CN108054131A - 柔性显示面板的制造方法及柔性显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及柔性显示面板技术领域，公开了一种柔性显示面板的制造方法及柔性显示面板。柔性显示面板的制造方法包括以下步骤：在基板上形成阳极层，阳极层包括若干个相互平行的阳极条；在阳极层上形成有机材料层；在有机材料层上形成阴极层，并加工处理阴极层形成若干隔离槽，隔离槽与阳极条的水平投影相交。在工艺制造中无需设置隔离柱来隔离阴极条，而是在阴极层上加工形成隔离槽以将阴极层分隔成若干分离的阴极条，由于未设置隔离柱，使得柔性显示面板可以承受反复多次的弯折，具有更长的使用寿命。

Description

柔性显示面板的制造方法及柔性显示面板
技术领域
本发明涉及柔性显示面板技术领域，尤其涉及一种柔性显示面板的制造方法及柔性显示面板。
背景技术
有机发光二极管(OLED,organic light-emitting diode)显示屏是一种新型的显示面板，与传统液晶显示面板相比，具有柔性易弯折等优点，具有广泛的应用市场。
OLED的发光原理是在阳极和阴极之间沉积非常薄的有机发光材料，对有机发光材料通以电流导致发光。OLED制成的柔性显示面板包括阴极层、有机材料层以及阳极层，阴极层上具有阴极条，阳极层具有阳极条，显示面板的制造步骤依次包括：在衬底上设置阳极层；在阳极层上设置隔离柱；在阳极层的隔离柱之间设置有机材料；光罩隔离柱并蒸镀阴极层，在隔离柱之间形成阴极条。由于隔离柱的隔离作用，蒸镀的阴极层直接形成多条并列的阴极条。
然而，由于隔离柱的轴线垂直于显示面板的延伸方向，因此，OLED显示屏经过反复多次弯折后，隔离柱容易断裂，导致OLED屏无法正常工作。
发明内容
为了解决上述问题，本发明提供柔性显示面板的制造方法及柔性显示面板，该柔性显示面板无需设置隔离柱，从而可以反复多次弯折，使用寿命较长。
为实现上述目的，本发明提供柔性显示面板的制造方法，所述方法包括以下步骤：
在基板上形成阳极层，所述阳极层包括若干个相互平行的阳极条；
在所述阳极层上形成有机材料层；
在所述有机材料层上形成阴极层，并加工处理所述阴极层形成若干隔离槽，以及若干由所述隔离槽分隔的阴极条；
其中，所述隔离槽与所述阳极条的水平投影相交。
上述的柔性显示面板的制造方法，优选所述隔离槽与所述阳极条的水平投影垂直。
上述的柔性显示面板的制造方法，优选加工处理所述阴极层的步骤包括：干法刻蚀所述阴极层以形成所述隔离槽与阴极条。
上述的柔性显示面板的制造方法，优选所述隔离槽的宽度为7微米至15微米。
上述的柔性显示面板的制造方法，优选所述阴极层的厚度为150纳米至200纳米，所述隔离槽贯穿所述阴极层。
上述的柔性显示面板的制造方法，优选所述阴极层为铝层、银层或镁银合金层。
同时，本发明提供的柔性显示面板包括：
基板；
阳极层，包括若干个形成在所述基板上且相互平行的阳极条；
有机材料层，所述有机材料层形成在所述阳极层上；
阴极层，包括若干个形成在有机材料层上且相互平行的阴极条，以及若干个隔离相邻两个阴极条的隔离槽；
其中，所述隔离槽与所述阳极条的水平投影相交。
上述的柔性显示面板，优选所述隔离槽与所述阳极条的水平投影垂直。
上述的柔性显示面板，优选所述隔离槽的宽度为7微米至15微米。
上述的柔性显示面板，优选所述阴极层的厚度为150纳米至200纳米，所述隔离槽贯穿所述阴极层。
与现有技术相比，本发明提供的柔性显示面板的制造方法，在工艺制造中无需设置隔离柱来隔离阴极条，而是在阴极层上加工形成隔离槽，以将阴极层分隔成若干分离的阴极条，基于这一制造方法产生的柔性显示面板，由于无需设置隔离柱，使得柔性显示面板可以承受反复多次的弯折，具有更长的使用寿命。此外，相比现有技术中利用隔离柱隔离阴极条的加工工艺，本发明的制造方法中蒸镀阴极层前无需对隔离柱进行掩膜，从而免去这一掩膜工艺，提高了生产效率。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1为本发明一示范性实施例中的柔性显示面板的制造方法的流程图；
图2为本发明一示范性实施例中的柔性显示面板的结构示意图；
图3为图2中柔性显示面板的俯视图。
附图标记：
100-柔性显示面板；10-阳极层；20-有机材料层；
30-阴极层；31-隔离槽；32-阴极条；40-基板。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明具体实施例及相应的附图对本发明技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的一种实施例中，提供了一种柔性显示面板的制造方法，如图1所示，该制备方法包括以下步骤：
S1：在基板上形成阳极层，阳极层包括若干个相互平行的阳极条；
S2：在阳极层上形成有机材料层；
S3：在有机材料层上设置阴极层，并加工处理阴极层形成若干隔离槽，以及若干由隔离槽分隔的阴极条；
其中，隔离槽与阳极条的水平投影相交。
现有技术中，在有机材料层20上设置阴极条32前，需要采用掩膜板遮蔽隔离柱后，在有机材料层20上蒸镀阴极层30，蒸镀完阴极层30后，又需将掩膜板取下，从而形成设置于隔离柱之间的阴极条32。采用隔离柱隔离阴极条32，需要利用掩膜板遮蔽隔离柱，掩膜工艺中还需要进行对位检验，工艺程序复杂。而且隔离柱在柔性显示面板100的多次反复弯折后，容易断裂导致显示屏无法正常工作。
本发明上述柔性显示面板制造过程中，无需在阳极层上设置用于分隔阴极层的隔离柱，而是直接在阳极层上设置完整的有机材料层和阴极层，再对阴极层加工形成隔离槽，以将阴极层分隔形成若干分离的阴极条。基于这一制造方法得到的柔性显示面板，由于无需设置隔离柱，提高了显示面板的柔性，使得柔性显示面板可以承受反复多次的弯折，具有更长的使用寿命。而且，这一制备方法，在蒸镀阴极层前，也无需对隔离柱进行掩膜(掩膜通常需要进行对位检测)，通过免除这一掩膜工艺，还可以提高生产效率。
上述步骤S1包括：在基板上蒸镀或印刷阳极层后，再对阳极层刻蚀处理形成若干个阳极条。其中，刻蚀处理即可以为湿法刻蚀，也可以为干法刻蚀，湿法刻蚀为采用化学液体实现的化学刻蚀。干法刻蚀可以为激光刻蚀或等离子刻蚀等物理方法。
上述步骤S2包括：在所述阳极层上通过蒸镀或印刷的方法形成有机材料层，实现在阳极层上覆涂有机材料层的目的。有机材料层为复合层，自阳极层向阴极层方向延伸，该有机材料层内依次包括：空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、可选的空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层等。
上述步骤S3包括：在所述有机材料层上蒸镀或印刷阴极层，并在阴极层上通过干法刻蚀的方法形成隔离槽与阴极条，且隔离槽与阳极条的水平投影相交，从而使得由隔离槽分隔的阴极条与阳极条的水平投影相交。其中水平投影是指光束以垂直于阳极层(有机材料层)的方向照射时，阴极条和隔离槽在阳极层(有机材料层)上所形成的投影，相交是指两者的水平投影存在交叉点。有机材料层设置于阳极层和阴极层之间，且阳极条和阴极条的水平投影相交，在具有阳极条、有机材料层和阴极条的位置上形成子像素点，从而在柔性显示面板上形成若干个可以相互独立的子像素点。
具体地，在实际应用中，隔离槽可以与阳极条的水平投影垂直相交，即阴极条与阳极条的水平投影相互垂直，从而形成的每一子像素点成矩形或方形。当然，隔离槽与阳极条的水平投影也可以不垂直，例如两者成80度的夹角，则阴极条与阳极条的水平投影成80度夹角，从而形成的每一子像素点可以成菱形。
上述柔性显示面板制造过程中，阴极层的厚度可以为150纳米至200纳米，隔离槽贯穿所述阴极层，例如阴极层的厚度为150纳米，则隔离槽的深度也为150纳米。其中，隔离槽的宽度可以为7微米至15微米。隔离槽的宽度和深度可以视具体需要而调整。例如，隔离槽的宽度可以为8微米、10微米或12微米。阴极层的厚度可以为160纳米、170纳米、180纳米或190纳米，则对应地，隔离槽的深度可以为160纳米、170纳米、180纳米或190纳米。
上述柔性显示面板制造过程中，阴极层可以是铝层、银层或镁银合金层。
同时，在本发明的第二种实施例中，提供了一种柔性显示面板100，如图2所示，该柔性显示面板包括基板40、阳极层10、有机材料层20和阴极层30。阳极层形成在基板40上，阳极层10具有若干个相互平行的阳极条。有机材料层20设置于阳极层10上。阴极层30设置于有机材料层20上，阴极层30包括若干相互平行的阴极条32和若干隔离相邻两个阴极条的隔离槽31。其中，隔离槽31与阳极条的水平投影相交，相交是指两者的水平投影存在交叉点。
在实际应用中，隔离槽31可以与阳极条的水平投影垂直相交，即阴极条32与阳极条的水平投影相互垂直，从而形成的每一子像素点成矩形或方形，如图2和3所示，阴极条32的延伸方向为纵向，则阳极条的延伸方向为横向。当然，隔离槽31与阳极条的水平投影也可以不垂直，例如两者成80度的夹角，则阴极条32与阳极条的水平投影成80度夹角，从而形成的每一子像素点可以成平行四边形。
上述柔性显示面板100中，鉴于在屏内不设置隔离阴极条32的隔离柱，而是采用隔离槽31实现隔离阴极条32的目的。
上述柔性显示面板100中，阴极层的厚度可以为150纳米至200纳米，隔离槽31贯穿所述阴极层30，例如阴极层30的厚度为150纳米，则隔离槽的深度也为150纳米。其中，隔离槽的宽度可以为7微米至15微米。隔离槽31的宽度和深度可以视具体需要而调整。例如，隔离槽31的宽度可以为8微米、10微米或12微米。阴极层30的厚度可以为160纳米、170纳米、180纳米或190纳米，则对应地，隔离槽31的深度可以为160纳米、170纳米、180纳米或190纳米。
上述柔性显示面板100中，自阳极层10向阴极层30方向延伸，该有机材料层20内依次包括：空穴注入层、空穴传输层、发光层、可选的空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层。有机材料层20的光透过阳极层10后可以从基板40射出。
本发明实施例中，采用隔离槽实现阴极条的隔离，工艺效率更高，且柔性显示面板可以多次反复弯折，使用寿命较长。
以上所述的具体实例，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种柔性显示面板的制造方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
在基板上形成阳极层，所述阳极层包括若干个相互平行的阳极条；
在所述阳极层上形成有机材料层；
在所述有机材料层上形成阴极层，并加工处理所述阴极层形成若干隔离槽，以及若干由所述隔离槽分隔的阴极条；
其中，所述隔离槽与所述阳极条的水平投影相交。
2.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制造方法，其特征在于，所述隔离槽与所述阳极条的水平投影垂直。
3.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制造方法，其特征在于，加工处理所述阴极层的步骤包括：干法刻蚀所述阴极层以形成所述隔离槽与阴极条。
4.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制造方法，其特征在于，所述隔离槽的宽度为7微米至15微米。
5.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制造方法，其特征在于，所述阴极层的厚度为150纳米至200纳米，所述隔离槽贯穿所述阴极层。
6.根据权利要求1所述的柔性显示面板的制造方法，其特征在于，所述阴极层为铝层、银层或镁银合金层。
7.一种柔性显示面板，其特征在于，所述柔性显示面板包括：
基板；
阳极层，包括若干个形成在所述基板上且相互平行的阳极条；
有机材料层，所述有机材料层形成在所述阳极层上；
阴极层，包括若干个形成在有机材料层上且相互平行的阴极条，以及若干个隔离相邻两个阴极条的隔离槽；
其中，所述隔离槽与所述阳极条的水平投影相交。
8.根据权利要求7所述的柔性显示面板，其特征在于，所述隔离槽与所述阳极条的水平投影垂直。
9.根据权利要求7所述的柔性显示面板，其特征在于，所述隔离槽的宽度为7微米至15微米。
10.根据权利要求7所述的柔性显示面板，其特征在于，所述阴极层的厚度为150纳米至200纳米，所述隔离槽贯穿所述阴极层。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109461762A (zh) * 2018-10-12 2019-03-12 云谷（固安）科技有限公司 柔性显示面板及其制作方法、显示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6117529A (en) * 1996-12-18 2000-09-12 Gunther Leising Organic electroluminescence devices and displays
CN1842925A (zh) * 2003-08-27 2006-10-04 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 有机电子装置的制造方法和有机电子装置
CN106450019A (zh) * 2016-11-11 2017-02-22 京东方科技集团股份有限公司 有机发光二极管阵列基板及制备方法、显示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6117529A (en) * 1996-12-18 2000-09-12 Gunther Leising Organic electroluminescence devices and displays
CN1842925A (zh) * 2003-08-27 2006-10-04 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 有机电子装置的制造方法和有机电子装置
CN106450019A (zh) * 2016-11-11 2017-02-22 京东方科技集团股份有限公司 有机发光二极管阵列基板及制备方法、显示装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109461762A (zh) * 2018-10-12 2019-03-12 云谷（固安）科技有限公司 柔性显示面板及其制作方法、显示装置

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