CN108121077A - 一种高功率激光光斑均匀化装置 - Google Patents

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张俊祺
王文革
张奇
王阔传
刘浩
黄赜
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China Academy of Launch Vehicle Technology CALT
Beijing Aerospace Institute for Metrology and Measurement Technology
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    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements

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Abstract

一种高功率激光光斑均匀化装置，包括积分器入口3、基体A6、基体B7、基体C8、基体D9，其中基体A6、基体B7、基体C8、基体D9之间通过螺钉2共同组成一个长方体，长方体位于连接调节支架4上，在长方体水平位置开有积分器入口3；在基体C8、基体D9之间有冷却水流道A1，在基体C8、基体A6之间有冷却水流道C10，在基体B7、基体D9有冷却水流道B5。

Description

一种高功率激光光斑均匀化装置
技术领域
该技术属于光斑均匀化领域，具体涉及一种高功率激光光斑均匀化装置。
背景技术
在载人飞船以及返回式卫星等的热防护设计的研制、试验以及飞行中，以及民用领域的消防、能源、建筑节能等行业，均会使用大量的辐射热流传感器。为了确保这些辐射热流传感器测量量值准确，必须建立相应的热流标准及标准装置，其中最主要的装置为能够提供稳定、均匀的热辐射能量的辐射源。
通常，校准辐射热流传感器采用标准辐射源法，就是以黑体作为辐射热流标准，其原理是根据黑体辐射定律，通过理论计算将辐射热流值溯源至辐射源的温度值。但是，对于测量范围高于150W/cm2的大热流的辐射热流传感器，受黑体温度上限的限制(3500K左右)，目前采用高功率激光器作为热流源越来越广泛的校准。但是，激光器本身输出光斑均匀性较差，在校准过程中对结果影响很大。
本发明采用通道式积分器的方法，将高功率激光光斑引入积分器，多次反射匀质之后，在积分器出口处形成均匀光斑输出。通过本装置的研究，将其应用到高热流辐射热流传感器的校准中，应用效果良好。
发明内容
本发明的目的在于：提供一种高功率激光光斑均匀化装置，解决高功率激光热流光斑均匀性较差，影响校准结果的问题。
本发明的技术方案如下：一种高功率激光光斑均匀化装置，包括积分器入口、基体A、基体B、基体C、基体D，其中基体A、基体B、基体C、基体D之间共同组成一个长方体，长方体位于连接调节支架上，在长方体水平位置开有积分器入口；在基体C、基体D之间有冷却水流道A，在基体C、基体A之间有冷却水流道C，在基体B、基体D有冷却水流道B5。
其中基体A、基体B、基体C、基体D之间通过螺钉共同组成一个长方体。
基体A、基体B、基体C、基体D的材质为无氧铜，外表面镀镍层。
本发明的显著效果在于：将高功率激光光斑引入积分器，多次反射匀质之后，在积分器出口处形成均匀光斑输出。通过本装置的研究，将其应用到高热流辐射热流传感器的校准中，应用效果良好。
附图说明
图1为本发明所述的一种用于校准异型高温温度传感器的高温炉示意图
图中：1冷却水流道A、2螺钉、3积分器入口、4连接调节支架、5冷却水流道B、6基体A、7基体B、8基体C、9基体D。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步详细说明。
一种高功率激光光斑均匀化装置，包括积分器入口3、基体A6、基体B7、基体C8、基体D9，其中基体A6、基体B7、基体C8、基体D9之间通过螺钉2共同组成一个长方体，长方体位于连接调节支架4上，在长方体水平位置开有积分器入口3；在基体C8、基体D9之间有冷却水流道A1，在基体C8、基体A6之间有冷却水流道C10，在基体B7、基体D9有冷却水流道B5。
基体A6、基体B7、基体C8、基体D9的材质为无氧铜，外表面镀镍层。

Claims (3)

1.一种高功率激光光斑均匀化装置，其特征在于：包括积分器入口(3)、基体A(6)、基体B(7)、基体C(8)、基体D(9)，其中基体A(6)、基体B(7)、基体C(8)、基体D(9)之间共同组成一个长方体，长方体位于连接调节支架(4)上，在长方体水平位置开有积分器入口(3)；在基体C(8)、基体D(9)之间有冷却水流道A(1)，在基体C(8)、基体A(6)之间有冷却水流道C(10)，在基体B(7)、基体D(9)有冷却水流道B(5)。
2.根据权利要求1所述的一种高功率激光光斑均匀化装置，其特征在于：其中基体A(6)、基体B(7)、基体C(8)、基体D(9)之间通过螺钉(2)共同组成一个长方体。
3.根据权利要求1所述的一种高功率激光光斑均匀化装置，其特征在于：基体A(6)、基体B(7)、基体C(8)、基体D(9)的材质为无氧铜，外表面镀镍层。
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