性材质（4）为聚氯乙稀，所述聚氯乙稀包覆于所述吸盘的外端面上。
3.根据权利要求1所述的一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，其特征在于：所述柔性材质（4）为具有防污、防指纹、防静电膜层，所述膜层包覆于所述吸盘的外端面上。
4.根据权利要求3所述的一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，其特征在于：所述膜层厚度为0.5μm～2μm。
5.根据权利要求1所述的一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，其特征在于：在所述吸盘的外侧还套设有用于可更换的防污软胶套。
6.根据权利要求5所述的一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，其特征在于：所述防污软胶套的厚度为0.2mm～0.5mm。
7.根据权利要求1所述的一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，其特征在于：所述柔性材质为铁氟龙保护层。
8.根据权利要求7所述的一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，其特征在于：所述铁氟龙保护层的厚度为1μm～2μm。
9.根据权利要求1所述的一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，其特征在于：所述柔性材质（4）在吸盘外端面上形成光滑圆弧面。
10.根据权利要求1所述的一种用于解决硅片吸笔的吸笔印方法，其特征在于：所述吸孔为圆形或椭圆形。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN203910775U (zh) * 2014-04-15 2014-10-29 宁夏银星能源股份有限公司 一种新型真空吸笔
CN205219093U (zh) * 2015-11-30 2016-05-11 广东星弛光电科技有限公司 一种防印迹吸笔
CN206574697U (zh) * 2016-12-30 2017-10-20 中建材浚鑫科技股份有限公司 可有效避免吸笔印现象的硅片吸笔

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN203910775U (zh) * 2014-04-15 2014-10-29 宁夏银星能源股份有限公司 一种新型真空吸笔
CN205219093U (zh) * 2015-11-30 2016-05-11 广东星弛光电科技有限公司 一种防印迹吸笔
CN206574697U (zh) * 2016-12-30 2017-10-20 中建材浚鑫科技股份有限公司 可有效避免吸笔印现象的硅片吸笔

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